离子密度

随着高压直流输电线路的建成，环境安全监测变得愈发重要。&ldquo 离子流密度&rdquo 就是其中一项重要监测参数。在线路设计和建设中，需要将这些量控制在合理范围，以满足环境保护要求。直流导体电晕时，电离形成的离子在电场力的作用下，向空间运动形成离子流。地面单位面积截获的离子流称为离子流密度，单位：nA/m2 目前我国使用的标准为：DL/T 1089-2008 《直流换流站与线路合成场强、离子流密度测量方法》DL/T 1008-2008 《± 800kV特高压直流线路电磁环境参数限值》 ICD-1离子流密度检测系统，可以让用户轻松，准确的测量直流输电线路下的离子流密度，并严格遵循标准。检测系统由主机、标准1m× 1m Wilson平板（可选便携式0.4m× 0.4m威尔逊平板）、无线传输模块、操作系统（专用软件+笔记本电脑）四部分组成。 严格遵循标准测量要求●测量系统具有自动记录功能●可测量离子流密度大小和极性●采用平板式双面金属板（Wilson平板）来收集电荷来测量离子流密度，尺寸：1m× 1m●记录间隔时间可根据用户需要选择（最长３０ｓ）●可自动生成测量报告和图表，并保留原始测量数据●自动给出统计值，符合评价标准●主机与计算机的连接采用无线发射技术●高灵敏度主机，可在测量中解决背景干扰●内置可充电锂电池，为用户提供长久电力●可选量程范围，为用户提供方便测量选择 Wilson平板离子流采集板（威尔逊平板）用于截获空间离子电流。离子流采集板的面积应足够大，使其截获的离子电流较大，易于进行测量。根据国家标准要求采用1m× 1m双层金属板。也可采用较小面积的离子流采集板（0.4m× 0.4m可选），可以在一定区域布置较多的测量点，这在换流站的测量中尤为重要；离子流采集板采用双面铝板制作。采集板的上表面包括离子流采集面、绝缘带和屏蔽环。离子流采集板采用了国际最优化的比例设计，可使采集板的误差降至最低软件通过软件，可直观的看到每个监测点的状态，后台可同时将数据保存下来，通过纵坐标可以轻松分出线路极性；用户还可看到电晕放电具有随机性，离子流会随机波动。因此，在测量离子流密度时，需要一段连续的测量时间，以便获取足够的数据。离子流密度的连续测量时间应不小于30min，并记录100个数据。在离子流密度连续测量中，测量数据分散性较大，需要用累计概率的方法进行数据处理（统计值），其方法与处理地面合成场强数据时相同软件可根据用户需求直接生成报告，并在报告中直接标出统计场强值，用户还可将温湿度、风速等参数直接在软件中输入参数类别 参数 网络拓扑 星型 收发器无线信道 16个 收发器发射功率 25dbm 操作系统环境 Windows XP, 2000, NT, 98, 95 锂电池 12小时连续供电 阻抗： 10k&Omega 端口： BNC接头 电压补偿： 小于1毫伏 工作温度 -40℃~60℃ 体积： 15 cm x 9 cm x 5.5 cm 重量： 240g 类别参数测量范围0.001nA/m2 ~ 200nA /m2分辨率0.001准确度2.0% 数据显示 E95%、E90%（评价值）、 E80%、E50%（平均值）、 Edef（用户自定义） 响应时间0.1秒采样时间0.2秒显示刷新1秒屏幕显示大屏幕液晶显示偏移＜1mV无线网络传输距离2000米

高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料（强电介质层、贵金属、磁性膜等）的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。产品特性 / Product characteristics&bull 有磁场ICP（ISM）方式-可产生低圧・ 高密度plasma、为不挥发性材料加工的用设备。&bull 可提供对应从常温到高温（400º C）的层积膜整体刻蚀、硬掩膜去除的刻蚀解决方案。&bull 通过从腔体到排气line、DRP为止的均匀加热来防止沉积物。&bull 该设备采用可降低养护清洗并抑制partical产生的构造和材料及加热机构，是在不挥发性材料的刻蚀方面拥有丰富经验的量产装置。&bull 实现了长期的再现性、安定性产品应用 / Product application&bull FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.产品参数 / Product parameters1、公司介绍深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年，由武汉大学团队孵化，致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。公司主要业务如下:装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。设备服务:驻场或者 oncall，装备维护、保养、售后技术支持。厂务服务:驻场或者 oncall，人力服务及厂务二次配工程。经历五年高速发展，2023 年营业额达 3.2 亿，连年复合增长率达 300%，现处于稳定扩张期。2、成长历程&bull 2020年（公司成立年）&bull 2300万订单额2021年 7000万订单额2022年 2.5亿订单额2023年3.2亿订单额

Orion Proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统1、优越的填孔能力以及高沉积速率 Excellent gap-fill capacity and high deposition rate 2、独特的温度场和 ICP 电磁场设计保证了低温高致密的膜质表现 Unique thermal field and ICP Electromagnetic field design enhancing performance of the high-density film quality at low temperature 3、优化机台结构，缩小占地面积 Optimized system architecture with minimized foot print 4、友好的人机交互和安全性设计保障系统稳定、安全、高效 User-friendly interface and security designed to ensure the system stability, safety and efficiency技术参数1、晶圆尺寸 12 英寸2、适用材料 氧化硅3、适用工艺 浅沟槽隔离、金属间介质层、钝化层4、适用领域 新兴应用、集成电路