看了等离子体刻蚀设备的用户又看了
工艺灵活性
RIE蚀刻机SI 591 特别适用于氯基和氟基等离子蚀刻工艺
占地面积小且模块化程度高
SI 591 可配置为单个反应腔或作为片盒到片盒装载的多腔设备。
SENTECH控制软件
我们的等离子蚀刻设备包括用功能强大的用户友好软件与模拟图形用户界面，参数窗口，工艺窗口，数据记录和用户管理。
预真空室和计算机控制的等离子体刻蚀工艺条件，使得SI 591 具有优异的工艺再现性和等离子体蚀刻工艺灵活性。灵活性、模块性和占地面积小是SI 591的设计特点。样品直径大可达200mm，通过载片器加载。SI 591可以配置为穿墙式操作或具有更多选项的小占地面积操作。
位于顶部电极和反应腔体的更大诊断窗口可以轻易地容纳SENTECH激光干涉仪或OES和RGA系统。椭偏仪端口可用于SENTECH椭偏仪进行原位监测。
SI 591结合了计算机控制的RIE平行板电极设计的优点和预真空室系统。SI 591可配置用于各种材料的刻蚀。在SENTECH，我们提供不同级别的自动化程度，从真空片盒载片到一个工艺腔室或多六个工艺模块端口，可用于不同的蚀刻和沉积工艺模块组成多腔系统，目标是高灵活性或高产量。SI 591也可用作多腔系统中的一个工艺模块。
SI 591 compact
· 占地面积小的RIE等离子刻蚀
· 预真空室
· 卤素和氟基气体
· 适用于200mm的晶片
· 用于激光干涉仪和OES的诊断窗口
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 技术人员现场培训
免费仪器保养: 2个月1次
保内维修承诺: 软件免费重装，硬件维修
报修承诺: 24小时到达
等离子体刻蚀SI 591的工作原理介绍
等离子体刻蚀SI 591的使用方法?
SI 591多少钱一台?
等离子体刻蚀SI 591可以检测什么？
等离子体刻蚀SI 591使用的注意事项？
SI 591的说明书有吗？
等离子体刻蚀SI 591的操作规程有吗？
等离子体刻蚀SI 591报价含票含运吗？
SI 591有现货吗？
