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【速普仪器】电镜腔体原位等离子清洗仪RPS50

品牌: 速普仪器
产地: 广东
型号: RPS50
样本: 下载
报价: ¥18万
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核心参数

产地类别: 国产

产品介绍

其它参数

安装法兰:标配KF40(可非标定制法兰接口)
工作气压:0.3-2Pa
RF功率:5-50W,恒功率控制
气体模块:MFC气体质量流量控制器控制进气量
操作方式:触摸屏操作,一键式操控

电镜原位等离子清洗源RPS50概述

        RPS50 SEM扫描电镜清洗仪适用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物(有机污染物)的清洗。采用远程ICP 射频离子源清洗,高效、低等离子体轰击损伤。核心部件采用国际一线品牌,保证设备具有优异的质量与稳定可靠性。标配一路清洗气体流量控制器。触摸屏控制,即插即用。


现象描述:

       样品在电镜中长时间成像,或进行EDX成分分析过程中,可能会在测试区域形成“黑色方框”,这通常是由聚合物碳沉积引起。

成因分析:

       当高能电子撞击样品表面时,它们产生大量低能二次电子(SE)。SE由于其较低的速度而与环境污染物气体分子具有高得多的相互作用面。它们分解有机污染,并在成像区域周围造成“碳沉积”(碳氢化合物或烃)。当表面被薄层烃覆盖时,二次电子产率将降低。


负面影响:

       由于积碳影响,电子暴光区域将比周围的未曝光区域更暗,减少了电子显微镜图像中的材料对比度。研究表明,导电性越好,二次电子产额越高的样品,其发生碳沉积也越快。原因在于,对于这类观察样品,表面碰撞出SE越多,所以导致相互作用在表面生成的烃也越多越快。甚至随碳积影响,表面会累积电荷导致无法清晰成像。更有甚者,碳氢化合物污染严重的时候,可能会导致电子光学成像部件及探测器等污染,使电子束及成像漂移。

 

电镜原位等离子清洗源RPS50清洗原理  

       RF射频离子源通入氧气后产生的等离子体被电磁场束缚于离子源内部, O活性自由基与SEM腔室内碳氢化合物反应生成CO2,CO及H2O等被真空机组抽走,最终实现SEM腔室/样品积碳清洗之目的,同时提高SEM成像分辨率及衬度,缩短电镜抽真空时间。


电镜原位等离子清洗源RPS50清洗效果






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售后服务
保修期: 1年
是否可延长保修期:
现场技术咨询:
免费培训: 5人次以内培训
免费仪器保养: 6个月一次
保内维修承诺: 免费维修更换零件
报修承诺: 24小时到达现场并维修
典型用户

用户单位

采购时间

采购数量

东南大学

2021/06/21

1

中科院物理所

2021/06/25

1

国家电网

2021/07/14

1

SEJIN TECHNOLOGY(South Korea)

2021/08/18

1

北京至格科技有限公司

2021/07/20

1

株洲钻石切削刀具股份有限公司

2021/09/08

1

深圳大学

2021/09/02

1

东莞理工大学

2021/09/02

1

中科院金属所

2021/01/06

1

中国计量科学研究院

2021/02/26

1

聚束科技有限公司

2021/03/02

1

辽宁奥集利科技有限公司

2021/03/16

1

深圳信息职业技术学院

2021/06/02

1

卡尔蔡司ZEISS

2021/07/30

2

问商家

速普仪器电镜附件RPS50的工作原理介绍

电镜附件RPS50的使用方法?

速普仪器RPS50多少钱一台?

电镜附件RPS50可以检测什么?

电镜附件RPS50使用的注意事项?

速普仪器RPS50的说明书有吗?

速普仪器电镜附件RPS50的操作规程有吗?

速普仪器电镜附件RPS50报价含票含运吗?

速普仪器RPS50有现货吗?

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2021/09/26

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现象描述: 样品在电镜中长时间成像,或进行EDX成分分析过程中,可能会在测试区域形成“黑色方框”,这通常是由聚合物碳沉积引起。 成因分析: 当高能电子撞击样品表面时,它们产生大量低能二次电子(SE)。SE由于其较低的速度而与环境污染物气体分子具有高得多的相互作用面。它们分解有机污染,并在成像区域周围造成“碳沉积”(碳氢化合物或烃)。当表面被薄层烃覆盖时,二次电子产率将降低。 负面影响: 由于积碳影响,电子暴光区域将比周围的未曝光区域更暗,减少了电子显微镜图像中的材料对比度。研究表明,导电性越好,二次电子产额越高的样品,其发生碳沉积也越快。原因在于,对于这类观察样品,表面碰撞出SE越多,所以导致相互作用在表面生成的烃也越多越快。甚至随碳积影响,表面会累积电荷导致无法清晰成像。更有甚者,碳氢化合物污染严重的时候,可能会导致电子光学成像部件及探测器等污染,使电子束及成像漂移。 RPS50 SEM扫描电镜原位等离子清洗仪适用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗及样品积碳清洗。采用远程RF射频离子源清洗,高效、低等离子体轰击损伤。核心部件采用国际一流品牌,保证设备具有优异的质量与稳定可靠性。 RF射频离子源通入氧气后产生的等离子体被电磁场束缚于离子源内部, O活性自由基与SEM腔室内碳氢化合物反应生成CO2,CO及H2O等被真空机组抽走,最终实现SEM腔室/样品积碳清洗之目的,同时提高SEM成像分辨率及衬度,缩短电镜抽真空时间。

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2018/01/16

工商信息

企业名称

深圳市速普仪器有限公司

企业信息已认证

企业类型

民营企业

信用代码

440301106661469

成立日期

2012-11-05

注册资本

350

经营范围

一般经营项目是:等离子体应用技术及相关仪器设备、光机电仪器设备的研发、销售及技术服务,经营进出口业务(法律、行政法规、国务院决定禁止的项目除外,限制的项目须取得许可后方可经营),许可经营项目是:

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