产地类别: 国产
与市场上现有的镀膜仪相比结构紧凑,体积小巧,可放置与桌面,目前市场上的仪器体积都相对庞大,占空间。集成度高
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SD-650MHT双靶磁控溅射仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
双靶磁控溅射仪原理:
磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移,其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场,则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动,它们的运动路径不仅很长,而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材,从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加,二次电子的能量消耗殆尽,逐渐远离靶表面,并在电场E的作用下zui终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传递给基片的能量很小,致使基片温升较低。
SD-650双靶磁控溅射镀膜机参数:
品牌
品牌 : 北京博远微纳科技有限公司
型号: SD-650MHT
仪器主机尺寸: 长610mm×宽420mm×高220mm(注:含腔体总高720mm)
工作腔室尺寸: 金属腔体:直径260mm×高500mm(外尺寸 )
直径210mm×高270mm(内尺寸)
靶头:双靶
靶材尺寸:直径50mm×厚3mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
靶材料:标配一块直径50mm×3mm的铜靶及直径50mm×3mm的铝靶
靶枪冷却方式: 水冷
极限真空度: 5×10-5Pa(10分钟可到5×10-3Pa)
电源:直流恒流电源:输入电压:220V
输出电压:0-600v
输出电流:0-1.6A
射频电源和匹配器:功率500W。
载样台: 直径200mm
工作气体:Ar等惰性气体(需自备气瓶及减压阀)
气路: 气路可以通过电磁流量阀与手动阀联动控制。
水冷: 自循环冷却水机
膜厚仪 : 实时监测,触摸屏控制
可镀材料: 铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
电源电压: 220V 50Hz
启动功率 3KW
【SD-650MHT安装 / 使用 环境】
选择一个合适的仪器摆放位置:
1、放置SD-650MT高真空磁控镀膜仪在一个长130cm,宽60cm的平面桌子上(桌子的承重需要在200KG以上);
2,放置“外置 旋转机械真空泵”及“冷水机”在一个合适的位置(地面 / 靠近镀膜仪主机);
3,系统总重量(镀膜仪、电器柜、选装泵、冷水机)约为208~240KG(选配不同),请确保有4人一起移动 / 搬运仪器;
4,仪器的使用 / 运行环境温度为15~25摄氏度,相对湿度不超过75%;
5,为仪器提供一个220V,16A的空开。
6,确保使用 / 运行环境有足够的通风,并且避免阳光直接照射到仪器。
7,氩气和氩气瓶解压阀需自备。
产品货期: 10天
整机质保期: 2年
培训服务: 额外提供免费培训
安装调试时间: 到货后10天内
电话支持响应时间: 12小时内
是否提供维保合同: 是
维修响应时间: 1天内
节假日是否提供上门服务: 否
核心零部件货期: 5天
核心零部支持时间: 2年
是否支持上门巡检: 否
是否提供预防性维护计划: 否
是否提供期间核查方案: 否
是否提供免费应用支持: 否
是否提供付费应用支持: 是
是否提供线上售后平台: 是
维修付款方式: 先维修后付款
基本维修资料公开: 故障代码
无理由退换货: 不支持
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