帕克重磅推出强大的新型半导体工具“Park NX-Hybrid WLI”

帕克原子力显微镜公司（Park Systems，以下称：帕克）为满足半导体客户对大面积扫描和纳米级计量日益增长的需求，最新推出了Park NX-Hybrid WLI半导体机台，可为用户提供全面的计量解决方案。此机台不仅可实现亚埃米级的高精度微观形貌测量，同时在成像时还具有测量区域大、吞吐量高的优点。

Park NX-Hybrid WLI半导体机台，作为一种功能强大的半导体计量工具，首次将原子力显微镜 (AFM) 与白光干涉仪 (WLI) 轮廓测量技术二者的核心优势整合为一个最佳系统。其中， 白光干涉测量 (WLI) 是一种无损伤、非接触式的光学技术，用于生成高保真的2D 和 3D 的轮廓模型，现已成为半导体生产质量保证。然而，单独的 WLI 已经不能满足特定的需要，应运而生的Park NX-Hybrid WLI适用于更高分辨率和精确度的应用，例如高级化学机械抛光 (CMP) 计量和监测、凹陷、腐蚀和边缘过度腐蚀 (EOE) ，膜厚，柱高，孔结构和模具比较。除此之外，它还能应用于包括硅通孔 (TSV) 、微凸点测量重分布层 (RDL) 测量和光刻胶残留检测在内的高级封装。

△Park NX-Hybrid WLI

与传统独立的WLI和AFM系统不同，Park NX-Hybrid WLI以无缝衔接的方式实现了更多功能，并以极低的成本创建了一个完整的集成工具，将两种工具安装在同一个支架上并由一个 EFEM 馈送，该系统创建了完全集成和可交换的数据，减少了晶圆厂占地面积并提高了更大面积的吞吐量。在这个整合的系统中，基于Park NX-Wafer而成的Park AFM，是业界领先的半导体及相关设备的自动化原子力显微镜系统，它能够进行线上生产质量保证和研发。组合而成的AFM/WLI系统，使用 WLI模块能够在超广的区域提供高通量成像，并使用AFM在需要的区域提供亚埃高度分辨率的纳米级计量。其中“热点检测”技术能快速定位高分辨率AFM的缺陷位置。此系统可以使用该技术比较和参考目标样本区域的图像来检测图案结构的缺陷。

Park WLI 模块支持白光干涉测量 (WLI) 和相移干涉测量 (PSI) 模式。PSI 模式通过电动滤光片更换器启用，两个物镜可以由电动镜头自动更换，支持 2.5倍、10倍、20倍、50倍的物镜放大倍率，并具有 100x CMOS 的相机功能。

Park NX-Hybrid WLI 糅合了两种互补的技术，是一个全面综合性自动化计量系统。与两个独立的系统相比，该系统可有效节约成本。

目前推出的新款Park NX-Hybrid机台，是帕克公司今年计划推出的一系列混合计量产品的一部分，用以提高和改善原子力显微镜在各大工业和学术研究应用中的利用率。

关于帕克公司

韩国帕克股份有限公司(Park)成立于1988年，是全球第一个推出商业原子力显微镜产品的上市公司。Park成立30多年来，始终致力于纳米领域的形貌&力学测量和半导体新技术新产品的开发。Park采用XY和Z轴分离的平板式扫描器，加上独家的真正非接触模式，可避免形貌扫描过程中因探针磨损带来的图像失真和数据不一致问题；快速成像技术还可以大大提高测试效率，降低实验测试成本。

Park成立至今，致力于新产品和新技术的开发，为客户解决各种技术难题，提供最完善的解决方案。Park的原子力显微镜以高尖端产品质量和快捷优质的售后服务受到广大客户的认可。为了给客户提供高效便捷的售后服务， 韩国帕克股份有限公司北京代表处建立有售后服务中心并配有备件仓库。