ETInLineSys是根据镀膜机在线高精度测量要求，专门研发的椭偏测量系统，在此系统中，椭偏测量部件与镀膜机集成为一体。
ETInLineSys可用于真空热蒸发镀膜机、离子溅射镀膜机、原子层沉积镀膜机等多种原理的镀膜机。可在线测量光滑平面基底上的纳米薄膜，包括单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；并可测量块状材料的折射率n和消光系数k。
ETInLineSys融合量拓科技在高精度激光椭偏仪的先进设计技术和椭偏产品制造方面的经验，性能稳定、可靠。
特点:
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快速在线镀膜样品测量
可对样品进行快速在线监测，实时反馈镀膜的真实信息。
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系统可选的灵活配置
根据用户实际检测需求，可灵活选用激光椭偏仪、光谱椭偏仪部件等进行系统配置。
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原子层量级的膜厚分析精度
采用非接触、无破坏性的椭偏测量技术，对纳米薄膜达到极高的测量准确度和灵敏度，膜厚测量灵敏度可达到0.05nm。
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简单方便安全的仪器操作
用户利用专业测量软件可方便地进行实时监测，丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置。
应用:
ETInLineSys适合于多种镀膜机在线纳米薄膜的测量。
ETInLineSys可用于测量纳米薄膜样品上单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；
ETInLineSys可用于测量块状材料的折射率n及消光系数k；
ETInLineSys可应用于：
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真空离子蒸发镀膜机
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薄磁控溅射镀膜机量
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ALD原子层沉积镀膜机
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MBE分子束外延镀膜机
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PLD激光溅射沉积镀膜机
