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上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列

品牌: 考夫曼
产地: 美国
型号: RFICP 射频离子源
报价: 面议
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产品介绍

其它参数

产地:美国
类型:射频离子源
应用:真空镀膜

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准

KRi 射频离子源 RFICP 系列
上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP  系列提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.
射频离子源

射频离子源 RFICP 系列技术参数:

型号

RFICP 40

RFICP 100

RFICP 140

RFICP 220

RFICP 380

Discharge 阳极

RF 射频

RF 射频

RF 射频

RF 射频

RF 射频

离子束流

>100 mA

>350 mA

>600 mA

>800 mA

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

栅极直径

4 cm Φ

10 cm Φ

14 cm Φ

20 cm Φ

30 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射


流量

3-10 sccm

5-30 sccm

5-30 sccm

10-40 sccm

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

长度

12.7 cm

23.5 cm

24.6 cm

30 cm

39 cm

直径

13.5 cm

19.1 cm

24.6 cm

41 cm

59 cm

中和器

LFN 2000


射频离子源 RFICP 系列应用:
离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )
离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )
表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )
离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)
离子溅镀 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)
离子溅射镀膜
上海伯东美国考夫曼 KRi 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸离子束刻蚀机, 作为蚀刻机的核心部件, KRI  射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!

KRI 射频离子源典型应用 IBE 离子蚀刻

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗女士

售后服务
产品货期: 365天
整机质保期: 1年
培训服务: 提供付费培训
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考夫曼镀膜机RFICP 射频离子源的工作原理介绍

镀膜机RFICP 射频离子源的使用方法?

考夫曼RFICP 射频离子源多少钱一台?

镀膜机RFICP 射频离子源可以检测什么?

镀膜机RFICP 射频离子源使用的注意事项?

考夫曼RFICP 射频离子源的说明书有吗?

考夫曼镀膜机RFICP 射频离子源的操作规程有吗?

考夫曼镀膜机RFICP 射频离子源报价含票含运吗?

考夫曼RFICP 射频离子源有现货吗?

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KRI 射频离子源典型应用 LED-DBR 辅助镀膜

上海伯东美国 KRI 射频离子源成功应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场. 随着对镀膜品质要求的不断提升, 使用霍尔离子源辅助镀膜已经无法满足高端镀膜应用市场, 国内某知名 LED 制造商经过我司推荐采用射频离子源 RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中. 成功实现高端光学镜头镀膜并通过脱膜测试!

机械设备

2021/09/02

工商信息

企业名称

伯东企业(上海)有限公司

企业信息已认证

企业类型

信用代码

310115400032917

成立日期

1995-12-01

注册资本

800

经营范围

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伯东公司德国普发真空pfeiffer为您提供考夫曼上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列RFICP 射频离子源,考夫曼RFICP 射频离子源产地为美国,属于镀膜机,除了上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供上海伯东KRI 考夫曼离子源 RFICP 200 HO、上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 220、上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 40,上海伯东客服电话400-860-5168转0727,售前、售后均可联系。
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