纳米膜厚仪
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EM15

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  • 营业执照已审核
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核心参数

EM15纳米膜厚仪是基于量拓科技先进的椭偏测量原理,针对纳米薄膜的厚度常规测量推出的一款专用仪器。

EM15适用于测量块状材料基底上1-3层纳米薄膜的样品,可对其中的一层或两层薄膜厚同时进行测量。

EM15还可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k。

特点:

  • 非接触、非破坏性测量
    可对任何样品进行测量
  • 无需制备薄膜台阶
    不需要制作台阶,就可以测量纳米薄膜德厚度,大大简化了样品制作步骤。
  • 测量范围宽
    纳米薄膜的膜厚范围为1-2000纳米,可胜任常规的测量。
  • 快速测量
    3s内快速完成一次测量,可监测纳米膜层生长过程。

应用

  • EM15适合于科研和工业环境中的厚度的常规测量或质量控制。
  • EM15尤其适用于1-3层薄膜厚度测量,可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k,高级功能可扩展至同事测量纳米薄膜德膜厚和折射率。
  • EM15可应用的领域包括:微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。

技术指标

 

项目
技术指标
仪器型号
EM15
光源
激光器
膜厚测量重复性1)
0.5nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
折射率测量重复性1)
5x10-3 (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
单次测量时间
典型3s
探测光束直径
1-2nm
仪器重量(净重)
25kg
入射角度
40°-90°可手动调节,步进5°
样品方位调整
Z轴高度调节:±6.5mm
二维俯仰调节:±
样品对准:光学自准直和显微对准系统
样品台尺寸
平面样品直径可达Φ200mm
最大的膜层范围
透明薄膜可达4000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
最大外形尺寸
887 x 332 x 552mm (入射角为90º时)
配件
水平XY轴调节平移台
真空吸附泵
软件
1. 中英文界面可选;
2.多个预设项目供快捷操作使用;
3.单角度测量/多角度测量操作和数据拟合;
4.方便的数据显示、编辑和输出;
5.丰富的模型和材料数据库支持。
    注:(1)测量重复性:是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。

 

性能保证

  • 稳定的激光光源、高灵敏度先进的椭偏测量采样方法,保证了稳定性和准确度
  • 稳定的结构设计、可靠的样品方位对准,结合先进的采样技术,保证了快速、稳定测量
  • 高精度的光学自准直显微和望远系统,保证了快速、高精度的样品方位对准
  • 一体化集成式仪器整体设计,保证了系统稳定性,并节省空间
  • 一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库,方便用户使用
  • 量拓科技作为专业的高端椭偏仪器制造商,荣获国家“高新技术企业”、“ISO9001国际质量体系认证”、“中关村高新技术企业”、“海淀区创新企业”等资质,并获得“第五届北京发明创新大赛”金奖,以及入围“2011年度光伏行业十大创新设备供应商”等殊荣。

    13859MB 2012-12-28
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