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电子束蒸发技术
NEE-4000（M）电子束蒸发系统概述：NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，其中样品台位于主腔体内，二级腔体则用于安置电子束源。这种在两个腔体之间带有门阀的配置可以作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，实现基片通过主腔体放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。在需要自动装/卸载基片时，他可以通过第三方的预真空锁来实现，这可以设置于立方体的左侧。通过PC计算机控制，系统可以提供多电子束源的共蒸发能力，以及对组分或组分梯度进行编程的能力。
NEE-4000（M）电子束蒸发系统特点：
顺序蒸发或共蒸发
双电子束源
多凹槽电子枪
可编程电子束扫描
10KW开关电源
涡轮分子泵，极限真空5x10-7Torr
手动上下载片，带预真空锁
材料和衬垫更换非常方便
晶振式膜厚监测仪
通过LabView软件实现PC计算机控制
菜单驱动，四级访问密码保护
完全的安全联锁
NEE-4000（M）电子束蒸发系统Features：
Sequential or Co-Evaporation
Dual E-Beam Source
Multi-Pocket E-Gun
Programmable Beam Scan
10 KW Switching Power Supply
Turbomolecular Pump, 10-7Torr
Manual Load/Unload w/Load Lock
Easy Material and Liner Change
Crystal Thickness Monitor
PC Controlled with LabVIEW
Recipe Driven, Password Protected
Fully Safety Interlocked
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