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核心参数
产地类别： 进口
晶圆尺寸： 4-8寸
磨盘个数： 1
转速： 0 ~ 200 rpm
尺寸（L*W*D）： 1000 × 2030 × 2100mm
第一、产品简介：
韩国CTS公司的AP200型CMP抛光机是一款科研级的CMP系统，采用CTS公司工业级的设计理念，为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套研究级别的高端设备，可兼容4寸，6寸，8寸样品。
第二、产品主要特色：
1、CMP抛光头：采用气囊加载模式，核心区，边缘区，保持环三区压力控制，可得到良好的工业级抛光效果；
2、自动上下片，自动抛光，干进湿出；
3、抛光垫修整器：摆臂式设计，由10个传感器分别控制10个区域的下压力，可保证抛光垫高水平修整；
4、抛光垫修整器：具有在线修整与离线修整两种模式；
5，工艺数据可实时监测；
6、可存储多个Recipe.
第三、核心技术参数：
抛光头 | 兼容4寸，6寸，8寸 |
抛光头摆动范围 | ±15mm |
抛光头转速 | 0 -200 rpm |
抛光头加压方式 | 气囊柔性加压背压功能（3区加压） |
抛光头压力范围 | 0.14-14 psi |
抛光盘尺寸 | 20英寸 |
抛光盘转速 | 0 -200 rpm |
蠕动泵 | 2个 |
抛光液流速 | 20-500 cc/min |
抛光垫修整器分区 | 10区 |
抛光垫修整器在线扫描速度 | 10sweeps/min |
抛光垫修整器下压力 | 3-20lbs |
抛光垫修整器转速 | 0-150rpm |
CMP后片内非均匀性WIWNU 1sigma，去边5mm | <5% |
CMP后片间非均匀性WTWNU 1sigma，去边5mm | <3% |
仪器尺寸 | 1000×2030×2100(W x L x H, mm) |
冷却系统 | 可选 |
四，应用实例：
CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜，STI等
工艺开发 可协助客户进行各类材料/薄膜等的CMP工艺技术开发
CTS化学机械平坦CMP设备AP200的工作原理介绍
化学机械平坦CMP设备AP200的使用方法?
CTSAP200多少钱一台?
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企业名称
上海艾尧科学仪器有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司
信用代码
91310230MA1K17UD9U
成立日期
2018-07-06
注册资本
300
经营范围
仪器仪表销售、维修,机械设备、环保设备、机电设备及配件、计算机软件及辅助设备、实验室设备、金属材料、橡塑制品、家用电器、照明设备、电气设备、消防器材、化工产品(除危险化学品、监控化学品、烟花爆竹、民用爆炸物品、易制毒化学品)、建筑材料、电缆电线、电子产品、通信设备、文化办公用品、工艺礼品(象牙及其制品除外)、日用百货、普通劳防用品、服装鞋帽的销售,市政工程,环保工程,机电设备安装工程,机械设备租赁,商务信息咨询,会务服务,展览展示服务,从事机械、仪器仪表、信息技术领域内的技术开发、技术转让、技术咨询、技术服务,物业管理,房地产经纪,市场营销策划,设计、制作各类广告,货物运输代理,从事货物及技术的进出口业务。【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】
上海艾尧科学仪器有限公司
公司地址
浦东新区建韵路500号
客服电话
公司名称： 上海艾尧科学仪器有限公司
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