机械化学研磨方法

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  • 机械臂
    G1329-60009 安捷伦1100/1200/1260 机械臂，样品传输，Sample Transport AssemblyG7129-60600 New-Sample Transport Assembly. 1260 Infinity IIG1367-60059 Sample transportG4267-60001 Sampler handler assembly我司提供安捷伦全新/翻新机械臂，对于翻新的机械臂的测试。应保持连续多次进样，在进样时不会擦碰其他的样品瓶。满足客户对于进样器精度的要求，且提供一年超长质保期。机械臂原理：机械臂通过XYZ三坐标体系来精准的确定样品瓶位置。其后多个马达协同控制机械小臂移动；小爪的开合。完成进样小瓶到进样单元以及返回样品盘的过程。机械臂的测试方法：将进样时间设置为0.1min，进样小瓶摆满整个样品盘。连续进样同一小瓶500次以上，然后序列进样11-15，81-85十个位置。在进样时应仔细观察机械臂的运动轨迹，进样期间机械臂应没有卡顿，擦碰其他样品瓶。满足上述条件，则机械臂为合格。
    供应商： 仪诺嘉科技（杭州）有限公司
    品牌： 安捷伦
    价格： 0
  • 氧化物最终抛光液
    *产品名称*品牌*产品规格*产品价格氧化物最终抛光液德国古莎L0最终抛光液(0.05um）500ml/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎L1最终抛光液(0.05um) 1L/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎L2最终抛光液(0.05um）1L/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（0.05um）1L/瓶800氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（0.25um）1L/瓶800氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（1um）1L/瓶800精选的氧化物磨料+先进的化学悬浮方法，让氧化物机械化学抛光方法发挥出超级效率，为软质，韧性或者压力敏感制样提供完美表面。推荐配套4FV1型长绒植绒型抛光布或者聚氨酯发泡材料多空弹性抛光布，可以将机械化学抛光的效率最大化。氧化物金刚石终抛抛光液规格粒度原料作用L0型纳米级水悬浮非团聚氧化硅抛光液，碱性介质稳定，白色悬浮浓缩液（推荐稀释5-10倍使用）。通用材料型机械化学最终抛光液。L1型化学复合氧化物抛光液， 可以起到去薄的作用，碱性介质稳定，白色悬浮液，无需稀释。主要用于金属钛以及钛合金的最终抛光，特殊设计可以使样品表面的韧性划痕变脆易磨削，从而完成最终抛光。L2型由陶瓷与氧化硅复合的机械化学抛光液，碱性介质稳定，白色悬浮液，无需稀释。主要用于金属铝以及铝合金的在最终超镜面抛光前的精抛准备。ALP型1um应用新型抗团聚技术的高纯氧化铝机械化学最终抛光液，白色悬浮浓缩液（推荐稀释2-3倍使用）。适合于各类材料的精密最终抛光过程，主要用于最终表面极完美平整无划痕。0.25um0.05um
    供应商： 上海杰星生物科技有限公司
    品牌： 德国古莎
    价格： 0
  • 吉致电子JEEZ半导体抛光液/蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液
    无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！
    供应商： 无锡吉致电子科技有限公司
    品牌： 无锡吉致电子
    价格： ¥8
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机械化学研磨方法相关的仪器

  • 化学机械磨抛机 400-860-5168转5919
    SL-1023化学机械磨抛机，适用于 CMP 平坦化和平滑化工艺技术， 整机研磨部分采用防腐材料，耐化学腐蚀，配置自动滴料器和精密磨抛控制仪，全自动触摸屏面板，从加工性能和速度上同时满足晶圆等面型加工的需求。超平不锈钢抛光盘（平面度为每 25mm×25mm 小于 0.0025mm）。超精旋转轴（托盘端跳小于 0.01mm）。 设有两个加工工位，可分别进行控制。配有全自动控制触摸屏面板，可设置主轴转速、摆臂速度、磨抛时间。 配置自动滴料器，流量速率可视化调整， 自动研磨和抛光。配置 GPC-100A 精密磨抛控制仪，可调节压力，修整面型，使磨抛更加方便快捷。 研磨部分采用防腐材料，耐化学腐蚀。产品名称SL-1023化学机械磨抛机产品型号SL-1023安装条件本设备要求在海拔 1000m 以下，温度 25℃±15℃ , 湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及下排水www.vector-tek.com wangyu@vectorer.com.cn深圳市矢量科学仪器有限公司2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸 800mm×600mm×700mm，承重 200kg 以上5、通风装置：不需要主要参数主机部分GPC-100A 精密磨抛控制仪自动滴料器1、电源:220V2、功率:450W3、磨抛盘转速:10-240rpm4、磨抛工位:2 个5、摆臂调节档位:1-15 档6、托盘端跳:0.008/250mm7、不锈钢磨抛盘: φ300mm8、载样盘 : φ 105mm9、修盘环 : φ 127.5mm1、载样盘直径：Ø 103mm2、载样盘轴向行程：12mm3、数显表精度：0.001mm4、载样盘可调加载压力： 0.1kg-2.1kg5、压力确认仪有效量程： 1g-5000g6、样品装卡方式：真空吸附7、承载样件尺寸：直径≤103mm、厚度≤12mm8、尺寸：外径 146mm，高 266mmSKZD-2 滚筒滴料器1、容积：1.5L2、流量：0-35ml/min3、尺寸：170×290×350mm； 重量：3kgSKZD-4 自动滴料器1、加液泵：4 个2、料液瓶：600ml/瓶3、计时范围：1-999min4、流量：0.1ml/min-10ml/min5、尺寸：230×370×450mm； 重量：10kg产品规格：尺寸：550mm×700mm×420mm 重量：74Kg序号名称数量图片链接1铸铁磨盘 ( Ф300mm 花盘）1 个2不锈钢磨盘 ( Ф300mm 平盘）1 个3载物盘（陶瓷）1 个4修盘环（陶瓷）1 个www.vector-tek.com wangyu@vectorer.com.cn深圳市矢量科学仪器有限公司5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各 1 片6磁力片（带背胶）2 片7研抛底片2 片8刚玉研磨微粉0.5kg9石蜡棒4 根10二氧化硅悬浮抛光液 2040 W0.051 瓶www.vector-tek.com wangyu@vectorer.com.cn深圳市矢量科学仪器有限公司客户信息：化学机械磨抛机标准配置单序号产品编号产品名称规格单位数量备注图片（仅供参考）1化学机械磨抛 机SL-1023台1主机2铸铁磨盘Ф300mm 花盘件13不锈钢磨盘Ф300mm 平盘件1441031929载料盘Ф 105mm个1陶瓷541031930修盘环Ф 127.5mm个1陶瓷651020117磨砂革抛光垫Ф300mm片1带背胶751020127合成革抛光垫Ф300mm片1带背胶851020135聚氨酯抛光垫Ф300mm片1带背胶951020226磁力片（带背 胶）Φ300mm片2其中一个 粘在不锈 钢磨盘上1051020232研抛底片Φ300mm片21151020030刚玉研磨粉W14kg0.51251010107石蜡棒Φ8*100mm根4粘接剂1341030436螺丝刀5*75 一字个1www.vector-tek.com wangyu@vectorer.com.cn深圳市矢量科学仪器有限公司1441030049内六角扳手2.5 L 型个11541030070内六角扳手3 L 型个11641030086内六角扳手4 L 型个11741030103内六角扳手5 L 型个11841030119内六角扳手6 L 型个11941030137内六角扳手8 L 型个12041020198增强管φ 14 PVC 纤 维增强m22141020295增强管φ25 PVC 纤 维增强m22241020086喉箍φ 18-32 不 锈钢个22341020211喉箍φ 13-19 不 锈钢个22442010061国标电源线3*1.5 方 /1.5m个12551020576二氧化硅悬浮 抛光液2040 W0.05kg51 瓶2641050004锁扣式夹板箱930*790*590个127合格证份128说明书份1www.vector-tek.com wangyu@vectorer.com.cn深圳市矢量科学仪器有限公司
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    厂商： 深圳市矢量科学仪器有限公司
    品牌： 矢量科学/Vector Scientific
    型号： SL-1023
    价格： 15万元
  • UNIPOL-1203化学机械磨抛机 400-860-5168转1374
    UNIPOL-1203化学机械磨抛机，适用于CMP平坦化和平滑化工艺技术， 整机研磨部分采用防腐材料，耐化学腐蚀，配置自动滴料器和精密磨抛控制仪，全自动触摸屏面板，从加工性能和速度上同时满足晶圆等面型加工的需求。 1、超平不锈钢抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.01mm）。3、设有两个加工工位，可分别进行控制。4、配有全自动控制触摸屏面板，可设置主轴转速、摆臂速度、磨抛时间。5、配置自动滴料器，流量速率可视化调整，自动研磨和抛光。6、配置GPC-100A精密磨抛控制仪，可调节压力，修整面型，使磨抛更加方便快捷。7、研磨部分采用防腐材料，耐化学腐蚀。产品名称 UNIPOL-1203化学机械磨抛机产品型号 UNIPOL-1203安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 主机部分1、电源:220V2、功率:450W3、磨抛盘转速:10-240rpm4、磨抛工位:2个5、摆臂调节档位:1-15档6、托盘端跳:0.008/250mm7、不锈钢磨抛盘:φ300mm8、载样盘:φ105mm9、修盘环:φ127.5mmGPC-100A精密磨抛控制仪1、载样盘直径：Ø 103mm2、载样盘轴向行程：12mm3、数显表精度：0.001mm4、载样盘可调加载压力： 0.1kg-2.1kg5、压力确认仪有效量程：1g-5000g6、样品装卡方式：真空吸附7、承载样件尺寸：直径≤103mm、 厚度≤12mm8、尺寸：外径146mm，高266mm自动滴料器SKZD-2滚筒滴料器1、容积：1.5L2、流量：0-35ml/min3、尺寸：170×290×350mm； 重量：3kgSKZD-4自动滴料器1、加液泵：4个2、料液瓶：600ml/瓶3、计时范围：1-999min4、流量：0.1ml/min-10ml/min5、尺寸：230×370×450mm； 重量：10kg产品规格 1、外形尺寸:550mm×700mm×420mm2、重量:74Kg序号名称数量图片链接1铸铁磨盘（Ф300mm花盘）1个2不锈钢磨盘（Ф300mm平盘）1个3载物盘（陶瓷）1个4修盘环（陶瓷）1个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6磁力片（带背胶）2片7研抛底片2片8刚玉研磨微粉0.5kg9石蜡棒4根10二氧化硅悬浮抛光液 2040 W0.051瓶序号名称功能类别图片链接1YJXZ-12搅拌循环泵（可选）2精密测厚仪（可选）3陶瓷研磨盘（可选）4玻璃研磨盘（可选）5磁性树脂金刚石研磨片（可选）
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    厂商： 沈阳科晶自动化设备有限公司
    品牌： 沈阳科晶/KJ GROUP
    型号： UNIPOL-1203
    价格： 面议
  • 高能机械合金球磨机 400-860-5168转6068
    工作原理 在研磨载体的几何结构和te殊运动方式的作用下，研磨介质与样品直接所产生的高频率、高强度的碰撞、剪切、摩擦，使得样品达到极其优良的研磨效果，具有处理速度快，出样粒度小、均匀、一致等特点。 产品概述 高neng球磨机和行星球磨机的工作原理一致，都是通过离心力推动球罐磨罐的介子与物料产生碰撞及研磨，研磨罐中的球在与研磨罐一起运动时受到Coriolis力（自转偏向力）的叠加影响。这样研磨球的运动产生了gao能来破碎样品。作用在研磨罐上的离心力带动研磨球沿转动的方向运动。由于研磨罐内壁和球的速度不同，样品和罐壁产生强摩擦力和撞击作用，释放出大量的动能。这种撞击和摩擦作用的组合使得行星式球磨仪研磨时的粉碎度极gao，促成另一个实验结果“机械合金化”. 机械合金化是指金属或合金粉末在机械合金化行星式球磨机中通过粉末颗粒与磨球之间长时间激烈地冲击、碰撞，使粉末颗粒反复产生冷焊、断裂，导致粉末颗粒中原子扩散，从而获得合金化粉末的一种粉末制备技术。 机械合金化粉末并非像金属或合金熔铸后形成的合金材料那样，各组元之间充分达到原子间结合，形成均匀的固溶体或化合物。在大多数情况下，在有限的球磨时间内仅仅使各组元在那些相接触的点、线和面上达到或趋近原子级距离，并且终得到的只是各组元分布十分均匀的混合物或复合物。当球磨时间非常长时，在某些体系中也可通过固态扩散，使各组元达到原子间结合而形成合金或化合物。产品选型 gao能球磨机的选型需具备几个条件，速度bi须符合达到yi定高速，按国内2L行星球磨机来计算，行星主盘直径需达到36cm，公转转速需达到360r/min，自转转速需达到720r/min，低于此转速样品很难得到强撞击力，无法得到大量的动能，样品无法得到gao能球磨.我公司每个型号球磨罐与介子材质则选择如下，不锈钢球磨罐，氧化锆球磨罐，刚玉球磨罐，硬质合金球磨罐，真空气氛保护球磨罐，氧化锆球，不锈钢球，硬质合金球，其他如玛瑙，尼龙，聚氨酯，聚四氟都无法做得到gao能球磨. 多数粉体在gao能机械合金化的过程中会出现氧化，为了实验更加科学准确化，罐体选择真空气氛保护球磨，在样品进出料配套米淇亚克力真空手套箱或者不锈钢真空手套箱使用，du绝前处理与后处理样品接触空气. 应用领域 米淇机械合金化行星式球磨机，应用领域有：纳米材料、MLCC、氧化锌粉料、氧化钴粉料、Ni-Zn铁氧体、Mn-Zn铁氧体化学品、催化剂、建筑材料矿物及冶金及金属电子合金、煤矿、焦炭、铁矿石、金属氧化物、石英、次宝石、矿渣、磁性材料、钴酸锂、锰酸锂、催化剂、荧光粉、长余辉发光粉、稀土抛光粉、电子玻璃粉、燃料电池、氧化锌压敏电阻等等。 响影响机械合金化的因素机械合金化是一个复杂的过程，因此要获得理想的相和微观结构，就需要优化设计一系列的影响参数。下面列举一些对机械合金化结果有重大影响的参数。 1).研磨装置 研磨类型生产机械合金化粉末的研磨装置是多种多样的，如：行星磨、振动磨、搅拌磨等。它们的研磨能量、研磨效率、物料的污染程度以及研磨介质与研磨罐内壁的力的作用各不相同，故对研磨结果起着至关重要的影响。研磨罐的材料及形状对研磨结果有重要影响。在过程中，研磨介质对研磨容器内壁的撞击和摩擦作用会使研磨容器内壁的部分材料脱落而进入研磨物料中造成污染。常用的研磨罐的材料通常为淬火钢、工具钢、不锈钢、PK5或P；内衬淬火钢、硬质合金等。有时为了te殊的目的而选用te殊的材料，例如：研磨物料中含有铜或钛时，为了减少污染而选用铜或钛研磨罐。 2).研磨速度 研磨机的转速越高，就会有越多的能量传递给研磨物料。另一方面，转速过高会使研磨系统温升过快，温度过高，有时这是不利的，例如较高的温度可能会导致在过程中需要形成的过饱和固溶体、非晶相或其它亚稳态相的分解。3).研磨时间 研磨时间是影响结果的重要因素之一。在yi定的条件下，随着研磨的进程，合金化程度会越来越高，颗粒尺寸会逐渐减小而后形成一个稳定的平衡态，即颗粒的冷焊和破碎达到一动态平衡，此时颗粒尺寸不再发生变化。但另一方面，研磨时间越长造成的污染也就越严重。因此，理想研磨时间要根据所需的结果，通过试验综合确定。4).研磨介质 选择研磨介质时不仅要像研磨罐那样考虑其材料和形状如球状、棒状等，还要考虑其密度以及尺寸的大小和分布等，球磨介质要有适当的密度和尺寸以便对研磨物料产生足够的冲击，这些对完成的产物都有着直接的影响，例如研磨Ti-Al混合粉末时，若采用直径为15mm的磨球，之后可得到固溶体，而若采用直径为25的磨球，在同样的条件下即使研磨更长的时间也得不到Ti-Al 固溶体。5).球料比 球料比指的是研磨介质与研磨物料的重量比，通常研磨介质是球状的，故称球料比。试验研究用的球料比在1：1～200：1范围内，大多数情况下为10：1左右。当做小量生产或试验时，这一比例可高达50:1甚至100:1。6).充填率 研磨介质充填率指的是研磨介质的总体积占研磨罐的容积的百分率 ，研磨物料的充填率指的是研磨物料的松散容积占研磨介质之间空隙的百分率。若充填率过小，则会使生产率低下；若过高，则没有足够的空间使研磨介质和物料充分运动，以至于产生的冲击较小，而不利于合金化进程。一般来说，研磨介质充填率在60%-80%之间 ，物料充填率在bai分百-130%之间。7).气体环境 机械合金化是一个复杂的固相反应过程，球磨氛围、球磨强度、球磨时间等任意一个参数的变化都会影响合金化的过程甚至完成的产物。在机械合金化过程中，由于球与球、球与罐之间的撞击，机械能转换成热能，使得球磨罐内的温度升得很高。同时，合金化过程中往往发生粒子的细化，并引入缺陷，自由能升高，很容易与球磨氛围中的氧等发生反应，因此一般机械合金化过程中均以惰性气体，如氩气等为保护气体。球磨气氛不同，会对合金化的反应方式、完成的产物以及性质等造成显著影。研磨的气体环境是产生污染的一个重要因素，因此，一般在真空或惰性气体保护下进行。但有时为了te殊的目的，也需要在te殊的气体环境下研磨，例如当需要有相应的氮化物或氢化物生成时，可能会在氮气或氢气环境下进行研磨。8).过程控制剂 在机械合金化过程中粉末存在着严重的团聚、结块和粘壁现象大大阻碍了机械合金化的进程。为此，常在过程中添加过程控制剂，如硬脂酸、固体石蜡、液体酒精和四氯化碳等，以降低粉末的团聚、粘球、粘壁以及研磨介质与研磨容器内壁的磨损，可以较好地控制粉末的成分和提高出粉率。9).研磨温度 无论MA完成的产物是固溶体、金属间化合物、纳米晶、还是非晶相都涉及到扩散问题，而扩散又受到研磨温度的影响，故温度也是MA的一个重要影响因素，例如 Ni-50%Zr粉末系统在振动球磨时当在液氮冷却下研磨15h没发现非晶相的形成；而在200oC下研磨则发现粉末物料wan全非晶化；室温下研磨时，则实现部分非晶化。上述各因素并不是相互独立的，例如理想研磨时间依赖于研磨类型、介质尺寸、研磨温度以及球料比等。机械合金化合成高熔点合金或金属间化合物时具有如下优点：避开普通冶金方法的高温熔化、凝固过程，在室温下实现合金化，得到均匀的具有精细结构的合金，且产量较高，因而已成为生产常规手段难以制备的合金及新材料的好方法。主机选型
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    厂商： 长沙米淇仪器设备有限公司
    品牌： 米淇/MITR
    型号： 高能球磨机
    价格： 5000 - 3万元
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  • 【转帖】化肥机械化深施技术好

    化肥深施好处多，主要有以下四个方面： 　　1、提高化肥利用率。化肥深施可减少化肥的损失和浪费，碳酸氢铵、尿素深施地表以下6～10厘米的土层中，比表面撒施氮的利用率可分别由27%和37%提高到50%和58%。大面积应用化肥深施机械化技术后，氮素化肥平均利用率可由30%　提高到40%以上。磷钾等肥、深施还可以减少风蚀的损失，促进作物吸收和延长肥效，提高化肥利用率。　　2、增加作物产量。化肥深施可促使根系发育，增强作物吸收养分、水分和抗旱能力，有利于植株生长，从而提高作物产量。在同样条件下，深施比地表撒施的小麦、玉米能增产225～675kg/hm2，大豆可增产225～375kg/hm2，增产幅度平均在5%～15%之间。　　3、机械作业能保证种、肥定位隔离，避免烧种现象。种肥同床混施时，化肥直接与种子接触，极易腐蚀侵伤种子和幼苗根系，发生烧种烧苗现象。机械深施能将化肥施于种下3～6厘米，种侧4～5厘米，使种、肥之间有3厘米的土壤隔离层，避免出现烧种，有利于保苗、增产。　　4、机械施肥工效高，劳动强度低，节支效果明显。机引化肥深施机具每小时生产率一般在0.33～0.67hm2以上，效率比人工作业提高10～20倍，化肥深施机械化技术具有显著的节本增效。化肥机械化深施技术要点 　　1、底肥深施应同土壤耕翻作业相结合。目前底肥深施的方法有两种，一种是先撒肥后耕翻，第二种是边耕翻边将化肥施于犁沟内，以第二种方法为好。　　2、种肥深施。种肥须在播种的同时深施，可通过在播种机上安装肥箱和排肥装置来完成。对机具的要求是不仅能较严格地按农艺要求保证肥、种的播量、深度、株距和行距等，而且在种、肥间能形成一定厚度(一般在3cm以上)的土壤隔离层，既满足作物苗期生长对营养成分的需求，又避免肥种混合出现的烧苗现象。　　应用该项技术对田块土壤处理要作业中要做到合理施用化肥，应遵循以下基本原则：　　(1)选择适宜的化肥品种。　　(2)化肥与有机肥配合施用。化肥和有机肥配合施用，利用互补作用满足各个时期作物对养分的需要。　　(3)按施肥量和各种营养元素的适宜比例搞好施肥作业。求较高，应保证土壤耕深一致，无漏耕，做到土碎田平，土壤虚实得当。

  • SPEX8000系列高能球磨机——真正实现机械合金化和纳米级研磨

    在钨金属里添加铼元素可显著提高材料的低温延展性、高温强度以及高温抗蠕变性能。当前最常用的钨铼合金里铼含量一般在3~5%，同时为了避免再结晶脆化和控制合金微观结构，一般还需要添加钾、铝、硅等合金元素。研究表明增加钨合金中铼的含量可以显著提高其合金强度和硬度，24~27%的铼含量可使钨合金获得最理想的强度和延展性等综合表现性能，且不必添加其他合金成分。但对于含铼24%以上的钨铼合金，采用热机制备方法容易形成σ硬脆相而割裂机体。因此通过机械合金化手段是制备高性能钨铼合金的唯一有效手段。实验过程：将钨粉末和铼粉末按4：1的比例装入碳化钨研磨罐，以避免元素污染，在SPEX8000系列高能球磨机中研磨，并采用X射线衍射和电子显微镜技术实时监测研磨过程。结果表明：研磨14h后，形成了平均尺寸在5~7nm的钨铼过饱和固溶体粉末；研磨24h后，平均尺寸为5~6nm，而且只形成了相当少的σ相。最后将机械合金化手段制备的钨铼纳米晶粉末，通过烧结方法制备出高密度、高纯净的钨铼合金。文献原文见附件。

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  • 万立骏/郭玉国课题组单晶高镍正极材料机械化学失效研究取得新进展
    实现“双碳”目标的时代背景下迫切需要发展高效电能存储技术，锂离子电池作为最先进的电化学能源储存器件之一，在便携式电子设备及电动汽车等领域得到广泛应用。其中高镍正极材料由于具有高容量和低成本的特点，是最有前景的高比能锂离子电池正极材料之一。然而高镍正极材料严重的界面副反应与充放电过程的体积形变导致容量衰减快、安全性差与机械失效等问题，严重限制了其大规模商业应用。纳米晶粒长大成微米级单晶颗粒，不仅能够降低材料比表面积、减少界面副反应提高安全性，而且还能消除多晶二次球颗粒晶间裂缝问题，使高镍正极材料的安全性得到提高。 在国家自然科学基金委、科技部和中科院的支持下，化学所分子纳米结构与纳米技术院重点实验室万立骏/郭玉国课题组近年来在单晶高镍正极材料研究中不断取得新突破。例如：针对单晶高镍正极材料动力学缓慢问题，系统研究了单晶高镍正极材料Li+扩散机制，提出了高价态过渡金属离子表面梯度掺杂以提高Li+扩散动力学方法（Angew. Chem. Int. Ed. 2021, 60, 26535）。针对高镍正极严重界面副反应问题，建立了界面化学反应以实现均匀浸润的表面包覆方法，开发了多种单晶正极材料界面稳定化技术。如：利用磷钼酸与表面残锂发生反应，在单晶颗粒表面构筑了Li4MoO5离子导体包覆层（Nano Energy. 2021, 87, 106172）；利用Al(NO3)3、(NH4)2HPO4和表面残留锂反应，构筑Li3PO4-AlPO4双功能复合包覆层方法（Nano Energy. 2022, 94, 106901）。针对传统液相界面改性工艺流程长、复杂且成本高的问题，提出气相界面处理方法，成功在高镍正极材料表面构筑了厚度可控的致密无定形Li2CO3纳米包覆层，并发现电化学循环过程中Li2CO3与电解液反应原位转化成稳定的无机富氟正极/电解质界面相，显著提高了材料的电化学性能（Adv. Mater. 2022, 34, 2108947）。 除上述问题以外，由于高镍正极所属的层状过渡金属氧化物正极的晶体结构特点，机械化学失效（滑移、裂缝和扭折）成为其商业应用面临的另一重要科学问题。最近，课题组与中科院物理所肖东东等合作在高镍单晶正极的机械化学行为研究方面取得新进展。通过对高镍单晶正极在充放电过程中的滑移现象进行深入研究，在原子尺度上揭示了滑移的不同表现形式和过渡金属离子层内迁移的运动过程。基于实验与理论计算，提出了减少氧空位以提高位错运动势垒，进而抑制材料层间滑移和裂缝的改性方法（图1）；低氧空位单晶高镍正极材料表现出更优异的电化学性能，实验验证了该方法的可行性，为设计构筑高性能单晶高镍正极材料提供了有益参考。这一研究成果近期发表在J. Am. Chem. Soc. 2022, 144, 11338–11347上。 图1 氧空位影响层状过渡金属氧化物正极平面滑移的动力学机制示意图。 　　分子纳米结构与纳米技术院重点实验室 2022年9月28日
    时间： 2022-09-29
    作者： 葱头
  • 广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院预算1700万采购化学机械研磨机（CMP）
    p 8月17日，广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院发布《广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院化学机械研磨机（CMP）采购项目单一来源采购公示》，拟采购单一来源的CMP设备。/pp一、项目信息/pp 采购人：广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院/pp 项目名称：广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院化学机械研磨机（CMP）采购项目/pp拟采购的货物或者服务的说明：/ptable style="border-collapse:collapse "tbodytr class="firstRow"td style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="49" valign="top" 包号/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="161" valign="top" 货物名称/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="67" valign="top" 数量br//tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="163" valign="top" 采购预算（人民币）/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="123" valign="top"最高限价（人民币）/td/trtrtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="49" valign="top" 1/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="161" valign="top" 化学机械研磨机（CMP）/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="67" valign="top" 1/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="163" valign="top" 1700万元/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="123" valign="top" 1200万元/td/tr/tbody/tablep CMP过程是一个动态的微细加工过程，通过化学腐蚀和机械力共同作用实现对待抛光面材料表面的平滑处理。在该过程中，抛光液中的化学组分与待抛光面材料发生反应，在待抛光材料表面形成一层很薄、结合力较弱的生成物 而抛光液中磨粒在压力和摩擦作用下对待抛光材料表面进行微量去除。此外，抛光过程抛光液还通过在抛光区域形成流体膜以及带动磨粒在抛光区运动影响抛光过程。在高端TC-SAW器件的制备过程中，叉指电极的表面粗糙度、以及叉指电极的图案化，在后续的材料生长过程中，由于保型性，最终的覆盖层上表面不是一个平整的表面，会导致波的覆盖层表面的传播特性受到影响，所以，必须要对覆盖层的上表面进行平坦化处理。另外，电极层、以及表面覆盖层的厚度也要精确的控制，从而实现对于器件频率一致性的精确控制。CMP加工的过程中，主要关注的参数包含设备参数、研磨液参数、抛光垫参数、CMP对象薄膜参数等。CMP是一种集机械学、流体力学、材料化学、精细化工、控制软件等多领城最先进技术于一体的设备，是集成电路制造设备中较为复杂和研制难度较大的设备之一。为了完成本项目，急需采购符合相关技术指标的化学机械研磨机。/pp拟采购的货物或服务的预算金额：1700.0 万元（人民币）br//pp采用单一来源采购方式的原因及说明:/pp （1）、采用单一来源采购方式的原因及相关说明：/pp化学机械抛光（CMP）是芯片制造的五大关键技术之一，其装备与工艺技术在国内长期处于空白。国内近年来也取得了较大的进步，如华海清科等公司只有8寸机， 6寸机需要定制，加价幅度较大（没有明确），没有6寸铌酸锂/钽酸锂工艺经验。/pp 尽管中国大陆地区的CMP设备市场规模较大，但高端CMP设备均依旧依赖于进口，前三大厂家应材公司、荏原公司、东京精密。应用材料的CMP设备是8寸制程开始，6寸制程现阶段只有研磨头，不配备清洗功能，且没有SAW滤波器的经验。荏原（Ebara）公司的CMP设备，有6寸支撑，至今为止，还未在大陆的SAW滤波器厂家有过购买使用经验，国能销售以及技术支持团队不能保证碎片率。东京精密的CMP设备在SAW滤波器行业具有广泛的应用，国外如村田、太阳诱电、RF360等高端滤波器厂家，都在使用其相关设备。/ppTC-SAW器件对于CMP工艺的要求较高，一直也是国内滤波器产业需要突破的技术难题，必须要求厂家具有相关的经验，且对设备具有相关的改造经验。经详细调研，东京精密的CMP设备在SAW滤波器厂家具有广泛的应用，且能够满足研发需求，所以，申请单一来源。/pp （2）各专家对相关供应商因专利、专有技术等原因具有唯一性的具体论证意见，专家的姓名、工作单位和职称：/pp专家1：姓名 蒋侬辉 工作单位 广东农科院 职称 副研 意见： 同意/pp专家2：姓名 丘麒 工作单位 华南农业大学 职称 高工 意见： 同意/pp专家3：姓名 袁敏 工作单位 华南师范大学 职称 高工 意见： 同意/pp专家4：姓名 严丽 工作单位 广东轻工职业技术学院 职称 高工 意见： 同意/pp专家5：姓名 姚宇江 工作单位 华南师范大学 职称 高工 意见： 同意/pp （3）专家小组综合意见：/pp该项目采购设备之化学机械研磨机（CMP），经市场调研，满足采购人技术需求的供应商只有一家，为满足采购人的科研需求，建议使用单一来源采购方式进行。/pp二、拟定供应商信息br//pp 名称：苏州阿尔泰克电子科技有限公司/pp 地址：苏州高新区科发路101号520室/pp三、公示期限/pp 2020年08月17日 至 2020年08月24日 （公示期限不得少于5个工作日）/pp公告链接：a href="http://www.ccgp.gov.cn/cggg/dfgg/dylygg/202008/t20200817_14846803.htm" target="_blank"中国政府采购网/a/ppbr//p
    时间： 2020-08-18
    作者： KPC
  • 培安：SPEX机械合金化可被称为研磨应用的“珠穆朗玛峰”
    p style="text-align: justify text-indent: 2em "span style="text-indent: 2em "机械合金化（MA）是指利用机械能的作用使材料的组元在固态下实现合金化的材料制备技术，而高能球磨是实现MA的主要方法。/span/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "为了帮助业内人士了解机械合金化最新技术以及研磨仪最新应用等内容，仪器信息网特别策划了“研磨仪VS机械合金化”专题，并邀请到培安公司董事长刘伟就相关问题发表了看法。/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 450px height: 300px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202009/pic/93dd3f19-1c43-44b9-9448-bda62af2adfd.jpg" width="450" height="300" border="0" vspace="0" title="" alt=""//pp style="text-indent: 0em text-align: center "strong style="text-indent: 0em "培安公司董事长 刘伟/strong/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "strongspan style="color: rgb(0, 112, 192) "仪器信息网：请您谈一谈培安公司的发展历程，以及培安在中国市场的发展历程？/span/strong /pp style="text-align: justify text-indent: 2em "strong刘伟：/strong培安公司是最早的来到中国的外企公司，80年代末就已经在北京开设了办事处。当年培安公司和美国贝尔德公司是同一个股东的兄弟公司，后来贝尔德被热电公司兼并，所以培安成了一独立公司。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "我有幸加入培安公司亲历了中国改革开放所有的过程，一路走来，我们认为中国现在取得的成就来之不易，而欧美也是跟中国的改革开放一起成长起来的。全球化自由贸易没有国界，科学也是没有国界的，全球化是人类命运共同体的基础。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "培安公司自成立以来，一直致力于为国内用户提供最先进的科研仪器和最新的科研技术，旨在为提高祖国的科研实力做贡献。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "例如，培安公司所代理的美国CEM公司的微波产品，几乎垄断了所有的微波化学的初创发明，如微波消解仪，萃取仪，灰化仪，微波有机合成和微波多肽合成。从多模道单模到环型单模，开创和领导了整个微波化学的发展。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "例如，培安公司所代理的美国SPEX公司的研磨产品，组织研磨、冷冻研磨、三维高能球磨都是SPEX独创的，开拓和引领了样品粉碎产品的发展方向。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "还有像美国ISCO公司是多通道平行和连续制备色谱的发明者，美国HANSON公司是药物溶出之父等，这些公司这种对科学的开拓精神，值得我们由衷的尊敬。同时经过长时间的积累和沉淀，无论是产品设计、产品应用还是售后维护，都拥有丰富的经验。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "strongspan style="color: rgb(0, 112, 192) "仪器信息网：贵公司的研磨仪产品有哪些独特优势？/span/strong/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "strong刘伟：/strong机械合金化最早是由美国国际镍公司的本杰明（Benjamin）等人，于1969年前后研制成功的一种新的制粉技术，并被成功应用到弥散强化高温合金的制备中。机械合金化是一个复杂的过程，要获得理想的相和微观结构，对实施机械合金化的高能球磨机提出了最高的要求，因此机械合金化也被称之为研磨应用的“珠穆朗玛峰”。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "首先，球磨设备要具备足够高的研磨能量，增加研磨介质，研磨罐和物料粉末撞击力和摩擦力，为物料粉末达到原子间结合提供提供足够高的动力源泉。SPEX高能球磨仪采用更有效的∞式三维运动方式，其碾磨能量密度达到传统行星式二维运动的6-8倍。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "其次，研磨时间也是影响机械合金化效果的重要因素，随着研磨的进程，合金化程度会越来越高，因此需要球磨设备提供足够长时间的稳定研磨能力。SPEX高能球磨仪机械工作耐久性极限达10500分钟，充分保证了机械合金化进程的有效性。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "最后，研磨温度也是机械合金化进程中必须考量的重要因素，因为无论机械合金化的最终产物是固溶体、金属间化合物、纳米晶、还是非晶相都涉及到高温扩散降解问题，研磨温度越高，合金化产物高温扩散降解越快，合金化效率越低下。SPEX独家专利设计的∞式三维运动方式，更高比例输出正面撞击力，而非摩擦力，因此热生成更低，合金化效率更高。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "目前，全世界范围内已有数千篇使用SPEX高能球磨仪做机械合金化和纳米材料研究的文献，SPEX机械合金化也在真正意义上被称为研磨应用的“珠穆朗玛峰”。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "strongspan style="color: rgb(0, 112, 192) "仪器信息网：市场上的研磨仪产品还需要在哪些方面进行改进或完善来适应日趋多样化的应用需求？/span/strong/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "strong刘伟：/strong研磨仪功能主要分为混合、粒径粉碎以及机械合成。传统二维弧形摆动和行星式研磨仪完全可以满足混合和粒径粉碎的需求，但对能量需求更高的机械合成应用还无法满足。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "SPEX高能球磨机在机械合金化领域一枝独秀，是全世界各大高校、科研单位新材料研究的核心利器。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "strongspan style="color: rgb(0, 112, 192) "仪器信息网：请问您如何看待中国市场的需求及发展潜力？贵公司接下来有哪些发展规划？/span/strong/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "strong刘伟：/strong2020是多灾多难的一年，对于经济来说，2019年延续下来的中美贸易战硝烟弥漫，二月初新冠疫情爆发，对中国经济，乃至世界经济都是双重的打击，中美市场均面临挑战。但中国具有体制优势，通过严防死守，迅速从这场灾难中脱身，已开始全面复工复产。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "我认为中国市场还是具有很大的发展潜力的。培安依然会坚持引进世界最先进的科研仪器和最新的科研技术，为提高我们祖国的科研实力做贡献。/ppbr//p
    时间： 2020-09-08
    作者： 葱头
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