关注
已关注
已认证
粉丝量 0
400-860-5168转4552
仪器信息网认证电话，请放心拨打
PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积
核心参数
产地类别： 进口
衬底尺寸： 6寸以内
工艺温度： 200以上
前驱体数： 2
重量： 90
尺寸(W x H x D)： 500*900
均匀性： 5%
PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积
ALD逐层沉积，在三维形貌沉积中保持高的均匀性，通过工艺过程中分步添加前置物，可以准确的控制膜厚和薄膜特性折射率和消光系数。PE-ALD是一种先进的方法，通过将自由基（radical）的气体样品，而不是水（沉积过程中作为氧化物oxidizer）。
ALD逐层沉积，在三维形貌沉积中保持高的均匀性，通过工艺过程中分步添加前置物，可以准确的控制膜厚和薄膜特性折射率和消光系数。PE-ALD是一种先进的方法，通过将自由基（radical）的气体样品，而不是水（沉积过程中作为氧化物oxidizer）。
第一台PE-ALD，目前已经安装在TU Braunschweig。用于沉积Al2O3 和ZnO。新的ALD系统，包括热和等离子体辅助工艺，并使用SENTECH的椭偏仪监控沉积。SENTECH提供前沿的超快在线的激光椭偏仪或光谱椭偏仪，监控薄膜的生长.
对于沉积Al2O3, TMA (C3H9Al) 和等离子体产生氧原子，衬底温度80?°C - 200?°C。PEALD薄膜具有高的膜厚均匀性和小的折射率变化。
更多
企业名称
北京亚科晨旭科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105009081828
成立日期
2005-11-28
注册资本
500
经营范围
技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
仪器信息网APP
展位手机站