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当前位置：科睿设备有限公司 > 原子层沉积设备 > 原子层沉积系统

原子层沉积系统

品牌： PVD

产地：美国

型号： AT410, AT610

报价： ¥50万 - 100万

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核心参数

产地类别：进口

衬底尺寸： 4英寸

工艺温度：室温-- 325 °C ± 1 °C

前驱体数： 5

重量： 50kg

尺寸(W x H x D)： 51cm X 71cm X 45cm

均匀性： 3%

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产品介绍

该ALD拥有达到或超过市场上其他品牌的功能，同时易于使用和维护 - 成本远低于当今市场上的价格

腔室温度：室温到325°C±1°C;
前躯体温度从室温到 150 °C ± 2 °C（带加热夹套）
市场上最小的占地面积（2.5 平方英尺），台式安装和洁净室兼容
简单的系统维护和最低的实用程序和市场上的前体使用

流线型腔室设计和小腔室体积
快速循环能力（高达 1.2nm/min Al2O3）和高曝光，提供深度渗透处理
全硬件和软硬件联锁，即使操作安全在多用户环境中

AT410 ALD 系统提供用于 TEM 和 SEM 样品制备的溅射替代方案

用于电子显微镜的样品通常受益于薄膜的添加。它通常是导电材料，例如Pt，Pd或Au。这些导电层有助于抑制电荷，减少局部光束加热引起的热损伤，并改善二次电子信号。

传统上，这些薄膜是使用PVD技术生长的。随着技术的进步，某些类型的样品不能通过PVD提供，因为需要涂层的特征无法进入现场生长线。

研究人员将受益于ALD生长的导电薄膜，因为已经开发出针对小样品导电金属生长进行了优化的系统（与台式溅射的价格点相同）

AT410 ALD 系统为保形导电薄膜提供了用于 3D 样品制备的解决方案，同时还提供目前使用溅射/蒸发生长的传统 2D 镀膜。AT 410 不仅突破了界限，而且是当前样品制备过程的有效替代品，所有这些都在台式配置中，价格相当。

沉积材料	标配沉积材料菜单	开发中	设备具备沉积能力的材料
氧化物 (A_xO_y)	Al, Si, Ti, Zn, Zr, Hf	V, Y, Ru, In, Sn, Pt	Li, Be, Mg, Ca, Sc, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Ga, Sr Nb, Rh, Pd, Sn, Ba, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd
元素 (A)	Ru, Pd, Pt, Ni, Co	Rh, Os, Ir	Fe, Cu, Mo
氮化物 (A_xN_y)	Zr, Hf, W	Ti, Ta	Cu, Ga, Nb, Mo, In
硫化物 (A_xS_y)			Ca, Ti, Mn, Cu, Zn, Sr, y, Cd, In, Sn, Sb, Ba, La, W
其它化合物	AZO (AL:ZnO), AxSiyOz ()A=Al, Zr, Hf	YSZ (yttria stabilized sirconia) ITO	Many others

售后服务

保修期： 1年

是否可延长保修期：是

现场技术咨询：有

免费培训： 1次免费培训

免费仪器保养： 3月1次

保内维修承诺：免费维修免费更换部件

报修承诺： 2小时响应

问商家

PVD原子层沉积AT410, AT610的工作原理介绍

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工商信息

企业名称

科睿设备有限公司

企业信息已认证

企业类型

私人股份有限公司

信用代码

61153274-000-03-23-9

成立日期

2023-02-01

注册资本

100

经营范围

科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )自2013年成立以来，为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的独家代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化，为广大用户提供最先进的仪器、设备，最的专业技术、服务和最真诚的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国，纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域，都需要与欧美发达国家完全接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代，我们愿意化为一座桥梁，更好的将国外高科技技术融入客户需求的解决方案中，见证祖国科技水平的提升，与祖国科技共同飞速成长。

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上海市杨浦区松花江路251弄白玉兰环保广场3号902室

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科睿设备有限公司为您提供PVD原子层沉积系统AT410, AT610，PVDAT410, AT610产地为美国，属于进口原子层沉积设备，除了原子层沉积系统的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供单离子注入聚焦离子束系统、光刻机，紫外曝光机（LED光源）、光刻机，紫外曝光机（双面，半自动）,科睿设备有限公司客服电话400-860-5168转3281，售前、售后均可联系。

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