核心参数
产地类别: 国产
靶材材质: Au, Ag, Cu, Pt, Pd, Ir, Cr, Mo,C, etc.
靶材尺寸: φ50*0.1-3mm
控制方式: 自动控制
样品仓尺寸: φ150*110mm
样品台尺寸: >φ100mm
溅射气体: Ar or Air
其它参数
本离子溅射仪主要的特点就是“无油,高真空”,制备薄膜纯度更高,薄膜质量更优;并且能够在超净间内使用。
另外附加旋转/偏转选配模块,实现3D结构样品及空隙结构样品均匀镀膜喷金导电。
用户单位
采购时间
采购数量
北京工业大学
2019/01/17
1
南开大学
2019/06/19
1
成都职业技术学院
2019/08/09
1
中国石油大学(华东)
2019/09/09
1
上海科技大学
2019/11/05
1
中国工程物理研究院
2020/07/27
1
安徽工业大学
2020/11/11
1
中科院兰州化学物理所青岛研发中心
2020/12/08
1
南开大学
2020/12/15
1
海思光电子有限公司
2020/12/21
1
西安交通大学
2020/12/21
1
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SEM扫描电镜成像积碳清除解决方案
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半导体
2021/09/26
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TEM样品杆真空存储站作用效果讨论
若TEM样品杆长期暴露于大气,空气中水汽及残留污染物会附着于样品杆表面。当样品杆重新安装样品并插入TEM中时,会发生: 1.样品杆表面(包括杆内外表面)残存水汽缓慢地释放,大大延长了TEM抽真空时间(由于原位TEM样品杆内部结构复杂,内表面积大大增加,其进入TEM后抽真空延时现象尤甚); 2.残留污染物会污染待观察样品,甚至会污染TEM真空腔室及内部极靴、探测器等等。 从实用角度考虑,平时不用时,将样品及样品杆存放于真空存储站内;需要使用时,将样品杆从真空存储站内取出,固定好样品后即时插入TEM中。如此就能够保证样品杆与大气中水汽及污染物最大程度的隔绝,有效保证:1.TEM样品抽真空时间大大缩短;2.减少对TEM真空腔室及部件的污染。
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2020/02/05
贵金属电极材料/光电薄膜材料制备技术资料
ISC150离子溅射仪升级版本,采用无油隔膜泵+分子泵获得高真空环境,保证样品喷金处理过程不会产生二次污染。特别适用于追求高分辨率FE-SEM样品的喷金喷铂,光电薄膜制备,电极材料制备及其他金属镀膜用途。 150T版本离子溅射仪主要的特点就是“无油,高真空”,制备薄膜纯度更高,薄膜质量更优;并且能够在超净间内使用。
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2019/08/06
小型磁控溅射仪/离子溅射仪简介
目前市面上主流喷金仪产品,采用高电压二极直流溅射方式沉积薄膜,这种设计优点是结构简单,但是缺点是容易造成能量集中,对于样品有明显的温升效应的。 我司ISC150喷金仪采用磁控溅射手段,通过磁控阴极+专用直流电源方式对样品喷金处理,有较低的离子轰击损伤和温升效应;另外,我们的特点还有操作简单,触控面板界面,一键式操作。
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2018/12/05
企业名称
深圳市速普仪器有限公司
企业信息已认证
企业类型
民营企业
信用代码
440301106661469
成立日期
2012-11-05
注册资本
350
经营范围
一般经营项目是:等离子体应用技术及相关仪器设备、光机电仪器设备的研发、销售及技术服务,经营进出口业务(法律、行政法规、国务院决定禁止的项目除外,限制的项目须取得许可后方可经营),许可经营项目是:
深圳市速普仪器有限公司
公司地址
深圳市南山区桂庙路瑞峰创业中心二楼B区2009
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