看了null的用户又看了
PVA Tepla拥有35年以上的等离子系统的设计和制造经验,是世界上最大的等离子清洗机的供应商之一。作为等离子体应用技术的世界领先者,PVA Tepla的等离子设备广泛的应用在半导体、生物医疗、纳米材料、光学电子、平板显示及通用工业领域。在世界范围内超过2000台设备的良好运行,充分证明了PVA Tepla等离子系统的优越品质。
(1)精密电子原件、光学原件等表面的超精密清洁。
(2)生物芯片、传感器、纳米材料、聚合物表面的改性和活化。
(3)医疗器械、诊断装置的改性和活化。
(4)印刷电路板(PCB)中的整孔、去胶渣。
(5)太阳能电池片的边缘刻蚀。
型号:M4L
整机尺寸:820mm×730mm×820mm(长×宽×高)
反应室尺寸:330mm×229mm×508mm(宽×高×深)
电极板:3层或5层可抽卸平板电极或笼式电极
射频电源:13.56MHz,0 ~ 600W
匹配网络:阻抗自动匹配
气路系统:标准配置为2路工艺气体,500SCCM,最多可扩展至4路。
操作系统:PC全自动操作或手动操作,LCD触摸屏控制。
(1)PC全自动操作,保证了工艺参数的高可控性、高精度以及工艺的高可重复性。
(2)LCD触摸屏控制,设备实际运行中的射频功率、气体流量、压力、工艺时间等参数都时时显示在触摸屏上,便于监测和控制,也可通过以太网实现远程操作和监控。
(3)安全连锁报警系统,用户自定义错误提示信息,避免设备任何的带错运行。
(4)0 ~ 600W 射频功率,自动匹配,适用于处理不同材质的样品。
(5)3层或5层可抽卸平板电极或笼式电极,可处理各种不同尺寸、形状的样品。
(6)标准配置为2路工艺气体,500SCCM,最多可扩展至4路不同的工艺气体,工艺可选择范围更广。
(7)干法处理工艺,无须任何化学试剂,安全、绿色、环保。
(8)ISO9001认证、CE认证。
最多添加5台