曝光模式: 接近式
产地类别: 进口
分辨率: 600nm
光源: GaN Laser Diode
光源波长: 405nm
光强均匀性: 5%
曝光面积: 200mm*200mm
看了无掩模光刻机/直写光刻机的用户又看了
Maximum Exposable Area:200*200mm2
Light Source: 405nm GaN Laser Diode
Maximum Write Speed:280mm2/min
Minimum Feature Size:600nm
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 无
免费培训: 免费安装及技术培训
免费仪器保养: 6个月一次。
保内维修承诺: 经确认质量问题,免费更换
报修承诺: 24小时内到达现场并开始维修
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