曝光模式： 投影式
产地类别： 国产
分辨率： 依次开发500 nm、400 nm、300 nm
光源： UV-LED
光源波长： 365 nm
光强均匀性： ±10%
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步进式光刻机 LSLM-500产品介绍：
LSLM-500步进式光刻机是一种用于制造集成电路（IC）的装置，其在微小的硅片表面上可以形成数百万个微观电路元件，是复杂工艺的重要组成部分。
步进式光刻机 LSLM-500主要用途：
步进式光刻可将掩模版图案缩小比例转移到待曝光的基板表面。可广泛应用于中小规模集成电路、 半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。
步进式光刻机 LSLM-500主要规格：
可将掩模版图案同比例缩小5倍进行曝光；最小线宽：达500nm；可以配合使用多种型号的正光阻 和负光阻。
可溅镀的材料：金属类Al、Cu、Gr、Co、Fe、Ni、Pt、Ag、Ti、Ta；合金类NiFe、CoFe、CoFeB、NiMn、 FeMn、TbFeCo；氧化物类MgO等。 应用领域：中小规模集成电路；半导体元器件；声表面波器件的研制和生产。
产品特点：
高精准度； 桌上型、体积小、内建计算机；
可客制化硬件与软件，以符合业界需求， 弹性适用于各种基底与形状。
参数：
产品货期: 30天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
安装调试时间: 到货后7天内
电话支持响应时间: 2小时内
是否提供维保合同: 是
维修响应时间: 3天内
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