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杜邦™Posistrip®
EKC800™系列
光刻胶剂
用于正光刻胶去除
产品描述
杜邦™Posistrip®光抗蚀剂是有机混合物
专门用于去除正光刻胶
微电子工业中使用的基板表面。
配制以满足广泛的工艺要求，
Posistrip®产品从轻度侵袭非碱性
从敏感金属中去除光刻胶的化学方法
层或衬底，如GaAs，非常腐蚀性碱性
去除极硬化光刻胶的化学方法。
这些水可冲洗配方允许用户完成
光刻胶去除过程中所含化学成分较少且较低
拥有成本(CoO)。这些产品金属离子含量低，
对敏感金属无腐蚀性，不含酚或
氯化溶剂。Posistrip®产品兼容
自动设备，便于从手动转换
潮湿的站点环境。
DuPont™Posistrip®EKC800™系列光刻胶
消毒剂包括:
Posistrip®EKC800™
设计用于去除已经历过的正光刻胶
具有正常热历史的标准加工。
Posistrip®EKC830™
设计用于有效去除所产生的正光刻胶
从粗糙的前期处理中难以去除。
Posistrip®EKC865™
专门用于防止敏感金属的攻击。
去除正光刻胶与正常热历史
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企业名称
德国韦氏纳米系统（香港）有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
成立日期
2015-08-13
注册资本
500
经营范围
德国韦氏纳米系统有限公司
公司地址
香港九龍尖沙咀漆咸道南45-51號
客服电话
公司名称： 德国韦氏纳米系统有限公司
公司地址： 香港九龍尖沙咀漆咸道南45-51號 联系人： Amy zhou 邮编： 999077 联系电话： 400-860-5168转3855
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