光刻机/紫外曝光机

仪器简介：
   光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)
   原产国: 韩国MIDAS公司
   型号：MDA-400M, MDA-400LJ，MDA-600S
    又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。
    感谢南开大学，中科院半导体所,中科院长春应化所，中科院物理所，浙江师范大学使用此设备做课题研究！！
    此型号光刻机是所有进口设备中性能价格比最高的型号，达到欧美品牌的对准精度，CCD显示屏对准更为方便，液晶触摸屏操作，采用Ushio紫外灯或者LED光源，寿命长。整机效果皮实耐用，正常使用3年内不会出问题！！
    

技术参数：

1）高分辨光刻，至1um水平；

2）可使用各种掩模板，小尺寸~4英寸均可用；再大尺寸，可以定制化服务。

3）特殊的基底卡盘可定做；

4）高精度对准台及显微镜操纵器；

5）用于不同紫外曝光的高强度光学装置；

6）用于楔形补偿的空气方位系统；

7）所有部件均可接触；

8）符合人体工程学操作；

9）低成本，高品质；

10）          *两年保修

主要特点：

- 光源强度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系统控制：手动、半自动和全自动控制；
- 曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盘范围可调；
- 专利技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式
- 两个CCD显微镜系统，最大放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盘可定做；
- 具有楔形补偿功能；