积极响应国家利好政策： Park Systems 支持设备更新，助力节能提效

积极响应国家利好政策：

Park Systems 支持设备更新，助力节能提效

近日，国务院常务会议审议通过《推动大规模设备更新和消费品以旧换新行动方案》，这将有力促进投资和消费。为加快构建新发展格局、推动国民经济高质量发展，工业、农业、教育、医疗等多个领域，都迅速掀起了设备更新的浪潮。

作为原子力显微镜的创新者和引领者，Park Systems 将积极响应此项国家利好政策，为Park客户提供优质高效便捷的设备更新服务。Park Systems始终以“创新 高能 卓越 ”为企业理念，致力于帮助客户追求前沿的发现和创新，确保Park Systems的原子力显微镜始终走在研究事业的前沿。我们坚定承诺不断满足客户的需求，为他们提供满意的原子力显微镜使用体验。

此次大规模设备更新和旧换新活动，Park 精心为大家准备了设备更新换购单，快来看一看吧~

Park FX40

专为高效率的原子力显微镜使用和专为高效率的原子力显微镜使用而设计

基于人工智能的自动化:是一款能够自动化设置和扫描的原子力显微镜

提供早期警告系统和故障保护，以保护正在研究中的样品

配备环境传感器，便于对温度和湿度进行精准控制，以实现定制设置

Park FX40改变了传统原子力显微镜的操作流程，通过突破性的自主性和前沿技术， 将用户的利益置于首位。它集成了智能和自动化技术，能够自动执行设置和扫描任务， 使研究人员摆脱繁琐的手动操作。这包括探针识别、准直激光、样品定位和成像优化。 这使用户能够更专注于他们的研究工作。借助于优秀的机电性能、降噪技术和多样品 成像功能，FX40简化了数据收集、研究工作和数据发布流程，从而加速了科学的探索 发现和创新进步。

Park NX10

高精准度和高分辨率成像，  

拥有业界领跑级的低噪音水平

灵活的开放式访问，可根据特定需求进行定制，并配备一系列附件

全面的扫描探针显微镜（SPM）模式及兼容选项和升级

支持在液体环境中使用扫描离子导电模块（SICM），适用于细胞生物学和分析化学

Park NX10 是科学研究和工程创新领域备受信赖的主力原子力显微镜。凭借其可靠 的精准度和用户友好的操作界面，科学家和工程师能够以高纳米分辨率获取可靠的 数据。Park NX10 提供多种测量模式和附件，使用户能够轻松为其个性的项目定制设置。

Park NX20

介质和基底的表面测量

Nx20可测量200 mm晶圆的全部区域，无需手动晶圆即可跑满整个200 mm晶圆片

缺陷检测成像和分析功能

具备高分辨率电扫描模式

用于进行3D结构研究的侧壁测量

Park NX20是故障分析和半导体计量的理想解决方案。它提供准确、精准和可重复的 测量，采用非接触模式以保持针尖的锐度，实现快速缺陷成像，并使用解耦的XY扫描 系统进行3D测量。低噪声的Z探测器确保在高速扫描期间获得精准的形貌测量，避免 错误。Park NX20具备表面粗糙度测量、缺陷检测成像、高分辨率电子扫描和侧壁测 量功能，适用于解决复杂的半导体挑战和大样品研究.

Park NX-Hivac

用于故障分析和对大气敏感材料研究的高真空原子力显微镜

在高真空条件下进行纳米尺度的电学测量，特别是用于前沿半导体故障分析的SSRM和SCM

具备自动真空抽气和通风的高度可用性

Park NX-Hivac 是专为半导体故障分析和对大气敏感材料研究而设计的高真空 AFM。 其在高真空环境中运行，确保更高的准确性和重复性，大大减少针尖和样品的损坏。 该系统在多个应用中发挥关键作用，其中包括使用扫描扩散电阻显微镜 (SSRM) 评估 掺杂剂浓度。借助Park Systems直观的Hivac管理器和自动真空控制，Park NX-Hivac 简化了真空过程，提供快速的真空条件。因此，Park NX-Hivac在无氧真空环境中提供高精度的研究。

Park NX-IR

用于化学分析和材料成像的纳米级红外光谱系统
Park NX-IR 有效融合了崭新的红外光谱技术、Molecular Vista 的光诱导力显微镜（PiFM)以及行业前沿的 Park AFM 技术。PiFM 红外光谱采用非接触式检测技术，在空间分辨率、测量可靠性和样品安全性方面皆优于现有的光谱技术，包括轻敲PTIR(光热诱导共振）。Park NX-IR 中的 PiFM不仅能够进行高分辨率红外光谱分析，还能进行高质量的红外吸收材料成像，以进行准确的化学成分测量。高分辨率红外光谱与传统的FTIR(傅里叶变换红外）光谱保持着密切的相关性。此外，Park NX-IR 还可以通过检测技术、直接驱动和边带双峰检测的变化提供不同深度的有价值的材料信息。

Park Accurion EP4

成像椭偏仪

EP4是新一代的成像椭偏仪，它有机地结合了传统光谱椭偏仪和光学显微镜技术。这使得我们能够在小至1µm的微结构上以椭偏仪的灵敏度表征薄膜厚度和折射率。显微镜部分能够同时测量光学系统全视场范围内的所有结构。传统的椭偏仪注重于测量整个光斑，而不能实现高精度的横向分辨率，并且需要逐点测量。

EP4的显微镜功能使得我们能够获得微观结构的椭偏增强对比图像。在相机的实时图像中可以看到折射率或厚度的微小变化。允许识别椭偏测量的感兴趣区域（选区测量），以获得厚度（0.1 nm-10µm）和折射率的值。单次测量就可以获取厚度和折射率横向变化的3D图。

各种联用技术，例如原子力显微镜（AFM）、石英晶体微天平（QCM-D）、反射式测量仪、拉曼光谱仪等等，可以对同一区域进行原位分析。另有在各种受控温度和气氛环境下测量的附件可选。

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