WB240微波等离子去胶机

>> 产品特点 
   WB240等离子清洗机/去胶机采用专利高密度微波等离子技术，用于半导体生产中晶圆的清洁、去胶和等离子体预处理，微波等离子体清洗具有高度活性、高效，且不会对电子装置产生离子损害。 　 
微波等离子清洗机主要用途： 
  ·等离子体表面改性
  ·有机物表面等离子去胶
  ·邦定强度增强
  ·等离子体刻蚀应用
  ·等离子体灰化应用
  ·增强或减弱浸润性
  ·其它等离子体系统应用
>> 技术参数
 ◆ 外形尺寸(不包括报警灯)
    1000(W)×800(D)×1750(H)mm
 ◆ 仓体结构

    石英，约20升    
 ◆ 等离子发生器(德国)
    频率2.45GHZ,功率0-1000W连续调节,可连续长时间工作
 ◆ 控制系统
    触摸电脑+PLC全自动控制,采用欧姆龙、西门子等世界著名品牌电器元件，性能稳定可靠,并具有手动、自动两种模式
 ◆ 真空系统(真空压力PID闭环自动控制)
    英国爱德华斡旋式干泵 
    美国MKS真空压力控制节流阀及薄膜式传感器      
    台湾气动真空角阀、充气阀、不锈钢真空波纹管 
 ◆ 充气系统
    美国MKS高精度电子质量流量计(3路气体配制)

    美国世伟洛克气体管路及接口组件，德国双级减压阀

    日本SMC及CKD高真空气阀组件   

>> 相关应用    

  - 晶圆光刻胶清洗