2018/01/17 14:35
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产品配置单:
速普仪器【SuPro】ISC150 T高真空离子溅射仪
型号: ISC150 T
产地: 广东
品牌: 速普仪器
¥18万
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速普仪器【SuPro】小型磁控溅射镀膜仪ISC-150
型号: ISC-150
产地: 广东
品牌: 速普仪器
¥8万
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【SuPro】离子溅射仪/喷金仪 ISC150
型号: ISC150
产地: 广东
品牌: 速普仪器
¥8万
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速普仪器【SuPro】高真空磁控溅射仪ISC150T
型号: ISC150T
产地: 广东
品牌: 速普仪器
¥18万
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【速普仪器】电镜腔体原位等离子清洗仪RPS50
型号: RPS50
产地: 广东
品牌: 速普仪器
¥18万
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方案详情:
ISC150离子溅射仪升级版本,采用无油隔膜泵+分子泵获得高真空环境,保证样品喷金处理过程不会产生二次污染。特别适用于追求高分辨率FE-SEM样品的喷金喷铂喷碳,光电薄膜制备,电极材料制备及其他金属镀膜用途。
PRO版本离子溅射仪主要的特点就是“无油,高真空”,制备薄膜纯度更高,薄膜质量更优;并且能够在超净间内使用。
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等离子清洗仪处理TEM透射电镜样品清洗和活化
SEM/TEM电镜样品对于前处理有如下三点应用需求:1.等离子清洗;2.等离子活化;3.高真空存储。 针对扫描电镜领域,导电差的样品易于在场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和聚焦离子束扫描电子显微镜(FIB-SEM)中形成“积碳”的问题;以及在透射电镜领域,有机污染物影响高分辨成像及STEM成像产生“白框”碳污染的问题,可以通过RF射频离子源在样品放入扫描电镜或透射电镜观察表征之前,对样品进行真空等离子清洗的工艺来减轻甚至消除积碳影响。 离子清洗的工作原理为:RF射频离子源通入氧气后产生的等离子体被电磁场束缚于离子源内部;只有部分电中性的活性氧原子由于气压差的作用源源不断地被“挤压”进入到样品腔室内,与样品表面残留的有机污染物发生化学反应,生成CO2,CO,H2O并被真空泵组抽出;最终实现样品成像无积碳之目的,同时提高成像分辨率及衬度。 离子活化原理与离子清洗原理类似,RF射频离子源通入氧气后产生的等离子体被电磁场束缚于离子源内部。只有部分电中性的活性氧原子由于气压差的作用源源不断地被“挤压”进入到样品腔室内,与样品表面发生作用,提高表面能使之亲水(表面氧原子与水形成氢键,使后者有序平铺)。但样品的表面能量高,处于不稳定状态,故亲水效果不会维持太久(~几十分钟)。 高真空存储电镜样品及透射样品杆的原理为:真空泵组选用无油分子泵和无油隔膜泵,可以避免油污染的影响。并且由于采用分子泵+隔膜泵两级真空系统设计方案,系统能够实现高本底真空度,将样品表面残留气体及污染物抽走,避免样品前处理导致的二次污染问题。
半导体
2018/01/16
光电/MEMS/半导体薄膜应力表征解决方案
基于经典基片弯曲法Stoney公式测量原理,采用先进的激光扫描方式和探测技术,以及智能化的操作,使得FST5000薄膜应力仪特别适合于晶圆类光电薄膜样品的弓高、轮廓形貌、曲率半径和薄膜应力测量。
半导体
2021/06/02
SEM扫描电镜成像积碳清除解决方案
1. SEM电镜腔体等离子清洗; 2. 积木式TEM样品杆及样品等离子清洗; 3. XPS过渡舱内的样品等离子清洗; 4. 超高真空腔体等离子清洗处理;
半导体
2021/09/26
磁控溅射沉积扫描电镜SEM样品贵金属导电膜
采用磁控溅射手段,通过磁控阴极+专用直流电源方式对样品喷金处理,有较低的离子轰击损伤和温升效应;另外,包括原位等离子清洗源选配模块,能够实现样品表面有机污染物清洗和活化;此外,还有操作简单,触控面板界面,一键式操作等特点。
能源/新能源
2018/12/05