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水平侧向溅射沉积系统

品牌： PVD
产地： 美国
型号： Tri-Axis
样本： 下载
报价： ¥200万 - 300万
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核心参数

仪器种类： 磁控溅射镀膜机

产地类别： 进口

应用领域： 微电子学

基片尺寸： 2-12英寸

靶材： 3英寸

基片温度范围： 室温-800度

成膜厚度均匀性： <5%

极限真空： 10E-8Torr

产品介绍

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侧向溅射

1.  技术规格

衬底温度：<100℃；在4英寸衬底上沉积厚度300nm时片内厚度不均匀性(不包括5mm边) <±5%。

2.   产品配置：

2.1 主真空室：

主真空室的内壁材料为电子级抛光，与溅射材料无任何反应；前开或者侧开式真空室；有必要的连接法兰包括泵、溅射源、气体入口、挡板、阀门、预真空室， 10cm直径的观察窗，并带有挡板。

2.2预真空室：

将基片从预真空室传送到主真空室的装置；安装基片的门有O型垫圈密封。

2.3泵与阀门：

主真空室配备20cm（8英寸）的冷泵， CTI带自动再生功能的；预真空室用分子泵，与主真空室通过阀门连接；主真空室的本底真空应该好于5×10-8τ；预真空室的本底真空好于1×10-6τ。主真空室和预真空室共用一个干泵。

主真空室应配有电离压力真空计，用于低压显示， 100mτ电容压力计显示压力，热偶或其它量表用于高压显示；预真空室配有电离压力真空计，热偶或其它量表用于高压显示；所有的量表能输出和显示。

2.4溅射源：

具有2个射频溅射源，1个射频清洗电源，2个直流溅射电源，可自动切换至任意靶位；

具有4个溅射靶位以共聚焦的方式安装，3英寸磁控靶、进气口和挡板构成；挡板用电动控制；溅射源之间有屏蔽保护，以防止靶材之间互相污染。

在4英寸晶圆上溅射厚度的均匀性好于±5%（除了5mm的边缘）。

2.5基片控制：

系统适用于直径100mm（4英寸）及以下基片，含碎片和4英寸衬底托盘；系统可以通过简单有效的方法将基片从预真空室传送到主真空室；基片架可以用电机控制旋转，转速在0～40rpm内可精确调节；基片水冷，在连续溅射沉积金属 300nm后，基片的温度不能超过100℃；基片可以在-80°到80°范围内倾斜，控制精度优于0.5°。

2.6工艺气体控制：

系统能够提供3路工艺气体到溅射腔室；每路气体管线有阀门和流量计控制；系统提供电子方式控制气体的混合和系统的工艺压力；在溅射过程中系统的工艺压力可以控制在2mτ到20mτ。

2.7计算机控制系统：

能够控制所有的功能，具有良好的用户操作界面具有程序自动控制工艺的功能。


售后服务
保修期： 1年
是否可延长保修期： 是
现场技术咨询： 有
免费培训： 1次免费培训
免费仪器保养： 3月1次
保内维修承诺： 免费维修免费更换部件
报修承诺： 2小时响应
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PVD物理气相沉积Tri-Axis的工作原理介绍

物理气相沉积Tri-Axis的使用方法?

PVDTri-Axis多少钱一台?

物理气相沉积Tri-Axis可以检测什么？

物理气相沉积Tri-Axis使用的注意事项？

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工商信息

企业名称

科睿设备有限公司

企业信息已认证

企业类型

私人股份有限公司

信用代码

61153274-000-03-23-9

成立日期

2023-02-01

注册资本

100

经营范围

科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )自2013年成立以来，为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的独家代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化，为广大用户提供最先进的仪器、设备，最的专业技术、服务和最真诚的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国，纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域，都需要与欧美发达国家完全接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代，我们愿意化为一座桥梁，更好的将国外高科技技术融入客户需求的解决方案中，见证祖国科技水平的提升，与祖国科技共同飞速成长。

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主营产品：

外延系统 分子互作分析仪 其他生物/生化分析仪 气溶胶检测仪/系统 外延系统

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