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等离子辅助MOCVD技术
NMC-3000 MOCVD系统概述：
NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制，完全的安全互锁。
目前，这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统，该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。
NMC-3000 PAMOCVD系统应用：
III-V族半导体层
蓝光及绿光LED
激光二极管
在紫外-红外光电中的InN纳米棒
在3D和2D材料中的MoS2，BN和石墨烯沉积
NMC-3000 PAMOCVD系统特点：
台式系统
5个带独立冷却槽的起泡器
加热的气体管路
950 °C样品台，2”晶圆片
3个气体环
RF等离子源，带淋浴头气体分布
工艺完成后N2自动冲洗
极限真空5x10-7Torr
260 l/s的涡轮分子泵串接无油干泵
通过LabView软件实现PC计算机全自动控制
菜单驱动，4级密码访问控制
完整的安全联锁
NMC-3000 PAMOCVD系统 选配：
独立式系统
ICP或者微波等离子源
14”立方的电抛光不锈钢腔体
8”或者12”的基片夹具
700°C旋转基片夹具用于6”样品台，950°C用于4”样品台
增加鼓泡器和MFC
自动上下片
集群配置可兼容
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