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PVA Tepla拥有35年以上的等离子系统的设计和制造经验,是世界上最大的等离子清洗机的供应商之一。作为等离子体应用技术的世界领先者,PVA Tepla的等离子设备广泛的应用在半导体、生物医疗、纳米材料、光学电子、平板显示及通用工业领域。在世界范围内超过2000台设备的良好运行,充分证明了PVA Tepla等离子系统的优越品质。
(1)精密电子原件、光学原件等表面的超精密清洁。
(2)生物芯片、传感器、纳米材料、聚合物表面的改性和活化。
(3)医疗器械、诊断装置的改性和活化。
(4)印刷电路板(PCB)中的整孔、去胶渣。
(5)去除光刻胶、扫底膜、封装前清洗活化。
(6)太阳能电池片的边缘刻蚀。
型号:IoN 40
整机尺寸:775mm×723mm×781mm(宽×高×深)
反应室尺寸:330mm×229mm×483mm(宽×高×深)
电极板:3层或5层可抽卸平板电极或笼式电极
射频电源:13.56MHz,0 ~ 600W ,可选配100KHz低频电源
匹配网络:阻抗自动匹配
气路系统:标准配置为2路工艺气体,500SCCM,最多可扩展至8路。
操作系统:PC全自动操作或手动操作,LCD触摸屏控制。
(1)PC全自动操作,保证了工艺参数的高可控性、高精度以及工艺的高可重复性。
(2)LCD触摸屏控制,设备实际运行中的射频功率、气体流量、压力、工艺时间等参数都时时显示在触摸屏上,便于监测和控制,也可通过以太网实现远程操作和监控。
(3)安全连锁报警系统,用户自定义错误提示信息,避免设备任何的带错运行。
(4)0 ~ 600W 射频功率,自动匹配,适用于处理不同材质的样品。
(5)3层或5层可抽卸平板电极或笼式电极,可处理各种不同尺寸、形状的样品。
(6)标准配置为2路工艺气体,500SCCM,最多可扩展至8路不同的工艺气体,工艺可选择范围更广。
(7)干法处理工艺,无须任何化学试剂,安全、绿色、环保。
(8)ISO9001认证、CE认证。
用户单位 | 采购时间 |
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航天9院 | 2009-12-25 |
航天3院 | 2009-12-02 |
南京工业大学 | 2008-09-05 |
重庆大学 | 2009-10-08 |
中国科学院 | 2009-12-01 |
比亚迪 | 2009-03-01 |
中国电子科技集团 | 2009-12-01 |
上海技术物理研究所 | 2008-02-04 |
迪玛克药业 | 2009-01-01 |
施奈德工业上海 | 2008-07-02 |
通用电气 GE | 2007-12-03 |
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