IBE离子束刻蚀

NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。所有核心组件均为国际知名品牌。

NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀产品特点：

• 低成本

• 离子束：高达2KV/10mA

• 离子电流密度100-360uA/cm2

• 离子束直径：4",5",6"

• 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)

• 极限真空5x10-7Torr

• 260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵

• 14"不锈钢或铝质腔体

• 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)

• 自动上下载片（NIE-3500）

• 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

• 占地面积30"x30"

NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀产品应用：

• 表面清洗

• 表面处理

• 离子铣

• 带活性气体的离子束刻蚀

• 光栅刻蚀

• SiO2，Si和金属的深槽刻蚀

  
  

NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀Features：

• Low Cost

• Ion Beam: Up to 2KV/10mA  

• Ion Current Density 100-360 μA/cm2 

• Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”

• Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) 

• Base Pressure 5x10-7 Torr 

• 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump

• 14” SS or Al Chambers

• Water Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)

• Auto Load and Unload (NIE-3500)

• PC Controlled with LabVIEW Software

• Footprint 30”x30”

NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀Applications：

• Surface Cleaning 

• Surface Treatment 

• Ion Beam Milling

• Ion Beam Etching with Reactive Gases:
        Grating
        Deep Trenches on SiO2, Si and metals