材料解决方案-伯东公司德国普发真空pfeiffer

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伯东公司德国普发真空pfeiffer

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上海伯东 Europlasma 等离子设备用于OK镜表面处理

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角膜塑形镜俗称OK镜, 角膜塑形镜采用透气性硬质角膜接触镜材料, 即通常所说的RGP材料制作的眼镜片, RGP是英文Rigid Gas Permeable的缩写, 即“透气性硬质材料”. 它是在不透气的硬质材料PMMA基础上发展起来的. 上海伯东Europlasma等离子表面处理设备在真空环境下对OK镜进行表面处理, 可以实现多种效果和改善.

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伯东 Europlasma 等离子机,等离子表面处理CD1000

CD1000

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Hakuto IBE离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究

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随着微纳制造技术的发展，软刻蚀技术因其在微流体、组织工程和生物医学等领域的广泛应用而受到重视。PDMS（聚二甲基硅氧烷）作为一种常用的软刻蚀材料，其母模板的制备质量直接影响到最终产品的性能。Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机以其高效、简便的操作特点，为软刻蚀母模板的制备提供了新的选择。西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE .

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伯东离子蚀刻机 IBE

IBE

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Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于氮化硅刻蚀工艺研究

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重庆某研究所在在氮化硅刻蚀工艺研究中采用 hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE. 针对氮化硅刻蚀工艺中硅衬底刻蚀损失的问题, 为了提高氮化硅对二氧化硅的刻蚀选择比, 采用 CF4, CH3F和O2这3种混合气体刻蚀氮化硅, 通过调整气体流量比, 腔内压强及功率, 研究其对氮化硅刻蚀速率、二氧化硅刻蚀速率及氮化硅对二氧化硅选择比等主要刻蚀参数的影响.

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伯东离子蚀刻机 IBE

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Hakuto 离子蚀刻机20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄

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某陶瓷基片制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于 5G 陶瓷基片银薄膜减薄, 通过蚀刻工艺把基片涂层银薄膜刻蚀减薄, 并降低工差, 提高薄膜均匀性.

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伯东公司代理日本进口NS离子刻蚀机20-M/NS-12

20-M/NS-12

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Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于制作闪耀罗兰光栅

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长春某研究所在制作闪耀罗兰光栅的研究中采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE,制造出的闪耀罗兰光栅比其他工艺制造的光栅产品整体衍射效率高25%, 实现高衍射效率闪耀罗兰光栅制作, 且工艺可控、稳定, 所制作的闪耀罗兰光栅衍射效率高于市场同类产品.

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伯东离子蚀刻机 IBE

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上海伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀

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深圳某电子公司采用Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 对陶瓷板的 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀, 高端印制电路板生产为主

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伯东离子蚀刻机 IBE

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上海伯东IBE离子束刻蚀用于铌酸锂LiNbO3薄膜刻蚀

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随着基于铌酸锂LN的光源、光调制、光探测等重要器件的实现，铌酸锂LN光子集成芯片有望像硅基集成电路一样，成为高速率、高容量、低能耗光学信息处理的重要平台，在光量子计算、大数据中心、人工智能及光传感激光雷达等领域彰显其应用价值。由于铌酸锂LN的特殊化学性能，IBE离子束刻蚀+EBL电子束曝光是最优的解决方案。

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伯东离子蚀刻机 IBE

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