核心参数
仪器种类: 磁控溅射镀膜机
产地类别: 进口
应用领域: 微电子学
基片尺寸: 2-12英寸
靶材: 金属,氧化物
基片温度范围: 800度
成膜厚度均匀性: 3%
极限真空: 10E-9Torr
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