全自动紫外曝光系统

OAI 超过35年的历史

按照您的具体规格设计和制造紫外线仪器和曝光系统在世界范围内亨有声誉

无论复杂还是简单，OAI都有最聪明的解决方案。

6000 型建立在经过验证的 OAI 模块化平台上，具有完全自动化的正面和背面对准，具有亚微米印刷功能以及亚微米从上到下的正面对准精度，可提供任何价格都无法比拟的性能。选择顶部或可选的背面对齐，使用 OAI 定制的高级识别模式软件。这些掩模对准器采用 OAI 的先进光束光学器件，均匀性优于 ±3%，在第一掩模模式下每小时可处理 200 片晶圆，从而实现更高的良率。6000 系列可以处理各种晶圆，包括厚的粘合基板（最大 7000 微米）、翘曲晶圆（最大 7 毫米 - 10 毫米）、薄基板（最小 100 微米厚）和厚光刻胶。OAI 的增强型模式识别软件具有 +/- 0.5 微米的顶部对准，可提供可靠的可重复结果。对于背面对准，6000 型掩模对准机具有稳定的光学系统、长距离显微镜和先进的自动对准软件，可提供最可重复的正面到背面对准精度。6000 系列具有卓越的工艺重复性，是所有生产环境的完美解决方案。对于整个光刻工艺，Model 6000 可以与集群工具和 OAI 的自动掩模更换器无缝集成。OAI 的生产掩模对准器是完整的套件，也可配备 UV LED 光源。

标准正面功能：

• 双100万像素分辨率CCD相机
  

• 最大8英寸的基板，掩膜尺寸9' X 9''

• Windows PC 控制，带配方储存功能
  

• 调整和定位的电动操纵杆

• 曝光模式：真空、硬软接触和接近模式

• 自动楔形效应补偿

标准背面功能：

• 包含正面所有功能

• 另外2个CCD相机

• 数码变焦

• 电动背面光学对焦