圆形霍尔等离子体源
圆形霍尔等离子体源

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核心参数
仪器简介:

+ 增透膜

+ 眼镜镀膜

+ 光纤光学

+ 高反镜

+ 热/冷反光镜

+ 低漂移滤波器

+ 带通滤波器

+ 在线清洗

+ 类金刚石沉积
作 用
+ 改善薄膜的生长、优化薄膜结构

+ 增加镀膜的一致性和重复性

+ 低温高速率镀膜

+ 清除工件表面水和碳氢化合物

+ 增加薄膜密度

+ 降低内应力低

+ 清除结合力弱的分子

+ 反应气体活度增加

+ 薄膜成分易于控制
特 点
+ 结构先进

+ 工作稳定

+ 耐高温环境

+ 适用反应气体

+ 等离子体束流大

+ 均匀性强/能量可调

+ 样品悬浮电位显示

+ 安装简便/运行成本低

+ 维护操作简单



技术参数:

+ 增透膜

+ 眼镜镀膜

+ 光纤光学

+ 高反镜

+ 热/冷反光镜

+ 低漂移滤波器

+ 带通滤波器

+ 在线清洗

+ 类金刚石沉积
作 用
+ 改善薄膜的生长、优化薄膜结构

+ 增加镀膜的一致性和重复性

+ 低温高速率镀膜

+ 清除工件表面水和碳氢化合物

+ 增加薄膜密度

+ 降低内应力低

+ 清除结合力弱的分子

+ 反应气体活度增加

+ 薄膜成分易于控制
特 点
+ 结构先进

+ 工作稳定

+ 耐高温环境

+ 适用反应气体

+ 等离子体束流大

+ 均匀性强/能量可调

+ 样品悬浮电位显示

+ 安装简便/运行成本低

+ 维护操作简单



主要特点:

+ 增透膜

+ 眼镜镀膜

+ 光纤光学

+ 高反镜

+ 热/冷反光镜

+ 低漂移滤波器

+ 带通滤波器

+ 在线清洗

+ 类金刚石沉积
作 用
+ 改善薄膜的生长、优化薄膜结构

+ 增加镀膜的一致性和重复性

+ 低温高速率镀膜

+ 清除工件表面水和碳氢化合物

+ 增加薄膜密度

+ 降低内应力低

+ 清除结合力弱的分子

+ 反应气体活度增加

+ 薄膜成分易于控制
特 点
+ 结构先进

+ 工作稳定

+ 耐高温环境

+ 适用反应气体

+ 等离子体束流大

+ 均匀性强/能量可调

+ 样品悬浮电位显示

+ 安装简便/运行成本低

+ 维护操作简单

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