视频号
视频号
抖音号
抖音号
哔哩哔哩号
哔哩哔哩号
app
前沿资讯手机看

我要投稿

投稿请发送邮件至:weidy@instrument.com.cn

邮件标题请备注:投稿

联系电话:010-51654077-8129

二维码

我要投稿

投稿请发送邮件至:weidy@instrument.com.cn

邮件标题请备注:投稿

联系电话:010-51654077-8129

天数智芯“硅中介层及调整方法、芯片及封装方法”专利公布

分享到微信朋友圈

打开微信,点击底部的“发现”,

使用“扫一扫”即可将网页分享到朋友圈。

分享: 2024/08/16 17:54:01
导读: 上海天数智芯半导体有限公司研发出一种降低硅中介层信号损耗的专利技术,通过调整硅中介层中的金属层配置参数,减少预设第一金属层与第二金属层间形成的寄生电容,从而优化信号传输效率。

天眼查显示,上海天数智芯半导体有限公司“硅中介层及调整方法、芯片及封装方法”专利公布,申请公布日为2024年7月23日,申请公布号为CN118378588A。


背景技术

2.5D(2.5-Dimension,2.5维)封装技术会使用硅中介层,将晶粒设置在硅中介层上,硅中介层设置于基底上,晶粒通过硅中介层中互连线、金属层、硅通孔等与基底连接。然而,硅中介层为一种类三维结构,其内部的不同结构之间会形成等效电路,等效电路可能会影响信号的传输,使得信号的损耗增大。

目前,硅中介层所导致的信号损耗通常被忽略,而随着硅中介层尺寸的缩小和性能的提升,硅中介层已经严重影响芯片中信号的正常传输,因此,亟需降低硅中介层所产生的信号损耗。


发明内容


本申请实施例提供一种硅中介层及调整方法、芯片及封装方法,涉及芯片封装领域。硅中介层调整方法包括:获取包括硅中介层设计文件;所述硅中介层设计文件中包括预设第一金属层、预设第二金属层和预设电介质及各自的配置参数,所述预设第一金属层用于信号传输,所述预设第二金属层与所述预设第一金属层相对设置;所述预设第一金属层与预设第二金属层的相对的表面通过所述预设电介质隔开;调整目标参数以降低所述预设第一金属层、所述预设第二金属层之间形成的寄生电容的容值,得到目标硅中介层设计文件。通过降低寄生电容容值,降低信号通过金属层时的损耗。


[来源:仪器信息网] 未经授权不得转载

用户头像

作者:Jansky

总阅读量 11w+ 查看ta的文章

网友评论  0
为您推荐 精选资讯 最新资讯 新闻专题 更多推荐

版权与免责声明:

① 凡本网注明"来源:仪器信息网"的所有作品,版权均属于仪器信息网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品,应在授权范围内使用,并注明"来源:仪器信息网"。违者本网将追究相关法律责任。

② 本网凡注明"来源:xxx(非本网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,且不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用,必须保留本网注明的"稿件来源",并自负版权等法律责任。

③ 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起两周内与本网联系,否则视为默认仪器信息网有权转载。

使用积分打赏TA的文章

到积分加油站,赚取更多积分

谢谢您的赞赏,您的鼓励是我前进的动力~

打赏失败了~

评论成功+4积分

评论成功,积分获取达到限制

收藏成功
取消收藏成功
点赞成功
取消点赞成功

投票成功~

投票失败了~