等离子辅助MOCVD技术
NMC-4000（M）PAMOCVD系统概述：NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制，完全的安全互锁。
目前，这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统，该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。
NMC-4000（M）PAMOCVD系统应用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)
NMC-4000（M）PAMOCVD系统特点：
独立系统
14”不锈钢立方体腔体
1次在8”样品台上处理1个6”晶圆片或在12”样品台上处理5片4”片子
加热的气体管路
RF等离子源，自动调谐
淋浴头气体分布
1100°C的旋转样品台
N2冲洗
手动放置晶圆片
NMC-4000（M）PAMOCVD系统 Features：
Stand Alone System
14” Stainless Steel Cube Chamber
One 6” Wafer with 8” Platen or five 4” Wafers on 12” platen
Heated Gas Lines
RF Plasma Source with Auto Tuner
Shower Head Gas Distribution
1100 °C Platen, Rotating
N2 Flush
Manual wafer Loading and Unloading
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