在半导体制程工艺中，刻蚀（Etch）是指将晶圆上没有被光刻胶覆盖或保护的部分，以化学反应或物理作用的形式加以去除，完成将图形转移到晶圆片表面上的工艺过程。刻蚀分为湿刻蚀（Wet Etching）和干刻蚀（Dry Etching）。干刻蚀则泛指采用气体进行刻蚀的所有工艺，即在晶圆上叠加光刻胶或金属掩模后，将其裸露于刻蚀气体中的工艺。干法刻蚀分为三种：PE等离子体刻蚀、IBE离子束刻蚀和RIE反应离子体刻蚀。

某浙江真空技术企业，专业制造各类超高真空阀门, 对标世界著名阀门品牌 VAT 和 世伟洛克。超高真空阀门在各类超高真空的应用非常广泛, 但在使用过程中，也要注意阀门泄漏造成的损失。客户以前用的是岛津的 MSE-2402, 最近产能扩线后，客户比较了几家进口检漏仪，几家国产检漏仪的参数性能等等。最后选择德国Pfeiffer的ASM 340这一款检漏仪

加速器按工作原理分为静电加速器、高压倍加器、感应加速器、回旋加速器、稳相加速器、同步加速器、直线加速器、重离子加速器和贮存加速器（离子对撞机）. 各种加速器的工作原理各不相同, 但结构都包含一些基本结构：真空室、真空系统、离子源、加速系统等. 上海伯东某客户在开发重离子加速器用于医疗行业, 要求系统真空度不低于 1E-5Pa. 经过和客户详细交流和选型, 推荐客户采用上海伯东普发涡轮分子泵 Hipace 700 DN 160 CF-F 来保证系统的工作真空度在 1E-5Pa.

真空炉, 即在炉腔这一特定空间内利用真空系统将炉腔内部分物质排出, 使炉腔内压强小于一个标准大气压, 炉腔内空间从而实现负空状态. 上海伯东某科研客户研究方向是特种高温合金, 材料需要在1000℃的环境进行熔合, 在这个温度下空气会影响金属原料熔合的品质, 客户考虑用分子泵来保证炉子的真空度不低于 1E-4Pa, 经过多次技术交流, 客户选择上海伯东 Pfeiffer Hicube 80 classic 分子泵组搭配全量程真空规 PKR 251 来解决需求. 该中型分子泵组在科研、小型工业生产领域应用广泛.

造纸工业是我国的基础工业之一, 国内纸浆造纸企业数量大, 分布广, 旧的造纸机传动系统多采用直流电动机带动各传动辊轴的传动方式, 可做到无级调速, 但由于碳刷的存在使维护相当麻烦. 目前市场上的真空泵广泛用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业, 但是, 对于造纸用真空泵来说, 由于在使用时可能因真空泵的工作造成较大的振动, 影响了工作环境质量；且在进行安装时, 不利于进行安装, 造成操作的不便, 降低了安装效率. 因此, 针对上述问题, 上海伯东代理 pfeiffer 双级旋片泵 DuoVane抽速快, 体积小, 重量轻, 噪声低, 维修方便, 极限真空度高等优点, 符合造纸用真空泵的要求.

上海伯东某科研客户需要搭配一套低温阻抗测试系统, 系统在充入低温气体前，需要把腔体真空度抽至1E-3Pa，系统腔体体积为10L左右, 并稳定在这个真空度保持30min。经过计算，推荐老师采用Hipace 80 分子泵搭配MVP 015-2隔膜泵的分子泵组Hicube 80 Eco，这套分子泵组可以保证系统真空度不低于1E-3Pa。

分子束外延 MBE 与扫描隧道显微镜 STM 联用: 可以成功分析 MBE 生长晶体表面结构, 这种联用现已广泛应用于各大院校和研究院应用表面物理实验中. 分子束外延 MBE 与扫描隧道显微镜 STM 系统都需要在超高真空环境中进行, 对真空度要求及其高, 需要伯东 Pfeiffer 真空泵系列分子泵低振动, 低噪音, 清洁无油确保超高真空的稳定性已保证晶格的生长和后期的探测分析.

某真空系统集成商搭建的MBE设备, 由用户方采购 Pfeiffer 真空泵 HiPace 系列涡轮分子泵和 ACP干泵用于分子束外延系统,

科研单位做元素分析测定和一般小型钢件的淬火/ 退火/ 回火和电子陶瓷等新材料的加热都会用真空管式炉. 一般常规使用机械泵: 10-2Torr, 如果客户要达到高真空会使用分子泵机组: 机组的真空度要求为10-5 Torr.

伯东 Pfeiffer 真空泵及真空计等多种真空设备. 伯东 Pfeiffer 真空泵ACP 40作为前级干泵, 用于提供抽速动力, 干净/ 抽速大/ 无污染. 伯东 Pfeiffer 真空泵 Hipace 1200是用于提升真空度, 抽速大, 极限真空能满足深度制冷需求.

同位素比质谱分析原理为首先将样品转化为气态, 在离子源中将气体分子离子化, 接着将离子化气体打入飞行管中. 在飞行管末端通过法拉第收集器来测试不同带电粒子从而测量出来.同位素比质谱分析原理为首先将样品转化为气态, 在离子源中将气体分子离子化, 接着将离子化气体打入飞行管中. 在飞行管末端通过法拉第收集器来测试不同带电粒子从而测量出来. 赛默飞同位素比质谱分析上含有多种伯东 Pfeiffer 真空泵, 如前级泵为3台旋片泵 DUO系列油泵, 分子泵为 Hipace 系列两个.

伯东 Pfeiffer 真空泵 HiPace 80 应用于磁控离子溅射镀膜仪 英国知名品牌磁控离子溅射镀膜仪是一款优化设计的带涡轮分子泵抽真空的镀膜设备, 真空度可达5x10-5mbar. 可以溅射具有超细成膜颗粒的易氧化金属, 适用于高分辨率成像. 同样地, 低散射可得到均匀而致密的无定形碳膜.

国内科研专家利用冷原子激光冷却技术进样, 采用反应显微谱仪进行电子离子符合动量成像探测, 结合光吸收成像荧光成像技术, 研制锶原子冷靶光子电子离子高分辨成像探测装置. 速度成像谱仪会使用 HiPace 涡轮分子泵和 ACP 干泵来达到高真空水平.

上海伯东某客户是一家超声显示器公司, 该客户主要生产LCD，触摸屏等显示器产品。拥有多条真空镀膜线，能供应触摸屏成品。触摸屏电极镀膜线，一星期左右需要更换靶材和做日常维护。换靶材和维护后，需要做真空腔室的泄漏检测。

上海伯东代理的德国 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM 340 在新燃料电池壳的检漏工作中发挥了重要作用。这种检漏仪具备高效率和高精度的特点，非常适合用于检测燃料电池壳这类对密封性要求极高的产品。

上海伯东为普发真空计/真空规IKR TPR BPR 等各种系列提供维修/校准服务（根据 ISO/TS 3567 或DAkkS校准进行工厂校准）, 以确保真空测量的准确性.

真空炉, 即在炉腔这一特定空间内利用真空系统将炉腔内部分物质排出, 使炉腔内压强小于一个标准大气压, 炉腔内空间从而实现负空状态. 上海伯东某科研客户研究方向是特种高温合金, 材料需要在1000℃的环境进行熔合, 在这个温度下空气会影响金属原料熔合的品质, 客户考虑用分子泵来保证炉子的真空度不低于 1E-4Pa, 经过多次技术交流, 客户选择上海伯东 Pfeiffer Hicube 80 classic 分子泵组搭配全量程真空规 PKR 251 来解决需求. 该中型分子泵组在科研、小型工业生产领域应用广泛.

造纸工业是我国的基础工业之一, 国内纸浆造纸企业数量大, 分布广, 旧的造纸机传动系统多采用直流电动机带动各传动辊轴的传动方式, 可做到无级调速, 但由于碳刷的存在使维护相当麻烦. 目前市场上的真空泵广泛用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业, 但是, 对于造纸用真空泵来说, 由于在使用时可能因真空泵的工作造成较大的振动, 影响了工作环境质量；且在进行安装时, 不利于进行安装, 造成操作的不便, 降低了安装效率. 因此, 针对上述问题, 上海伯东代理 pfeiffer 双级旋片泵 DuoVane抽速快, 体积小, 重量轻, 噪声低, 维修方便, 极限真空度高等优点, 符合造纸用真空泵的要求.

舞台灯光虽然呈现是五颜六色的, 但光源一般都是白色. 通过在光源前加上特定的光学滤光片, 对光进行“加工”, 反射和透过特定的波段, 来达到不同的色彩变化. 加上颜色滤光片, 让不同颜色的镜片不停切换, 产生不同颜色. 而在光学元件或独立基板上, 镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合, 即光学薄膜, 可以改变光波之传递特性, 包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变. 上海伯东美国进口KRI离子源辅助国产镀膜设备镀制舞台灯光滤光片, 透亮且温漂小, 满足客户降低生产成本、提高产品质量的需求, 为国内镀膜厂家进行工艺升级提供新方向！

1064nm 窄带滤光片是在各类玻璃材质表面通过特殊的镀膜工艺而形成的光学元件, 可以从入射光中选取任意所需求的波长, 半峰值一般在 5nm~50nm之间, 具有波长定位准确、透过高、截止深、温漂小、耐用性好、光洁度好的特点, 是激光设备应用中常见的滤光片解决方案. 上海伯东美国原装进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380辅助沉积镀制1064nm窄带滤光片, 沉积过程稳定, 加以合理的膜系设计, 可以很好地镀制出透过率高、截止宽度宽、温度漂移小、膜层致密度高、使用寿命长的产品.

上海伯东某科研客户需要搭配一套低温阻抗测试系统, 系统在充入低温气体前，需要把腔体真空度抽至1E-3Pa，系统腔体体积为10L左右, 并稳定在这个真空度保持30min。 经过计算，推荐老师采用Hipace 80 分子泵搭配MVP 015-2隔膜泵的分子泵组Hicube 80 Eco，这套分子泵组可以保证系统真空度不低于1E-3Pa。系统采用PKR 251全量程真空规测量真空度，真空规通过数据线直接连接到分子泵组，在泵组显示器上直接显示真空度。

上海伯东德国 Pfeiffer 热销款皮拉尼真空计 TPR 270 全新升级上市,测量准确,反应迅速,简单好用的优点外，还具有以下升级优点： 1）真空计延展测量范围：1,000 -1 to 10-4 hPa 2）提高测量精度：± 10 % 3）可靠性更高-从2004年上市以来主要应用于大批量 OEM 4）皮拉尼真空计优越的热稳定性，更完美的设计外观 Pfeiffer 德国普发皮拉尼真空计 TPR 270 与同款真空计 TPR 280 对比，测量范围更广，测量精度更高 型号 接口 测量范围 工作温度 测量精度 极限压力 重量 TPR 270 DN 16 ISO-KF DN 16 CF-F 1X10-4 - 1000 hPa 80 °C ± 10 % 400 kPa 135g TPR 280 DN 16 ISO-KF DN 16 CF-R 1/8" NPT 8 VCR 5X10-4 - 1000 hPa 80 °C ± 15 % 1000 kPa 80g TPR 280 DN 16 ISO-KF DN 16 CF-R 5X10-4 - 1000 hPa 250°C ± 15 % 1000 kPa 130g TPR 281(抗腐蚀系列) DN 16 ISO-KF DN 16 CF-R 5X10-4 - 1000 hPa 80 °C/250°C ± 15 % 1000 kPa 80g Pfeiffer 德国普发皮拉尼真空计 TPR 系列测量范围从1000 hPa 到 5 · 10-4 hPa,设计紧凑,测量准确,反应迅速,简单好用,适合一般的真空应用, Pfeiffer德国普发皮拉尼真空计TPR 系列多种接口可选. * 全系列真空产品维修保养促销活动:活动期间所有维修保养产品免收检测费, 定期做保养服务可有效延长产品使用寿命,减少企业生产成本! 上海伯东销售维修德国普发 Pfeiffer全系列产品已有10余年,公司自 1995 年成立以来已累计为数千家客户提供销售维修服务,维修次数累计超过数万余次 保证 100 ％ 德国普发 Pfeiffer 原厂维修保养料件和受德国 Pfeiffer 专业培训的工程师,并用 Pfeiffer 原装进口检测设备对维修后的产品做全方面的性能测试,保证维修质量,并在上海,台湾等地区设立维修保养中心.上海伯东凭借其专业的技术背景及良好的服务质量是中国地区多家大型企业和国家研究机构长期合作指定供应商. 上海伯东主要经营产品:德国普发Pfeiffer涡轮分子泵,干式真空泵,罗茨真空泵,旋片真空泵:应用于各种条件下的真空计，氦质谱检漏仪，质谱分析仪，以及美国考夫曼公司 KRI 离子源 离子枪 霍尔源，美国HVA真空阀门，Polycold冷冻机等

上海伯东 Pfeiffer 在线质谱分析仪与热重分析仪(TGA)联用，在得到热分析信息的同时，还可进一步对热分析过程中的逸出气体进行检测。由于质谱可以检测非常低的含量，选择质谱分析仪与热重联用(TG-MS)已广泛应用于热分析行业。

MOCVD 是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术。因为 MOCVD 生长使用的源是易燃、易爆、毒性很强的物质，因此在设备出厂时必须要考虑密封性，否则一旦有毒物质泄漏，后果不堪设想

上海伯东美国 KRI 射频离子源成功应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场. 随着对镀膜品质要求的不断提升, 使用霍尔离子源辅助镀膜已经无法满足高端镀膜应用市场, 国内某知名 LED 制造商经过我司推荐采用射频离子源 RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中. 成功实现高端光学镜头镀膜并通过脱膜测试!

对客户送检的用于调节阀的气路管道进行检漏认证, 检漏标准是漏率小于 100ppm 或者 10-4 至 10-6Pa.m3/s. 同时需要提供快速, 清洁的检漏环境. 经过伯东推荐, 采用氦质谱检漏仪 ASM 392 吸枪模式, 即在密封的气体管路中充入一定量的氦气, 然后进行检漏.

红外探测器安装封装于杜瓦瓶中, 形成杜瓦封装器件, 真空模式下漏率值要达到 1.10-8Pa.m3/s

镭射焊接电磁阀用于半导体设备上, 由于半导体工业上用的气体如矽烷 SiH4, 氨气 NH3 等等都是有毒或有腐蚀性的气体, 所以对所用的阀及相关部件, 漏率要求非常严格, 要求电磁阀成品最终漏率低于 5-10 mbar l / s,

Aston™ 质谱分析仪通过在故障前, 提前更换或使干泵离线, 可以减轻灾难性的真空损失, 从而提高生产线产量.数据驱动干泵故障预测. 通过测量进入 (进气) 和排出 (排气) 干泵的气体的分子类型和合格性 (分压), 可以模拟破坏性腐蚀或沉积物堆积. 仅气体压力和体积仅部分指示气流的腐蚀性或堵塞性. 至关重要的是流经干泵的气体成分. Aston™ 质谱分析仪通过对干泵暴露在气体浓度下的情况进行建模, 并将模型与实际泵故障相关联, 可以以高置信度预测干泵的预期运行寿命.

用于输送高压氧气, 氢气等. 客户从现场量测管路, 然后对不同口径的管路进行焊接, 因半导体行业的苛刻使用要求, 产品漏率值需要达到 <1E-9mar l/s, 因此需要进行泄漏检测, 已验收管件是否达标