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ETMapSys适合于高精度要求的大面积纳米薄膜研发和质量控制。
ETMapSys可用于测量大面积的纳米薄膜样品上单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；同时用于块状材料
ETMapSys可应用于：
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项目
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技术指标
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系统型号
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ETMapSys-PV
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结构类型
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在线式
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激光波长
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632.8nm (He-Ne laser)
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膜厚测量重复性（1）
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0.05nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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折射率n测量重复性（1）
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5x10-4 (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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结构
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PSCA
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激光光束直径
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~1 mm
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入射角度
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65°-75°可选
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样品放置
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放置方式：水平
运动：X轴单方向运动
运动范围：>1.4m
三维平移调节
二维俯仰调节
可对样品进行扫描测量
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样品台尺寸
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1.4m*1.1m，并可定制。
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测量速度
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典型0.6s-4s /点（取决于样品种类及测量设置）
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最大的膜层厚度测量范围
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粗糙表面样品：与绒面物理结构及材料性质相关
光滑平面样品：透明薄膜可达4000nm，吸收薄膜与材料性质相关
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选配件
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样品监视系统
自动样品上片系统
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