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v 产品概述：系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成
v 设备用途：本系统配有一套电子枪及电源，可满足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多种金属和介质膜基片上均匀沉积多层膜的需要
v 真空室尺寸：定制
v 极限真空度：≤6.0E-5Pa
v 沉积源：6个40cc坩埚
v 温度：最高300℃
v 电控描述：全自动
v 工艺：片内膜厚均匀性：≤±3%
特色参数：样品尺寸及数量可定制，工件架有拱形基片架和行星形基片架
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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