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磁控溅射技术
NSC-1000磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能，最大到6"旋转平台，最大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-1000带有10”派热克钟罩腔体，2个2”的磁控管，DC直流电源用于溅射金属，并带有膜厚监测仪(选配)。由于NSC-1000的空间有限，我们不能在NSC-1000系统上提供更多的电源和磁控管。我们可以提供我们的NSC-1000系统，用于SEM应用，也可以用于溅射金属到最大6”的晶圆片。
NSC-1000磁控溅射系统产品特点：
不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔
70l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
1KW DC直流电源
晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
带观察视窗的腔门易于上下载片
基于LabView软件的PC计算机控制
带密码保护功能的多级访问控制
完全的安全联锁功能
NSC-1000磁控溅射系统选配项：
Thickness Monitor 膜厚监测
NSC-1000磁控溅射系统应用：
SEM应用
溅射金属，最大到6"的晶圆片
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