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类金刚石碳(DLC)摩擦涂层设备

品牌:
产地: 美国
型号: DLC coating
报价: 面议
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核心参数

仪器种类: 磁控溅射镀膜机

产地类别: 进口

应用领域: 切割工具

基片尺寸: 12英寸

靶材: TiN, MoS, WN

基片温度范围: 800度

成膜厚度均匀性: 3%

极限真空: 10E-8Torr

产品介绍
简介
该设备是一个多功能平台,整合了多种沉积技术,如类金刚石碳(DLC)、CrN、TaC、TiC、TiN、MoS2和WC-C涂层,应用于航空航天、汽车、国防、医疗器械等多个领域。它支持高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)、反应式磁控溅射、电感耦合等离子体源(ICP)及等离子体增强化学气相沉积(PECVD)等技术,具备高效、灵活和适应性强的特点,特别适合于耐磨涂层的制备。

一个多功能平台,旨在结合围绕“摩擦学”耐磨性的各种沉积技术,其中包括类金刚石碳(DLC)等低摩擦涂层。


这种DLC摩擦沉积系统还可以沉积CrN,TaC,TiC,TiN,MoS2和WC-C,这只是许多行业中用于功能性涂料的几种常见材料,包括航空航天,汽车,国防,医疗器械,发电,石油和天然气等。

这种多用途设备可以提供的沉积技术包括:

  • 高功率脉冲磁控溅射 (HIPIMS)

  • 反应式磁控溅射

  • 电感耦合等离子体源 (ICP)

  • 等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)


高功率脉冲磁控溅射 (HIPIMS)

高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)是一种技术,它允许电离一部分溅射靶材,并通过简单地添加HIPIMS电源来控制地增加电离物质的能量。这是通过在很短的时间内向磁控管施加极高的功率(数百千瓦到兆瓦)来实现的。以这种方式施加功率会产生极高的电子(等离子体)密度,在溅射物质离开靶材后将其电离。

相比之下,当使用直流或脉冲直流溅射时,只有一小部分(<5%)溅射靶材被电离。通过适当调整脉冲参数,可以实现 5 – 100% 的电离水平。铜等材料可以完全电离,甚至可以维持不使用氩气的“自溅射”状态。大多数其他材料仍然需要一些惰性的溅射气体来维持放电。

在负溅射脉冲中添加相邻的正脉冲可以“调整”溅射离子加速向基板的能量。因此,可以轻松控制涂层特性,如密度、电阻率和应力。由于离子的能量可以直接从靶标控制,因此可以消除对底物偏置的需求。

这为在低温下和非导电基材(如聚合物和玻璃)上创建致密、粘附良好的涂层打开了大门。此外,三维结构,如沟槽和柱子,可以保形涂层。

HIPIMS电源可用于驱动此DLC摩擦学系统,使用小至2“圆形磁控管以及长达1m或更长的大型平面或可旋转磁控管。


反应式磁控溅射

反应磁控溅射是一种用于从金属靶材沉积材料的氧化物、氮化物和碳化物的工艺。传统上,陶瓷是用射频功率溅射的,这具有极低的沉积速率,并且需要在镀膜系统中“包含”射频功率。

在某些情况下,陶瓷涂层可以用脉冲直流功率沉积,带有“中毒”靶材,其中反应气体与靶材表面反应以形成“中毒或陶瓷层”,但沉积速率也非常低,涂层性能可能不是最佳的。

半芯 8600 DLC 摩擦涂布机

在反应溅射工艺中,反应气体分压的控制方式使靶材保持“半金属”状态,这允许高沉积速率,而基板上产生的涂层是化学计量陶瓷。

对于反应溅射,控制系统中反应气体的分压是关键。这可以通过间接测量、目标电压/电流或光学发射光谱法或直接通过分压测量来实现。然而,哪种技术最合适,产生最稳定和可重复的工艺取决于要沉积的材料和系统设计。

例如,如果要将SiO2沉积到聚合物网上,可以使用电压/电流或直接光发射进行控制。但是,如果要将TiN沉积到批量涂布机行星夹具上的切削工具上,则无法进行电压/电流控制,远程光发射监测是最合适的。

反应溅射目前应用广泛。它可以与HIPIMS技术结合使用,以拓宽金属氮化物和氧化物沉积的工艺窗口。光学和透明导电氧化物(TCO)涂层可以以高速率沉积。


电感耦合等离子体源 (ICP)

等离子体源已用于蚀刻、离子辅助沉积和等离子体增强化学气相沉积(PECVD)多年。但是,大多数来源适用于上述一个或两个过程,但不是所有上述过程。此外,传统源的可扩展性由于其操作和物理结构的物理特性而受到限制。

已经开发出电感耦合等离子体(ICP)源技术,该技术克服了污染,中和器组件磨损和可扩展性等问题。此类光源有圆形、矩形和环形光源。

它们可以在很宽的压力范围内(10e-4 至 10e-2 mbar)运行,并且可以在低能量 (15 eV) 或更高能量下运行,具体取决于工艺要求。由于它们基本上没有要“磨损”的内部部件,因此它们易于维护,并且对于长期生产活动非常坚固。

由于ICP以相对较低的能量获得高等离子体密度,因此它们适用于温度感性基板(聚合物)的等离子体功能化以及“损坏”敏感基板或结构。介电材料可以高速率从气体前体沉积,用于光学镀膜(SiO2、TiO2)以及非晶硅和类金刚石碳(DLC)镀膜的沉积等应用。这些光源也适用于使用电子束蒸发或磁控溅射和金属氮化物/碳化物的光学镀膜的“离子辅助”沉积。氟、氯和硅烷等腐蚀性气体也与这些来源相容。

圆形光源的直径从 4“ 到 12” 不等,矩形光源的长度可达 1.3 m。环形源的独特之处在于基板可以直接通过源。这允许在基材的两侧或外径上进行表面功能化或涂层。


什么是DLC涂层?

类金刚石碳涂层是地球上最坚韧的涂层之一。DLC是一类无定形碳涂层,可以具有钻石的硬度,但具有石墨的光滑度 - 两者都由碳制成。

该涂层是纳米晶金刚石和纳米晶碳化硅层的基体,使金刚石沉积具有极高的硬度和摩擦磨损的长期耐久性。

DLC涂层是一种环保工艺,可在极端条件下抵抗磨损,从高性能汽车和航空航天部件到手表,珠宝和厨具上的装饰涂层,将美观与耐腐蚀和耐刮擦性相结合。

DLC的显微硬度和光滑度使其成为一种久经考验的生物相容性涂料,是各种医疗植入物应用的理想选择。沉积可以配置为改变电流,使其表现得像半导体或绝缘体,这为医疗技术的重要和令人兴奋的新进步做出了贡献。

防止磨料磨损的出色摩擦学特性使其通常用于发动机凸轮和轴承、金属切割和钻孔设备以及剃须刀片等应用。

DLC涂层设备是一项相对较新的技术,已迅速成为广泛用途的首选应用,为您提供了一个多功能的多用途平台,使您能够结合摩擦磨损性的各种沉积技术。

我们是全球领先的电子、光学、太阳能、医疗、军事和相关高科技行业溅射设备供应商。


售后服务
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物理气相沉积DLC coating的工作原理介绍

物理气相沉积DLC coating的使用方法?

DLC coating多少钱一台?

物理气相沉积DLC coating可以检测什么?

物理气相沉积DLC coating使用的注意事项?

DLC coating的说明书有吗?

物理气相沉积DLC coating的操作规程有吗?

物理气相沉积DLC coating报价含票含运吗?

DLC coating有现货吗?

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工商信息

企业名称

科睿设备有限公司

企业信息已认证

企业类型

私人股份有限公司

信用代码

61153274-000-03-23-9

成立日期

2023-02-01

注册资本

100

经营范围

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联系方式
科睿设备有限公司为您提供类金刚石碳(DLC)摩擦涂层设备DLC coating,nullDLC coating产地为美国,属于进口物理气相沉积设备,除了类金刚石碳(DLC)摩擦涂层设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供环境控制型开尔文探针系统,科睿设备有限公司客服电话400-860-5168转3281,售前、售后均可联系。

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