2022/07/29 09:55
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真空电阻热蒸发镀膜机(高真空镀膜机)采用电阻热蒸发技术,它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验,可根据用户要求专门订制;可用于材料的物理和化学研究;可用于制备金属导电电极;可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。
设备构成
-单镀膜室
-单镀膜室+进样室
-单镀膜室+手套箱(可将镀膜室放在手套箱内)
-单镀膜室+进样室+手套箱(可将镀膜室放在手套箱内)
-多镀膜室+样品传递室+手套箱(组成团簇式结构,样品传递采用真空机械手)
设备组成
电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵(或冷泵)真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构,膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。
热蒸发源类型和数量,可根据用户需要进行配置。
可选件:膜厚监控仪,恒温制冷水箱。
热蒸发源种类及配置
电阻热蒸发源组件:数量:1~12套(可根据用户要求配装);
电阻热蒸发源种类:钽(钨或钼)金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件(配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚)、束源炉热蒸发组件(配石英坩埚或氮化硼坩埚)。
高真空电阻热蒸发镀膜机(高真空镀膜机) 工作条件(实验室应具备的设备工作条件)
供电:4kW,三相五线制~ AC 380V
工作环境湿度:10℃~ 40℃
工作环境温度:≤50%
冷却循环水:0.2m3/h,水温18℃~ 25℃
水压:0.15MPa ~ 0.25MPa
真空性能
极限真空:7×10-5Pa~7×10-6Pa
设备总体漏放率:关机12小时,≤10Pa
操作方式
手动、半自动
1-3-6-3-2-7-6-8-3-9-3
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