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微波等离子体去胶机VP-Q10等离子激发频率2.45GHz，真空腔体石英玻璃材料，腔体容积10升，中英文操作系统，触摸屏控制，频率2.45GHz有强的化学作用，适用于芯片去胶、晶圆去胶、半导体光刻胶去除、金属油污去除、半导体、塑料、PP、高分子等材料清洗，活化，蚀刻和改性。
保修期: 2年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 无
免费培训: 提供相关技术支持及服务
免费仪器保养: 终身维护服务
保内维修承诺: 对等离子清洗主机保修2年
报修承诺: 24小时内安排技术人员保修
