进口纳米狭缝涂布机 高性能槽模涂层研发系统
型号:nRad
该仪器为小型研究纳米材料的狭缝涂布提供了高效高精度的试验机台,机台尺寸小。
“狭缝涂布精密成膜装备系统”是一个高端先进制造业项目,其成膜技术可在玻璃、塑料、不锈钢等基体上精确涂布制备功能纳米、微米薄膜,在许多光电领域,如平板显示、触摸屏、薄膜太阳能电池、半导体元器件及封装、柔性及印制电子、智能玻璃等,有着非常广泛的应用。
特点:
高效的材料利用率和最少的浪费
基于槽模的沉积技术
涂布厚度范围:从20nm到100μm
均匀度为 ±3%,
效率高/材料利用率高:材料利用率可达95%
从研发到小批量试制、大量生产满足不同需求
支持各种基材(刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片)
适用于各种应用(平板显示器、触摸屏、光伏(薄膜和硅)、柔性电子产品、光学薄膜)
研发体系中无与伦比的性能和价值
专有设计在小型封装中提供可靠的性能
简单而灵活的设计和操作,能够为各种应用沉积各种材料
紧凑型系统与大多数标准手套箱和实验室台面兼容
全自动涂层工艺通过配方可编程参数控制
线性伺服电机驱动的空气轴承级确保平稳运行和准确的涂层
用户友好的控制与板载触摸屏和基于PC的软件
极低的填充量非常适合测试小样本材料
可编程涂层间隙(微米分辨率)测量并调整每个处理的基板
可编程的引发步骤,以在沉积在基板上之前立即建立涂层珠
流程优势
槽模涂布技术使涂布液的利用率最大化,而不会产生与替代方法相关的浪费
有效利用材料可最大限度地减少对环境的影响和处置
该过程适用于开发应用程序,可扩展到更大的生产规模
精确,可编程控制涂层间隙和模具运动轮廓,提供高度均匀的涂层和出色的涂层边缘轮廓控制
有效可调涂布速度0-2m / min
技术参数:
基板尺寸:标准150mm 最大值210-300mm 150或200mm晶圆选项
基板类型:玻璃、塑料、金属箔、硅片 刚性或柔韧性
涂层厚度范围:20nm to 100um
涂层均匀性:对于超过150nm的薄膜,±3%或更好,对于50和150nm的薄膜,±5%或更好
涂料粘度范围:标准1至70 cp
设备尺寸: L: 911mm W: 578mm H:645mm
设备重量:170千克/ 380ibs
涂覆机nRad的工作原理介绍
涂覆机nRad的使用方法?
nRad多少钱一台?
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MC方案:评估生物分子层厚度
引入WLRS用于测量各层的厚度,评价生物分子固定在固体表面上的有效性及其与相应生物分子的后续反应。特别研究了兔(RgG)和小鼠γ-球蛋白(MgG)的吸附及其与互补抗体的反应。通过配备有0.35nm光学分辨率的VIS-NIR光谱仪和白光卤素灯的FR-Basic进行测量。基板是厚度约为1000nm的热生长SiO2薄膜的硅晶片。
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2020/03/09
MC方案:用于MEMS应用的悬浮式活性硅膜厚度测量
硅基传感器因其高性能、低成本和小尺寸而广泛应用于不同的微机电系统。悬挂在图案化硅膜或基于硅绝缘体的传感器上的活性硅层的厚度确定对于最终平台[1]的性能控制至关重要。在这里,我们已经在一个微机电系统压力传感器上测量了这样的薄膜厚度,使用的是一个孔径为250μm的FR-μ探针工具,该工具安装在一个徕卡分模光学显微镜上。使用10X物镜进行测量,该物镜与选定的孔径大小一起对应于25μm的光斑大小(测量区域)。
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2020/03/10
MC方案:薄和超薄金属薄膜的厚度测量
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2020/03/10
MC方案:精确的非接触式在线PET薄膜厚度测量
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半导体
2020/03/10
企业名称
迈可诺技术有限公司
企业信息已认证
企业类型
民营
信用代码
39982968-000-11-23-9
成立日期
2008-02-21
注册资本
139万
经营范围
通讯电子产品、机械自动化产品、半导体产品、计算机信息技术产品研发、销售及技术服务
迈可诺技术有限公司
公司地址
武汉市洪山区
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