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IoN Wave 10 等离子去胶机
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IoN Wave 10 等离子去胶机

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IoN Wave 10

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北京哲勤科技有限公司
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IoN Wave 10等离子去胶机是我们在微波等离子处理工艺中的最新产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适中、性能先进，特别适用于小型工厂、科研院所和创立初期的公司等。
 
IoN Wave 10使用最新的、性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现最严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、MEMS/MOEMS、生物器件等领域。
 
IoN Wave 10占地面积很小，安装和维护简单。依靠微波等离子技术，该设备在提供极高的光刻胶灰化速度的同时，最大程度的降低了产品暴露在静电放电（ESD）中。
 
先进的功能性：
  •  台式设计，占地面积小
  •  石英腔室最大可容纳8寸的晶圆，最多同时装载25片6寸晶圆
  • 使用Windows操作系统的工业计算机控制
  • 符合Semi E95-1101要求的图形用户界面（GUI）
  • 软件提供了不同的用户访问权限：操作员、工艺编写、维护
  • 通过以太网进行远程工艺监测
  • 机载诊断功能和报警记录
  • 工艺编辑软件提供了快速灵活的步骤控制功能
  • 液晶触摸屏（LCD）操作面板和键盘
  •  基于在线网络的模拟、培训和支持程序
  •  安装简单快捷
 
典型应用
  •  去除光刻胶
  •  晶圆打胶
  •  湿法刻蚀前的晶圆清洁
  •  去除SU-8
  •  刻蚀钝化层
  •  失效分析中的器件开封
  •  清洁和表面活化
  •  化学微量分析中的低温材料灰化
  •  过滤器和滤膜的清洁
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