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KRI 射频离子源典型应用 LED-DBR 辅助镀膜

2021/09/02 09:11

阅读:176

分享:
应用领域:
机械设备
发布时间:
2021/09/02
检测样品:
其他
检测项目:
LED-DBR 辅助镀膜
浏览次数:
176
下载次数:
参考标准:
/

方案摘要:

上海伯东美国 KRI 射频离子源成功应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场. 随着对镀膜品质要求的不断提升, 使用霍尔离子源辅助镀膜已经无法满足高端镀膜应用市场, 国内某知名 LED 制造商经过我司推荐采用射频离子源 RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中. 成功实现高端光学镜头镀膜并通过脱膜测试!

产品配置单:

分析仪器

上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列

型号: RFICP 射频离子源

产地: 美国

品牌: 考夫曼

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上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 220

型号: RFICP 220

产地: 美国

品牌: 考夫曼

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伯东公司考夫曼离子源

型号: 考夫曼离子源

产地: 美国

品牌: 考夫曼

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上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 140

型号: RFICP 140

产地: 美国

品牌: 考夫曼

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方案详情:

射频离子源 LED-DBR 辅助镀膜


随着对镀膜品质要求的不断提升, 使用霍尔离子源辅助镀膜已经无法满足高端镀膜应用市场, 某知名 LED 制造商采用射频离子源 RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中. 成功实现高端光学镜头镀膜并通过脱膜测试!

1. 离子源应用: LED-DBR 镀膜生产
2. 系统功能: 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.
3. 离子源: 采用上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 325. 离子源 RFICP 325 提供的离子束 (不论是离子能量还是离子密度) 均是目前业界较高等级, 离子源 RFICP 325 特殊的栅极设计 E22 Grided 可以涵盖 1650 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 substrate holder, 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能.
4. 离子源功能: 通过射频离子源 RFICP 325 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的 LED-DBR 无论是亮度测试, 脱膜测试, 顶针测试, 光学特性等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.

KRI RFICP 325 射频离子源安装于 1650 mm 尺寸电子枪镀镀膜机.

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射频离子源 LED-DBR 辅助镀膜

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KRI 射频离子源测试案例: LED-DBR 脱膜测试


1. 在高倍显微镜下检视脱膜测试


1da22b815c2c9f51b9f61856ea253ec.png2. 测试结果

--- 使用其他品牌离子源--- ------ 使用美国考夫曼 KRI RFICP 325 离子源 ------

从上图可以清楚看出, 使用其他品牌离子源, 样品存在崩边的问题; 使用上海伯东美国考夫曼离子源, 样品无崩边

       上海伯东是美国考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc 中国总代理. 美国考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式考夫曼离子源.

       若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东

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