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PVA Tepla拥有35年以上的等离子系统的设计和制造经验，是世界上最大的等离子清洗机的供应商之一。作为等离子体应用技术的世界领先者，PVA Tepla的等离子设备广泛的应用在半导体、生物医疗、纳米材料、光学电子、平板显示及通用工业领域。在世界范围内超过2000台设备的良好运行，充分证明了PVA Tepla等离子系统的优越品质。
（1）精密电子原件、光学原件等表面的超精密清洁。
（2）生物芯片、传感器、纳米材料、聚合物表面的改性和活化。
（3）医疗器械、诊断装置的改性和活化。
（4）印刷电路板（PCB）中的整孔、去胶渣。
（5）太阳能电池片的边缘刻蚀。
型号：M4L
整机尺寸：820mm×730mm×820mm（长×宽×高）
反应室尺寸：330mm×229mm×508mm（宽×高×深）
电极板：3层或5层可抽卸平板电极或笼式电极
射频电源：13.56MHz，0 ~ 600W
匹配网络：阻抗自动匹配
气路系统：标准配置为2路工艺气体，500SCCM，最多可扩展至4路。
操作系统：PC全自动操作或手动操作，LCD触摸屏控制。
（1）PC全自动操作，保证了工艺参数的高可控性、高精度以及工艺的高可重复性。
（2）LCD触摸屏控制，设备实际运行中的射频功率、气体流量、压力、工艺时间等参数都时时显示在触摸屏上，便于监测和控制，也可通过以太网实现远程操作和监控。
（3）安全连锁报警系统，用户自定义错误提示信息，避免设备任何的带错运行。
（4）0 ~ 600W 射频功率，自动匹配，适用于处理不同材质的样品。
（5）3层或5层可抽卸平板电极或笼式电极，可处理各种不同尺寸、形状的样品。
（6）标准配置为2路工艺气体，500SCCM，最多可扩展至4路不同的工艺气体，工艺可选择范围更广。
（7）干法处理工艺，无须任何化学试剂，安全、绿色、环保。
（8）ISO9001认证、CE认证。
