NEE-4000 (A) 全自动电子束蒸发系统

电子束蒸发技术

NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统概述：

NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统有两种不同的构造可供选择。第一种为垂直紧连的双腔架构，其中主腔体是14英寸的立方体，其内有样品台，底部二级腔体则用于安置电子束源。这种构造可在两个腔体之间装有门阀互锁，可实现主腔体放取片过程保持电子束源和坩埚的真空状态。若需实现自动上下片，通过在主腔体左边增加带真空阀门的进样室即可。这样，主腔体可以持续保持10^-7托范围的低压，装片后几分钟内就可进行蒸镀。第二种构造为一个独立大腔体，基板上安装电子束蒸镀腔、磁控枪和热蒸镀。该构造可涂覆多种尺寸的晶圆，过程中使用行星运动的样品台。

NANO-MASTER公司可通过样片掩膜实现组合蒸镀，并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。

NEE-4000系统特点：

• 电抛光14"立方体或21"x21"x22"不锈钢优化蒸镀腔体
  

• 680 l/sec 涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
  

• 4x 15CC pocket电子枪
  

• 电子束源和基片遮板
  

• 6KW开关电源，杰出的消弧性能
  

• 自动Pocket索引以及可编程的扫描控制器
  

• 膜厚监测，可设置目标膜厚作为工艺终点条件
  

• 旋转样品台，提供高均匀性
  

• 带观察视窗的腔门，便于放片/取片
  

• PC全自动控制，具有高度的可重复性
  

• Labview软件的计算机全自动工艺控制控
  

• 多级密码保护的授权访问设计
  

• EMO保护以及完全的安全联锁

NEE-4000系统可选项:

• 基片加热(最高可到800℃)或冷却
  

• 带旋转的倾斜沉积
  

• 行星运动式基片夹具
  

• 基片RF/DC偏压
  

• 基片清洗的离子源以及离子辅助蒸镀
  

• 附加物理沉积源（热蒸镀，磁控溅射）
  

• 用于反应蒸镀的MFC
  

• 不同的泵组选择
  

• 进样室和自动上下片/可支持单片和25片片夹

NEE-4000系统应用:

• 剥离
  

• 光学涂覆
  

• 铜铟镓硒(CIGS)
  

• 约瑟夫森连接
  

• OLED