NanoMaster SWC-4000型CMP后清洗机

 ? 产品简介
        SWC-4000型CMP后清洗机是美国NANO MASTER公司开发的一款科研级的高端清洗系统，用于去除晶圆在CMP工艺后晶圆表面污染物、残留物、或微尘颗粒等。该系统集成了美国NANO MASTER公司无损DI水兆声清洗专利技术，配合四路的化学试剂清洗，PVA刷洗以及带异丙醇的高速甩干等清洗模块，对于单片清洗而言具有顶级的基底清洗能力，是科研CMP后清洗机的首选仪器。

? 技术特色

• 兼容4,6,8,12寸片晶圆，同时可用于最大7”X 7”掩膜版清洗。

•    干进干出或湿进干出。

•    集成了专利的无损兆声清洗技术，同时支持去离子水冲洗、化学试剂清洗、PVA刷子刷洗、红外灯烘干/氮气吹扫甩干清洗模块。

•    配置4路化学容器罐，可支持4路化学清洗液进行清洗。

•    两种干燥模式：高速甩干与红外烘干，可同时使用。

•    用户可编程的清洗干燥工序，比如：

  Cycle I：化学试剂清洗

  Cycle II：去离子水冲洗

  Cycle III：刷子刷洗

  Cycle IV：兆声去离子水清洗

  Cycle V：旋转甩干，氮气吹扫及红外灯烘干

  每一套程序可以支持 20 个操作步骤。

•    可以存储多达 25 套产品程序。

•    结构紧凑，集成度高：把所有的清洗需要集成到一个紧凑的立柜中 ，旋转清洗单元、兆声脉冲射流清洗器、试剂容器以及所有的阀及传感器 都全部包含到该系统。

•    带触摸屏的PLC控制。

? 主要技术参数

        ?应用

• Post CMP Wafer Cleaning

• Patterned and Un-patterned Masks and Wafers

• Ge, GaAs and InP Wafer Cleaning

• Cleaning of Diced Chips on Wafer Frame

• Cleaning after Plasma Etch or Photoresist

• Stripping

• Mask Blanks or Contact Mask Cleaning

• Cleaning of X-ray and EUV Masks

• Optical Lens Cleaning

• Cleaning of ITO Coated Display Panels

• Megasonic Assisted Lift-off Process