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KRI 霍尔离子源 eH 3000
上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源.
尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”
放电电压 / 电流: 50-300V / 20A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性
• 水冷 - 加速冷却
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
• 高效的等离子转换和稳定的功率控制
KRI 霍尔离子源 eH 3000 技术参数
型号 | eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE |
供电 | DC magnetic confinement |
- 电压 | 50-250V VDC |
- 离子源直径 | ~ 7 cm |
- 阳极结构 | 模块化 |
电源控制 | eHx-25020A |
配置 | - |
- 阴极中和器 | Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode |
- 离子束发散角度 | > 45° (hwhm) |
- 阳极 | 标准或 Grooved |
- 水冷 | 前板水冷 |
- 底座 | 移动或快接法兰 |
- 高度 | 4.0' |
- 直径 | 5.7' |
- 加工材料 | 金属 |
- 工艺气体 | Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors |
- 安装距离 | 16-45” |
- 自动控制 | 控制4种气体 |
* 可选: 可调角度的支架;
KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD
若您需要进一步的了解 KRI 霍尔离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 叶女士
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F: +86-21-5046-1490
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美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用
上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽束型离子束, KRi 霍尔离子源可以以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护, 安装于各类真空设备中, 例如 e-beam 电子束镀膜机, load lock, 溅射系统, 分子束外延, 脉冲激光沉积等, 实现 IBAD 辅助镀膜的工艺.
半导体
2023/03/28
企业名称
伯东企业（上海）有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
310115400032917
成立日期
1995-12-01
注册资本
800
经营范围
伯东企业（上海）有限公司
公司地址
上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室
客服电话
公司名称： 伯东企业（上海）有限公司
公司地址： 上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室 联系人： 罗小姐 邮编： 200131 联系电话： 400-860-5168转0727
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