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TRYMAX 等离子除胶机
型号:NEO系列
TRYMAX该公司主要提供半导体等离子清洗、去胶、活化设备。
Trymax目前拥有半自动、全自动系列设备供用户选择,目前已有上百台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统、微流体器件、SOI基片制造、先进封装、化合物半导体器件、功率器件和光电显示等领域。
一、设备工作原理
等离子体是物质的一种存在状态,该状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。
Trymax NEO Series就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频/微波电源在一定的真空条件下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。
二、Trymax NEO Series 应用
前道:Light Etching;Descum strip;PR Ashing;离子注入后,光刻后,镀膜前等工艺过程; 后道/先进封装/3D IC:Descum Bumping;MEMS;Plasma Treatment;Wafer Cleaning等。
NEO3400系列是Trymax半导体设备行业领先的NEO系列先进等离子灰化和蚀刻产品的最新成员之一。
它可以满足最高产量,适应每个生产阶段和预算。 NEO 3000系统可配置任何现有的Trymax NEO工艺模块,并与直径达300mm的基板兼容。小尺寸和模块化设计可根据您的需要灵活配置。
•特征
- 最大300毫米晶圆尺寸/基板尺寸
-3或4个装载端口
-4轴双臂机器人用横臂搬运
-2或4个处理室。
-4种不同的处理室技术:
•下游微波(2.45 GHz)
•射频偏压(13.56MHz)
•双源(微波,射频偏压)
•DCP(RF偏置,直接耦合等离子)
- 优异的均匀性和可重复性
- 机械吞吐量> 300wph
- 紧凑的足迹
- 非常低的拥有成本
- 完全数字控制,Devicenet以太网
- 基于窗口的工业计算机
•应用程序
- 阻挡条带
-Descum处理
- 去除聚合物
- 邮寄高剂量植入带
- 氮化硅蚀刻应用
-MEMS应用程序
- 先进的包装加工(PR,PI,BCB,PBO)
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NEO3400系列有现货吗?
企业名称
北京亚科晨旭科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105009081828
成立日期
2005-11-28
注册资本
500
经营范围
技术推广;市场调查;经济贸易咨询;展览服务;组织文化艺术交流活动(不含演出);货物进出口、技术进出口、代理进出口;销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品(不含危险化学品)。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)
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