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磁控溅射技术
NSC-3000（M）磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能，最大到6"旋转平台，最大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-3000带有12”派热克钟罩腔体，2个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，我们提供不锈钢腔体，260 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。
NSC-3000（M）磁控溅射系统产品特点：
不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃
70，250或500 l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
带观察视窗的腔门易于上下载片
基于LabView软件的PC计算机控制
带密码保护功能的多级访问控制
完全的安全联锁功能
NSC-3000（M）磁控溅射系统选配项：
不锈钢腔体
RF、DC溅射
RF或DC偏压（1000V）
样品台可加热到700°C
膜厚监测仪
基片的RF射频等离子清洗
预真空锁以及自动晶圆片上/下载片
NSC-3000（M）磁控溅射系统应用：
晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
光学以及ITO涂覆
带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
带RF射频等离子放电的反应溅射
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