上海伯东携手台湾科传服务 SGService 提供同步辐射光源设备. 上海伯东携手台湾科传服务 SGService 提供同步辐射光源设备. SGService 创立于2021年, 专注于同步辐射光源或离子源的通用及特殊设备的设计及研制. 设计团队拥有完善的同步辐射经验, 提供一站式服务, 包含评估, 规划, 设计, 验证, 制造, 安装, 调试到自动化控制与实验分析流程整合. 成功为北京高O所提供硬X射线纳米探针线站, 工程材料线站, 硬X射线相干散射线站, 高分辨谱学线站, 低维结构探针线站, 粉光小角散射线站等提供设计方案.1. 高精度同步辐射光闸 (狭缝) 系统 适用于第三代及第四代同步辐射装置或自由电子激光装置等高热载的束线站使用. 支持全客制化设计.典型客户: 北京高O所, 通用单光狭缝A型1. 精小尺寸, 超高热稳定性设计2. 提供各种接口适用大气, 低真空, 高真空及超高真空环境. 各式冷却选配套件支持X光单光, 粉光, 白光等光源条件, 最高冷却能力100W. 3. 多样致动器及编码器搭配, 最高刀口移动精度可达纳米级别 (1 4. 多样选用配置, 如光子遮门, 光束监控屏幕, 束流位置监控, 刀片温度监控, 单晶无散刀片 (适用于二次光源或小角散射使用) 等,5. 可串接高精度束斑监测腔进行动态回馈刀口控制, X光衰减腔及主动式温度补偿支架, 在超小空间内实现多功能整合, 为您的束线提供更大实验空间及为纳米聚焦线站高稳定束斑提供坚实支撑.  2. 小角度散射, 相干成像, X光衍射飞行管系统 提供口径从15厘米至300厘米, 长度3米至30米的各式飞行管, 可落地, 吊挂配置及拥有最高6维度姿态调整自由度.APS-U 25米大型飞行管及探测 器位移系统1. 可手动或电调全程控设计, 支持EPICS, TANGO或LabVIEW等大型科学装置标准介面.2. 探测器可真空内或真空外侧运行, 拥有各式探测器整合经验, 与Dectris战略合作支持客制化探测器规划及整合飞行管系统.3. 可选用多直束遮蔽器, X光衰减器, 多种真空运作条件, 全客制化设计.3. 各式实验站整体设计开发 可提供包线式设计, 从光学模拟分析, 束线规划, 技术评估及整合, 线站设备选型及客制, 实验站自动化及优化数据分析软件等.具丰富经验工作及设计经验于常规及微束衍射, 纳米衍射或纳米探针, 纳米CT成像, X光吸收及萤光光谱影像, Ptychrography / CDI, 粉末衍射, 小角度散射, XPCS及相干成像等线站及可整合原位, 高压, 高低温及磁场等实验手段, 为您的团队提供坚实的技术支持, 加速科学研究的进程。上海伯东也提供同步辐射技术检测分析支持及实验室特殊 X光检测, 如 X光电脑断层影像及微区衍射设备的设计服务. 同时提供配套真空泵, 真空规及各类分析仪器.若您需要进一步的了解上海伯东同步辐射光源, 请参考以下联络方式 上海伯东: 叶小姐                                   台湾伯东: 王小姐T: +86-21-5046-3511 ext 109              T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                            F: +886-3-567-0049 M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 )      M: +886-939-653-958 qq: 2821409400 现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶小姐 1391-883-7267上海伯东版权所有, 翻拷必究！

上海伯东 Europlasma 等离子表面处理实现 MDI 定量吸入气雾剂铝合金压力罐纳米疏水呼吸系统常见的给药方式有定量吸入气雾剂 MDI, 无抛射剂吸入气雾剂, 雾化吸入三种方式. 相比于另外两种方式, MDI 定量吸入气雾剂具有便携, 经济, 技术成熟等优势. MDI 定量吸入气雾剂给药系统一般由压力罐, 定量阀门和驱动器三部分组成. 上海伯东 Europlasma 等离子表面处理设备使用等离子 Plasma 技术涂覆纳米疏水涂层, 广泛应用于 MDI 铝合金压力罐内壁表面处理, 使内壁降低表面能量产生不粘效果, 防止有效药物粘结在罐壁内, 提高药品处方的稳定性!受限于 REACH 欧洲的环境保护及毒副成份分类保护越来越严格, 药品相容性越来越高. 阳极氧化工艺已经被市场淘汰, 现在主流的涂层工艺是采用喷涂和等离子 Plasma 技术.上海伯东 Europlasma 提供 Nanofics@纳米疏水涂层和 PlasmaGuard® 无卤素纳米疏水涂层二种等离子表面处理技术, 通过使用 Europlasma 等离子设备, 对 MDI 铝合金压力罐内壁进行表面处理, 实现疏水特性1. 涂层可以抵消材料中金属铝, 镁与药品处方之间的相互作用.2. 使内壁降低表面能量产生不粘效果, 防止有效药物粘结在罐壁内. 提高药品处方的稳定性.Europlasma 等离子纳米涂层类型类型市场功能涂层厚度防水等级Nanofics® 110电子, 医疗, 过滤水接触角 WCA > 110°, Oil>4疏水, 疏油50-500 nmIPX2 - IPX4Nanofics® 120电子, 医疗, 过滤水接触角 WCA > 120°, Oil>7疏水, 疏油50-500 nmIPX2 - IPX4Nanofics® S电子防水, 防汗1-5 µmIPX5 – IPX8Nanofics® SE电子防盐水, 耐腐蚀1-5 µmIPX5 – IPX8PlasmaGuard®运动. 户外, 电子防水 防汗水 防盐水, 无卤素1-5μmIPX5 - IPX8Nanofics® 10医疗, 活化, 过滤水接触角 WCA 10-50 nm亲水特性 WCA＜10°上海伯东 Europlasma 提供各种规格的等离子表面处理设备, 等离子体室从 50升 到 2000升不等. 满足工业生产需要,CD 1000 ( 等离子体室 1000 x 700 x 700 mm )                    CD 2400 ( 卷绕式 2400毫米 )若您需要进一步的了解 Europlasma 详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 叶女士                                   台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-3511 ext 109              T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                            F: +886-3-567-0049 M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 )      M: +886-939-653-958 qq: 2821409400 www.hakuto-vacuum.cn                        www.hakuto-vacuum.com.tw现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶小姐 1391-883-7267上海伯东版权所有, 翻拷必究！

上海伯东德国 Pfeiffer 推出全新通用控制器 OmniControl®, 是一款适用于 Pfeiffer 真空泵和真空计的高兼容性显示控制单元, 单台控制单元 OmniControl® 可以实现对整个真空系统的控制. 只需一个 OmniControl® 就能控制您的真空系统 OmniControl® 通用控制器将总压力控制和泵控制相结合, 轻松实现 Pfeiffer 真空产品之间的数据交换和处理. OmniControl® 不仅适用于支持 Pfeiffer RS-485 协议的产品, 包括分子泵 HiPace, 涡旋干泵HiScroll, 罗茨泵 HiLobe, 隔膜泵 MVP 和数字真空规等, 还可以选配连接 Pfeiffer ActiveLine 模拟信号系列真空计. OmniControl® 大尺寸触摸显示屏, 操作方便  得益于 3.5英寸的触摸显示屏, 您可以方便, 轻松地控制真空系统. 例如, 总压强和泵的参数 (速度,耗电量等) 一目了然, 还可以增加一个开关设备的按钮. 可作为机架或移动设备进行手动操作 OmniControl® 基本单元可选择带或者不带内置电源. 没有电源的装置可作为机架或移动装置用于手动操作. 这使得 OmniControl® 可以在本地或在可随时改变的地点使用. 机架单元也可用于可选的桌面机架装置.若您需要进一步的了解上海伯东 Pfeiffer 全新通用控制器 OmniControl®, 请参考以下联络方式 上海伯东: 叶女士                                   台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-3511 ext 109              T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                            F: +886-3-567-0049 M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 )      M: +886-939-653-958 qq: 2821409400 现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士 1391-883-7267上海伯东版权所有, 翻拷必究！

上海伯东 Europlasma 无卤素纳米涂层 PlasmaGuard 应用于户外 LED 显示屏涂层 Coating 已经成为户外 LED 显示屏应对防水, 抗污等问题优选的解决方案. 上海伯东 Europlasma 无卤素纳米涂层 PlasmaGuard® 涂层厚度 1-5 µm, 可以实现户外 LED 显示屏 IPX5 - IPX8 等级防水.在应对户外 LED 显示器最外层防护涂层颜色变黄的问题, 对比 Paralyne 涂层, 上海伯东 Europlasma PlasmaGuard® 涂层更薄, 不容易腐蚀变色, 防水和抗污性能更好, 降低使用成本.业内常用的涂层比如派瑞林 Paralyne ,长期暴露在户外阳光下的情况下, Paralyne 涂层会变黄, 导致显示效果变差, 甚至无法有效显示信息, 在这种情况就需要经常更换 LED 显示屏.Europlasma 无卤素纳米涂层 PlasmaGuard®E  LG 户外显示屏进行测试, 对比 Paralyne 涂层测试如下图:结果显示: 经过 300小时的紫外光照射, PlasmaGuard®E 涂层几乎没有发黄的问题, 而 Paralyne C 涂层有明显的变黄, 涂层越厚变黄越明显.2020 年欧盟颁布最新的 REACH 法案, 规定了在欧盟销售的产品中 PFOA 和 PFOS 及其化合物禁用, 这使得 Europlasma 无卤素纳米涂层 PlasmaGuard® 在竞争中优势更加明显 若您需要进一步的 Europlasma 纳米防水涂层, 请参考以下联络方式 上海伯东: 叶女士                                   台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-3511 ext 109              T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                            F: +886-3-567-0049 M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 )      M: +886-939-653-958 qq: 2821409400 现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶小姐 1391-883-7267上海伯东版权所有, 翻拷必究！

上海伯东德国 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM 340 成功应用于散热器检漏系统, 检漏系统采用喷氦法测试, 节省氦气, 测量精准, 智能自动. 依据散热器尺寸, 每次检测 2 - 4个产品, 单次检漏约1分钟. 实现散热器及其组件的泄漏测试.散热器检漏系统流程1. 产品抽真空2. 腔体抽真空3. 产品充氦4. 开始检漏5. 取漏率值6. 检漏后, 抽产品内氦气7. 如有大漏, 氮气吹扫腔体8. 如无大漏. 检漏完必 鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解散热器检漏, 请参考以下联络方式 上海伯东: 叶小姐                                   台湾伯东: 王小姐T: +86-21-5046-3511 ext 109              T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                            F: +886-3-567-0049 M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 )      M: +886-939-653-958 qq: 2821409400 现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶小姐 1391-883-7267上海伯东版权所有, 翻拷必究！

氦质谱检漏仪热交换器检漏 上海伯东德国 Pfeiffer 某客户需要对体积 >1000L 的热交换器进行检漏, 热交换器内部管子细长, 流导小, 需要尽可能的快速测试并要求清洁无油, 真空模式下, 热交换器漏率要求 1x10-6 mbar l/s. 为了快速抽空, 选用辅助泵 + 氦质谱检漏仪 ASM 390, 实现快速检漏！热交换器检漏方法： 配置: ASM 380 (新款 ASM 390) + HiCube Pro + ACP 40 CV,漏率设置 1x10–6 mbar l/S真空模式下先对换热器整体检漏然后在逐个焊点检漏 测试时间 8至 24 小时 通过使用氦质谱检漏仪, 有效降低了热交换器的制造成本！ 经过实践, 此种检漏方法可以测试到 1X10- 6 mbarl/s 的漏点, 同样适用于其他领域, 比如流导小, 大型表面泄露测试的应用.上海伯东 Pfeiffe 氦质谱检漏仪 ASM 390, ASM 392 与 ASM 380 技术参数对比: 型号ASM 390ASM 392ASM 380 已停产 检测气体4He, 3He, H2 最小检测漏率真空模式: 1X10-12 mbar l/s吸枪模式: 1X10-8 mbar l/s 对氦气的抽速10 l/s25 l/s, 内置2台分子泵7 l/s 前级泵抽速35 m3/h 进气口最大压力20 mbar20 mbar15 mbar 无校准的启动时间(20°C)2 min2 min 进气口DN 40 ISO-KF 响应时间 Interface,  选配RS-232, I/O, Ethernet 噪音≤ 55 dB (A)≤ 55 dB (A)53 dB (A) 重量125 kg130 kg110 kg 尺寸(LxWxH)1072 x 455 x 1025 mm1072 x 455 x 1025 mm1065 X 455 X 1025 mm鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解热交换器检漏, 请参考以下联络方式 上海伯东: 叶小姐                                   台湾伯东: 王小姐T: +86-21-5046-3511 ext 109              T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                            F: +886-3-567-0049 M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 )      M: +886-939-653-958 qq: 2821409400 现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶小姐 1391-883-7267上海伯东版权所有, 翻拷必究！

Europlasma 超亲水纳米涂层技术 Nanofics@ 生物医药应用案例 上海伯东代理比利时 Europlasma 专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 通过沉积超薄纳米涂层, 实现生物医药行业产品的超亲水 hydrophilic 特性. 其中 Nanofics@ 10 水接触角 WCA Europlasma 超亲水纳米涂层技术 Nanofics@ 生物医药典型案例1. 人体植入 Implants 2. 医用敷料3. 微流量设备 Microfluidic devices 4. 输血 Blood filtering 5. 医疗器械活化 ActivationEuroplasma Nanofics@ 10 超亲水纳米涂层技术应用于人体植入适用于心脏瓣膜, 人工晶体, 人造血管, 人造骨骼,人造关节, 各种类型的植入型导管, 过滤器,各种手术应用的修复网格.通过使用 Europlasma Nanofics@ 10 实现:1. 减少植入物的细菌粘附, 从而减少感染的机会;2. 减少植入物的生物刺激;3. 附着生物分子, 促进骨骼生长, 组织生长或其他减少血液的黏附或阻塞;4. 减少蛋白质粘附, 提高生物分析设备的效率;5. 可以控制药物的释放效率Europlasma Nanofics 10 应用于医用敷料 适用于膏药或外敷贴片,化妆品的纸巾,湿巾等;生理液体 (如尿液或血液)的绷带, 敷料或吸水垫(如卫生巾, 卫生棉条); 用于伤口护理的绷带或敷料等.通过使用 Europlasma Nanofics 10 实现:1. 改善创伤面敷料的湿润性2. 与含银伤口敷料中的抗菌银离子协同作用3. 可以降低微生物对纤维或基质的粘附4. 亲水层改善滑动行为，提供较低的机械创伤应力5. 涂层纤维或基质上的液体薄膜可以防止新形成的组织进入基Europlasma Nanofics@ 10 应用于输血适用于(体外)血液过滤和回流回路, 血液分析, 血液透析系统,输血设备, 血液滤过/透析, 植入式血液过滤器, 植入式血泵, 一次性心脏手术用品, 手术设备组件, 吸入排水系统通过使用 Europlasma Nanofics 10 实现:Nanofics®10镀膜和活化是同时完成的, 防止阻塞血液过滤器, 更重要的是不会形成血凝块(其他类型的应用于过滤材料的镀膜过程都是2步完成, 第一步是把膜浸入溶液中,第二步再执行一个激励的步骤. 简而言之就是通过单步镀膜的过程减少纤维蛋白原吸附.Europlasma Nanofics@ 10 应用于微流量设备适用于生化分析 ( 实验室芯片 ), 医用微反应器, 医用微混合器, 医用微型泵, 医用微型阀通过使用 Europlasma Nanofics 10 实现:1. 提高毛细管性能2. 提高体液生物相容性Europlasma Nanofics@ 10 应用于医疗器械活化 适用于上胶前激活, 如针座活化, 打印前激活, 如导管, 通过活化提高板的润湿性, 使细胞生长 静脉输液器的输液器末端输液针在使用过程中, 拔出时针座与针管之间会出现脱离现象, 一旦脱离, 血液会随针管流出, 如不及时正确处理, 对病人会造成严重威胁. 为了避免这类事故的发生, 对针座进行表面处理是非常必要的, 针座孔非常小, 普通方法难处理, 通过使用伯东 Europlasma 等离子设备对微小的孔也进行活化处理, 可改善表面活性，提高其与针管的粘接强度, 以确保它们之间不会脱离.上海伯东代理 Europlasma 等离子体涂层技术 Nanofics@ 已经成功地工业化, 轧制宽度从0.5米到2.5米. 通过专有的 PECVD 技术, 超薄涂层被均匀地应用在能够穿透复杂形状材料或产品的核心, 如 PCB, 电子设备, 滤膜或技术纺织品. 涂层的独特沉积方式使其具有卓越的功能性能. 此外, 这些涂层非常薄, 不可见, 也不会改变产品的其他特性.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 叶小姐                               台湾伯东: 王小姐T: +86-21-5046-3511 ext 109         T: +886-03-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                      F: +886-03-567-0049 M: +86 1391-883-7267                   M: +886-939-653-958www.hakuto-vacuum.cn                 www.hakuto-vacuum.com.tw现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶小姐 1391-883-7267上海伯东版权所有, 翻拷必究！

KRi 霍尔离子源典型应用溅镀镀膜预清洁工艺 Pre-clean上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 400F 成功应用于 6寸硅片电源管理集成电路芯片 PMIC 溅镀镀膜前预清洁工艺 Pre-clean.电源管理集成电路芯片镀膜时常用的材料, 例如: 铌酸锂 LiNbO3 , 钛酸钡 BaTi03 , 锆钛酸铅 PTZ, 氧化锌 ZnO , 氮化铝 AiN … 膜层与硅片会有脱膜及电性阻抗问题. 美国 KRI 霍尔离子源有最高广角的涵盖面积 >45ﾟ, 及高解离率获得高密度的离子浓度, 在电源管理集成电路芯片 PMIC  的压电材料镀膜前有效的将硅片做清洁及平整化处理, 提高膜层的附着力及提高生产良率.电源管理集成电路芯片 PMIC 溅镀镀膜前预清洁工艺 设备: 5只靶材复合性溅镀机 基材: 6 存硅片 真空系统: 上海伯东美国 HVA 高真空插板阀 + 伯东 Pfeiffer 全磁浮分子泵KRi 霍尔离子源: EH 400F预清洁工艺离子源条件: Vd:120V (离子束阳极电压), Id:3.5A (离子束阳极电流), Ar gas: 20sccm (氩气).腔体中 KRi 霍尔离子源 EH 400 本体, 工作條件: Vd:120V, Id:3.5A, Ar:20sccm上海伯东美国 KRi 霍尔源可依客户镀膜机尺寸, 基材尺寸, 工艺条件选择适合型号型号eH400eH1000eH2000eH3000中和器F or HCF or HCF or HCF or HC离子束阳极电压50-300 V50-300 V50-300 V50-250 V离子束阳极电流5A10A10A20A散射角度>45>45>45>45气体流量2-25 sccm2-50 sccm2-75 sccm5-100 sccm本体高度3.0“4.0“4.0“6.0“直径3.7“5.7“5.7“9.7“水冷可选可选是可选F = Filament; HC = Hollow Cathode;若您需要进一步的了解 KRi 离子源详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士,分机109 

上海伯东美国 inTEST 热流仪电源管理芯片高低温冲击测试 在电源管理芯片可靠性测试方面, 上海伯东美国 inTEST ThermoStream ATS 系列高低温冲击测试机有着不同于传统高低温箱的独特优势: 变温速率快, 每秒快速升温 / 降温15°C, 实时监测待测元件真实温度, 可随时调整冲击气流温度; inTEST 针对 PCB 电路板上众多元器件中的某一单个IC(模块), 单独进行高低温冲击,而不影响周边其它器件; 可与爱德万 advantest, 泰瑞达 teradyne, 惠瑞捷 verigy 等工程机联用.inTEST 热销型号ATS-545ATS-710ATS-535温度范围 °C-75 至 + 225-75至+225-60 至 +225变温速率-55 至 +125°C 约 10 S +125 至 -55°C 约 10 S-55 至 +125°C 约 10 s +125 至 -55°C 约 10 s-40至+ 125°C +125至-40°C  空压机额外另配额外另配内部集成空压机控制方式旋钮式触摸屏旋钮式气体流量 scfm4 至 184 至 185温度显示和分辨率+/- 0.1°C温度精度1.0°C（根据  NIST 标准校准时）inTEST ATS-545 电源管理芯片高低温冲击测试: 上海伯东客户某生产电源芯片企业, 下图为实际的被测电源芯片, 焊在 PCB 板上. 需要在通电的情况下进行温度测试. 要求测试温度范围﹣60℃～150℃, 进行12组不同形式的循环温度设定.inTEST ATS-710 电源管理芯片高低温冲击测试:上海伯东客户某研发电源管理芯片公司, 芯片测试温度范围要求 -40 至 80度,在电测试时, 同时搭配测试仪, 设定不同的温度数值, 检查不同温度下电源芯片各项功能是否正常. 通过使用该设备, 大幅提高工作效率, 并能及时评估研发过程中的潜在问题.inTEST ATS-535 电源管理芯片高低温冲击测试: 上海伯东客户南京某公司, 因场地受限, 无法使用空压机, 最终选用 ATS-535 全球唯一内部集成空压机的高低温冲击机进行测试.鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解 inTEST 高低温冲击测试机详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士,分机109

某大型工业薄膜制造商采用伯东 KRI 无栅霍尔离子源 eH 3000 辅助热蒸发技术镀制高质量光学薄膜, 以获得良好的机械性能和光学特性的薄膜, 同时获得与基体牢固结合和优良性能的高质量薄膜. 其工作系统如下图： KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源. KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:离子源型号 霍尔离子源eH3000eH3000LOeH3000MOCathode/NeutralizerHC电压50-250V50-300V50-250V电流20A10A15A散射角度>45可充气体Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others气体流量5-100sccm高度6.0“直径9.7“水冷可选F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current 该制造商的离子源辅助镀膜系统由霍尔离子源, 电源及控制系统和质量流量计 3 部分组成, 如下图：其中霍尔离子源发射离子, 质量流量计向离子源提供气体并保证气流稳定, 电源及控制系统向离子源供电并保证放电参数放电电压及电流稳定. KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 运行结果：1. 适用工业规模生产2. 获得良好的机械性能和光学特性的薄膜3. 获得与基体牢固结合和优良性能的高质量薄膜 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                    F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                  M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

某刀具厂商为了增强刀具切削性能, 采用伯东 KRI 平行型考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高铝超硬涂层.其清洗工艺是采用 KRI 考夫曼离子源 KDC 160轰击处理基材表面, 以清洗基材, 工作示意图如下: 伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数： 离子源型号 离子源 KDC 160 DischargeDC 热离子离子束流>650 mA离子动能100-1200 V栅极直径16 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量2-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度25.2 cm直径23.2 cm中和器灯丝* 可选: 可调角度的支架 其优势：1. KRI 考夫曼离子源 KDC 160 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.2. 离子束流: >650 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-30 sccm.3. 加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.4. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.5. 无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计. KRI 考夫曼离子源 KDC 160运行结果：1. KRI 考夫曼离子源 KDC 160辅助制备的 AlCrN 涂层的 CrN 相的结晶度明显提高2.与传统清洗技术相比, KRI 考夫曼离子源 KDC 160清洗有利于涂层以平面方式生长, 细化晶粒, 涂层硬度从HV0.1 3200 提高到 HV0.1 3600.3. KRI 考夫曼离子源 KDC 160轰击处理基材表面可提高膜基压应力, 抑制裂纹扩展, 基膜结合强度提高了 10N4. 利用KRI 考夫曼离子源 KDC 160清洗制备的 AlTISiN 涂层, 摩擦系数均在 0.2 左右, 具有良好的排屑能力5. 刀具寿命提高了约3倍 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                    F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                  M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

某机构为了研究离子源处理纯钛材料表面的时间长短对纯钛材料表面生物活性及亲水性的影响, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP 380 用于纯钛表面氨基化改性的研究. 试验样品: 8mm X 8mm的厚度 1 mmde  TA2型纯钛线 试验流量简介: 通过对试验样品进行刻蚀时间长短不同形成不同的清洁表面, 然后通过仪器分析其亲水性 用于刻蚀的 KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数:射频离子源型号RFICP 380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000推荐理由:使用 KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 380 可以准确、灵活地对样品选定的区域进行刻蚀 试验结论:N2和 NH3 的混合气体射频离子源处理纯钛表面, 可以在表面引入氨基, 但处理时间并不是越长越好, 改性后的钛片表面的亲水性得到较大的提高, 但随放置时间的增加其表面亲水性会变差, 在5h内, 改性钛片保存在氮气气氛中有利于保持其亲水性. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                    F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                  M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

现代钟表产品愈加青睐新材质的应用与设计, 这也是现代钟表产品顺应市场需求和客户体验的直观表现, 不锈钢表面纳米薄膜涂层具有低摩擦, 高耐磨, 高耐蚀和高生物相容性等技术特点, 因此在国外中高端手表产品已广泛应用. 某国内高端手表代工厂商采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP 220 用于辅助镀制手表的不锈钢表面纳米薄膜涂层.伯东 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP 220 技术参数:离子源型号RFICP 220DischargeRFICP 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束平行流量10-40 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量 推荐理由:使用 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP 220 可以准确、灵活、有效地对样品选定的区域进行清洗. 运行结果：对基体材料表面进行离子清洗, 使得基体材料表面与将要沉积的薄膜性非常接近, 这样得到的薄膜与基体结合非常牢固, 薄膜质量很好.  伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

电子工业的飞速发展对线路板制造业的要求越来越高, 线路板层数越来越高, 孔密越来越大并向微孔化不断发展, 某国内制造商为了铣刀进行铣边及成型加工时, 减少产品的披锋、毛刺及铣刀断刀, 采用伯东 KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 380辅助钻头铣刀上镀膜. 该制造商的真空离子镀膜技术, 利用 KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 380 轰击靶材形成离子, 并使离子在强磁场的驱动下吸附于钻头或锣刀上形成镀层, 制备出镀膜钻头及镀膜铣刀.用于溅射的 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数:射频离子源型号RFICP 380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000 推荐理由：聚焦型溅射离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染 运行结果:结果表面, 采用镀膜钻头, 可以明显增加钻孔孔限, 减少披锋, 节约成本；采用镀膜铣刀进行铣边及成型加工时, 有利于减少产品的披锋、毛刺及铣刀断刀, 提高生产效率及节约成本 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

无论是何种膜系结构, 玻璃基片表面的清洁程度和表面状态将直接影响所镀膜层的质量, 如薄膜的附着力/ 粗糙度以及薄膜的物理性能与机械强度. 但在放置和传输过程中会对玻璃基片表面难以避免地出现不明污染物, 失去 "新鲜表面" 形成钝化层, 甚至可视痕迹.  对于低辐射玻璃而言, 在瑕疵处生长的银膜会在后续钢化及热弯过程中形成团聚, 导致透光性能与低辐射性能严重恶化, 镀膜产品报废,降低成品率. 因此, 国内某玻璃制造商采用伯东 KRI 考夫曼霍尔离子源 eH 3000 在玻璃基片传输后/ 镀膜前进行在线基片表面处理工序.KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:离子源型号 霍尔离子源eH3000Cathode/NeutralizerHC电压50-250V电流20A散射角度>45可充气体Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others气体流量5-100sccm高度6.0“直径9.7“水冷可选F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current 该制造商采用 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000离子源解离 Ar 气体,轰击玻璃表面,对玻璃基片表面进行清洗和刻蚀. 推荐理由：设备稳定,抗污染能力强,可以进行基片表面清洗与辅助沉积, KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 对玻璃基片表面有效去除二次污染/ 增加基片表面能/ 控制基片表面粗糙度. 运行结果:KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000能有效去除二次污染,对玻璃基片有效清洗清洗和刻蚀, 获得更清洁/ 平滑的玻璃基片表面提高了所镀膜层的质量,提高薄膜的附着力, 改善薄膜粗糙度以及薄膜的物理性能与机械强度降低了镀膜产品报废,提高了成品率 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

传统磁控溅射制备工艺存在一个突出的问题, 当离子能量较低时,在溅射沉积过程中会发生 “遮蔽效应”, 会使薄膜结构疏松, 产生孔隙等缺陷, 这直接影响着薄膜的性能. 为提高制备薄膜的致密度, 减少结构缺陷, 提高耐蚀性能, 国内某光学薄膜制造商采用伯东 KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 140 用于磁控溅射镀制 TiN 薄膜. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:型号RFICP 140DischargeRFICP 射频离子束流>600 mA离子动能100-1200 V栅极直径14 cm Φ离子束聚焦流量5-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度24.6 cm直径24.6 cm中和器LFN 2000客户采用离子源辅助磁控溅射镀膜技术在 304 不锈钢和 P 型(100)晶向硅片上制备TiN纳米薄膜. 推荐理由:聚焦型射频离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染 运行结果：1. 通过KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 140 溅射作用将优先形成的遮蔽效应, 制备的薄膜具有较高致密度.2. 减少结构缺陷3. 提高耐蚀性能 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

在 DC/DC 混合电路生产各工艺环节中会有不希望出现的物理接触面状态变化、相变等, 对质量带来不利影响, 对其生产中表面状态的控制已成为必不可少的关键控制环节. 某大型工厂在生产过程中采用 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP220 辅助 DC/DC 混合电路生产, 其主要目的是：1. 去除处理物体表面的外来物层, 如沾污层、氧化层等2. 改善物体表面状态, 提高物体表面活性, 提高物体表面能等伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:离子源型号RFICP220DischargeRFICP 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量10-40 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000 客户存在的问题:客户的背银芯片很容易发生银的硫化及氧化,将直接影响芯片的贴装质量.被硫化或氧化背银的芯片采用导电胶粘接、氢气烧结、再流焊贴装均将有空洞率增大导致接触电阻、热阻增大和粘接强度下降等问题. 解决方案:客户采用 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP220 , 氩气作为清洗气体, 清洗时间200~300 s, 气体流量40 sccm, 经过 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP220 产生的离子束清洗芯片背面 运行结果:1. KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP220 有效去除背银芯片硫化银及氧化银, 保证了芯片贴装质量2. 可有效提高 DC/DC 混合电路组装质量及可靠性  伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

使用平面磁控溅射阴极进行反应性溅射时的”靶中毒”和”阳极消失”, 这两问题一直是玻璃镀膜行业的难题. 某国内玻璃制造商采用 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP380 离子清洗技术清除沉积在靶面和阳极表面的反应产物, 如氧化物, 从而保持靶和阳极表面导电性, 避免发生”靶中毒”和”阳极消失”现象.伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 技术参数：射频离子源型号RFICP 380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000 推荐理由：1. 使用 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP 380 可以准确、灵活地对样品选定的区域进行清洗2. 功率大, 离子束流高, 满足客户工艺要求3. 清洗速率快.工作原理:在真空室充入 100sccm 的氩气, 利用 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP380 把氩气电离, 形成离子体, 利用氩离子撞击靶面, 从靶面上撞出锡原子或氧化锡分子, 完成对锡靶的清洁. 撞击出来的锡原子撞击阳极表面, 清除吸附阳极表面与表层铟结合力不强的部分氧化锡分子, 完成对阳极表面的清洗.其清洗实施工作图如下: 一次清洗大约用时15s, 前5秒主要清洁靶面, 后10秒清洁阳极表面. 运行结果：有效的清洁阴极靶面和阳极表面, 保持阴极靶面和阳极表面良好的导电性, 避免发生”靶中毒”和”阳极消失”现象 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

上海伯东美国 KRI 离子源又获半导体离子蚀刻 IBE 订单!上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 RFICP 220 安装于离子蚀刻机 IBE 中, 实现半导体 8寸晶圆 wafer 的线路刻蚀.---------------------- 上海伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 ------------------------------KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA. 适用于预清洗,辅助镀膜, 溅镀和蒸发镀膜, 离子蚀刻.型号RFICP 220Discharge 阳极RF 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量10-40 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式 上海伯东: 叶女士                                  台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-3511 ext 109             T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                          F: +886-3-567-0049 M: +86 1391-883-7267                       M: +886-939-653-958上海伯东版权所有, 翻拷必究！ 

上海伯东德国 Pfeiffer 低振动涡轮分子泵 HiPace 80 Neo 新品上市！ 上海伯东德国 Pfeiffer 即将推出新款全系列涡轮分子泵 HiPace 80 Neo, 此款复合轴承分子泵体积小巧, 智能设计, 坚固耐用,提供强大抽气能力, 满足市场需要. HiPace 80 Neo 转子使用德国 Pfeiffer 专利  Laser Balancing™ 激光平衡技术, 是目前市场上同级别振动更低和噪音更小的分子泵！特别适用于包括质谱分析, 电子显微术, 检漏仪和残余气体分析系统等对振动敏感的应用.Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 80 Neo 优势 全新智能设计, 内部实时转子温度测量, 以确保性能.标准的电子驱动是带 RS-485 和远程的 TC 80同级别分子泵占地面积小, 抽气性能强大 (尤其是小分子气体), 易于系统集成 是目前市场上同级别分子泵振动低和噪音小！ 复合 Semi S2, UL, CSA, IP54, NEMA 12 认证Self-detecting 智能配件涡轮分子泵 HiPace 80 Neo 技术规格氮气抽速 l/s67氦气抽速 l/s58氢气抽速 l/s48氮气压缩比> 1e+11氦气压缩比1.3 e+07氢气压缩比1.4 e+05hPa22高 x 宽 mm129 x 115.5重量 kg1.7若您需要进一步的了解涡轮分子泵, 请参考以下联络方式 上海伯东: 叶女士                                  台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-3511 ext 109             T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                          F: +886-3-567-0049 M: +86 1391-883-7267                       M: +886-939-653-958上海伯东版权所有, 翻拷必究！ 

上海伯东美国 inTEST 热流仪电源管理芯片高低温冲击测试 在电源管理芯片可靠性测试方面, 上海伯东美国 inTEST ThermoStream ATS 系列高低温冲击测试机有着不同于传统高低温箱的独特优势: 变温速率快, 每秒快速升温 / 降温15°C, 实时监测待测元件真实温度, 可随时调整冲击气流温度; inTEST 针对 PCB 电路板上众多元器件中的某一单个IC(模块), 单独进行高低温冲击,而不影响周边其它器件; 可与爱德万 advantest, 泰瑞达 teradyne, 惠瑞捷 verigy 等工程机联用.inTEST 热销型号ATS-545ATS-710ATS-535温度范围 °C-75 至 + 225-75至+225-60 至 +225变温速率-55 至 +125°C 约 10 S +125 至 -55°C 约 10 S-55 至 +125°C 约 10 s +125 至 -55°C 约 10 s-40至+ 125°C +125至-40°C  空压机额外另配额外另配内部集成空压机控制方式旋钮式触摸屏旋钮式气体流量 scfm4 至 184 至 185温度显示和分辨率+/- 0.1°C温度精度1.0°C（根据  NIST 标准校准时）inTEST ATS-545 电源管理芯片高低温冲击测试: 上海伯东客户某生产电源芯片企业, 下图为实际的被测电源芯片, 焊在 PCB 板上. 需要在通电的情况下进行温度测试. 要求测试温度范围﹣60℃～150℃, 进行12组不同形式的循环温度设定.inTEST ATS-710 电源管理芯片高低温冲击测试:上海伯东客户某研发电源管理芯片公司, 芯片测试温度范围要求 -40 至 80度,在电测试时, 同时搭配测试仪, 设定不同的温度数值, 检查不同温度下电源芯片各项功能是否正常. 通过使用该设备, 大幅提高工作效率, 并能及时评估研发过程中的潜在问题.inTEST ATS-535 电源管理芯片高低温冲击测试: 上海伯东客户南京某公司, 因场地受限, 无法使用空压机, 最终选用 ATS-535 全球唯一内部集成空压机的高低温冲击机进行测试.鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解 inTEST 高低温冲击测试机详细信息或讨论, 请参考以下联络方式： 上海伯东: 叶女士                                   台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-3511 ext 109              T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                            F: +886-3-567-0049 M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 )      M: +886-939-653-958 qq: 2821409400 www.hakuto-vacuum.cn                        www.hakuto-vacuum.com.tw现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士 1391-883-7267上海伯东版权所有, 翻拷必究！

在 LED（发光二极管 ）封装工艺工程中, 器件表面的氧化物及颗粒污染物会降低产品的可靠性, 影响产品的质量. 某 LED制造商为了保证有效清洗 LED 器件表面的氧化物及颗粒污染物, 采用伯东伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 在LED 封装前进行离子清洗.伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 技术参数:离子源型号RFICP220DischargeRFICP 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量10-40 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000 客户清洗的工作流程:在真空状态下, 利用射频源将氩气电离成高能量的离子去撞击LED上的有机污染物及微颗粒污染物, 从而使得污染物被轰击除掉. 为了避免二次污染, 该清洗工艺, 真空度要求10-7 hPa, 客户采用的是伯东Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 1800 UC, 该型号可以倒装和抗腐蚀, 伯东 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 1800 技术参数：分子泵型号接口 DN抽速 l/s压缩比最高启动压强mbar极限压力全转速气体流量hPa l/s启动时间重量进气排气氮气N2氦气He氢气 H2氮气N2氮气N2 hPa氮气N2minkgHipace 1800 UC200401,4501,6501,700> 1X1081.820433 – 34 运行结果:1. 从下图离子射频清洗氧化膜前后对比可以看出, KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 有效的清洗除去污染物从使用和未使用离子清洗的拉力强度对比, 使用离子清洗后键合引线拉力强度有明显增加伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

某光学薄膜制造商为了提高光学太阳反射镜OSR的膜层附着力, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 在镀膜前清洗光学太阳反射镜OSR. 伯东 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:型号RFICP 140DischargeRFICP 射频离子束流>600 mA离子动能100-1200 V栅极直径14 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量5-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度24.6 cm直径24.6 cm中和器LFN 2000 推荐使用 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140是因为其束流密度、能量可以精确控制, 工艺刚好符合客户要求. 其工艺流程为:在原有的真空镀膜机上安装一台KRI考夫曼射频离子源 RFICP140, 产生离子束. 离子束清洗应用在镀膜沉积前, 利用离子束轰击基片, 溅射基片表面的污染物进行净化, 同时也对基片表面除气. 先将清洗干净的石英玻璃基片放入真空室,再将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa, 然后充入工作气体氩气保持 5min 后, 打开离子源进行清洗. 清洗完毕后再次将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa,充入氩气至 0.3Pa 进行溅射镀银. 为了保证真空室的真空度, 客户采用的是伯东Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace1800, 其参数如下：分子泵型号界面 DN抽速 l/s压缩比最高启动压强mbar极限压力全转速气体流量hPa l/s启动时间重量进气排气氮气N2氦气He氢气 H2氮气N2氮气N2 hPa氮气N2minkgHipace 1800200401,4501,6501,700> 1X1081.820433 – 34 运行结果:KRI考夫曼射频离子源 RFICP140可以对基片表面进行有效的清洁、活化的, 有利于改善膜层附着力  伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

计算全息图 CGH 作为零位补偿器广泛应用于高精度非球面的检测, 但 CGH 的基底误差直接限制了非球面的检测精度. 某制造商为了获得超高精度的 CGH 基底, 采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 产生的离子束用于修正高精度 CGH 基底的加工工艺. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:离子源型号RFICP 220DischargeRFICP 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量10-40 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量 运行结果：1. KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 产生的离子束修正工艺作为一种非接触式确定性光学加工方法, 不仅不会对元件表面施加作用力, 而且还具有加工精度高、去除函数稳定、面形收敛速度快、无边缘效应和亚表面损伤等特点, 非常适用于高精度 CGH 基底的加工.2. 应用离子束修正高精度 CGH 基底的加工工艺具有较大优势, 不仅具有较高的加工效率而且可以获得超高的加工精度 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

电子元器件-继电器在生产过程中由于手印、焊剂、交叉污染、自然氧化等, 其表面会形成各种玷污, 影响电子元器件在生产过程中的相关工艺质量, 例如继电器的接触电阻, 从而降低了电子元器件的可靠性和成品合格率. 某制造商为了提高电子元器件-继电器的可靠性和成品合格率, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 对继电器进行离子束清洗. 伯东 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:型号RFICP 140DischargeRFICP 射频离子束流>600 mA离子动能100-1200 V栅极直径14 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量5-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度24.6 cm直径24.6 cm中和器LFN 2000 该制造商通入氩气, 利用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 电离氩气产生氩离子, 形成氩离子束对样品进行轰击, 以溅射刻蚀, 从而达到清洗的效果. 氩离子优点是不会产生氧化副产物, 可以保持被清洗物的化学纯净性. 运行结果：通过清洗前后接触电阻测试记录可以看出, 清洗后不合格产品数大幅降低, 因此采用KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140清洗可以有效地降低继电器的接触电阻, 从而提高产品的合格率. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958 www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

某锂硫电池制造商采用伯东KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助溅射沉积制备锂硫电池正极片.伯东 KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:射频离子源型号RFICP380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000 工艺流程:该正极片的制备在离子束溅射室内进行, 将铝箔作为基片, 将定量的块体硫和块体碳作为靶材.在开始工艺前, 需要将离子束溅射室抽真空后, 然后利用KRI 射频离子源 RFICP380 将通入的氩气离化为氩离子, 氩离子束以不同的功率交替轰击块体硫和块体碳, 将硫原子和碳原子分别溅射出来, 沉积到铝箔表面, 即获得带有硫碳复合材料的锂硫电池正极片. KRI 射频离子源 RFICP380 特性:1. 大面积射频离子源2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求4. 离子束流: >1500 mA5. 离子动能: 100-1200 V6. 中和器: LFN 20007. 采用自动控制器, 一键自动匹配8. RF Generator 可根据工艺自行选择离子浓度, EX: 1kW or 2kW9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装10. 栅极材质钼和石墨, 坚固耐用11. 通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others 为了给离子束溅射室提供 10-4 Pa真空度, 该制造商采用伯东 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700抽真空. 其技术参数如下:2707-Operating voltage: V DC48 (± 5 %) V DCAr 的压缩比> 1 · 1011Ar 的抽速665 l/sAr 的最终转速时的气体流量3.5 hPa l/s | 2.62 Torr l/s | 3.5 mbar l/sH2 的压缩比4 · 105H2 的抽速555 l/sH2 的最终转速时的气体流量> 14 hPa l/s | > 10.5 Torr l/s | > 14 mbar l/sHe 的压缩比3 · 107He 的抽速655 l/sHe 的最终转速时的气体流量10 hPa l/s | 7.5 Torr l/s | 10 mbar l/sI/O 接口RS-485, 远程, ProfibusN2 的压缩比> 1 · 1011N2 的抽速685 l/sN2 的最大预真空11 百帕N2 的最终转速时的气体流量6.5 hPa l/s | 4.88 Torr l/s | 6.5 mbar l/s不带气镇的最终压力1 · 10-7 百帕允许冷却水的温度15 – 35 °C 摄氏度冷却水消耗最小值100 l/h冷却水耗量100 l/h冷却类型, 可选项空气冷却类型, 标准水声压水平≤50 dB(A) 分贝 (A)安装方向任何排气连接G 1/8"接口, 扩展Profibus方位混合动力最大允许磁场6 mT根据 PNEUROP 的最终压力百帕电子驱动单元带有 TC 400电流最大值8,75 A耗电量 max.420 瓦转速 Â± 2 %49,200 rpm | 49,200 min-1转速可变化60 – 100 %运行时间2 分连接法兰（入口）DN 160 ISO-F连接法兰（出口）DN 25 ISO-KF/G ¼"重量12.1 千克防护等级IP54 运行结果:能够精确控制溅射量, 获得混合均匀的硫碳复合材料. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

氧化物薄膜具有优越的机械、光学性能以及良好的环境稳定性, 被广泛应用于可见近红外波段制备各种低损耗光学薄膜. 某国内精密光学薄膜制造商为了获得品质良好的Al2O3 薄膜, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380 和考夫曼离子源 KDC100 辅助溅射镀制 Al2O3 薄膜. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:射频离子源型号RFICP380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000 工艺简介:该制造商采用双离子辅助镀制 Al2O3 薄膜, 其中一个离子源（KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380）主要是用于产生高能氩离子束轰击靶材, 通过动量传递使靶材原子获得足够的动能而脱离靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉积而形成一层薄膜;另一个辅助离子源（KRI 考夫曼离子源 KDC100）通入氧气和氩气的混合气体, 通过对生长中的薄膜的轰击, 使得薄膜进一步致密, 同时改善薄膜的化学计量比.伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数： 离子源型号 离子源 KDC 100 DischargeDC 热离子离子束流>400 mA离子动能100-1200 V栅极直径12 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量2-20 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度23.5 cm直径19.4 cm中和器灯丝* 可选: 可调角度的支架 其工作示意图如下: 运行结果:1. 制备的薄膜在中红外波段具有高的折射率和低的消光系数, 光滑的表面特性和极低的表面散射耗损, 在2.7μm波段没有发现由于水吸收导致的消光系数的增大；2. 制备的反射膜在2.7 μm反射率达到了99.63%, 接近于理论计算值；3. 镀制的Al2O3 薄膜具有优良的环境稳定性.伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

GdF3光学薄膜拥有优异的光学性能, 在深紫外光学薄膜中有广泛应用, 以193nm投影光刻为例, 其系统有30~40个光学元件, 且部分元件口径高达 400mm,为了使系统高质量成像, 不仅要求制备的薄膜具有极高的透过率和良好的抗激光损伤能力, 而且为了膜厚均匀性控制提出了极高的要求. 因此某光学薄膜制造商采用KRI 考夫曼射频离子源 FRICP220 和射频离子源 FRICP140辅助溅射制备GdF3光学薄膜, 以求获得透过率高且良好抗激光损伤能力的均匀性的GdF3光学薄膜. 客户离子束溅射系统装置图如下图: 其中用于溅射的离子源为 20cm的 KRI 射频离子源 RFICP220, 辅助离子源为12cm的KRI 射频离子源 RFICP140.伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:离子源型号RFICP220DischargeRFICP 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量10-40 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量伯东 KRI 射频离子源 RFICP140 技术参数:型号RFICP140DischargeRFICP 射频离子束流>600 mA离子动能100-1200 V栅极直径14 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量5-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度24.6 cm直径24.6 cm中和器LFN 2000 工艺简介:离子源工作气体为Xe气, NF3作为辅助气体反应溅射, 靶材为金属Gd靶.KRI 射频离子源 RFICP220 主要是用于产生高能Xe离子束轰击靶材, 通过动量传递使靶材原子获得足够的动能而脱离靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉积而形成一层薄膜; 另一个辅助离子源（KRI 射频离子源 RFICP140）通入NF3, 通过对生长中的薄膜的轰击, 使得薄膜进一步致密, 同时改善薄膜的化学性能. 运行结果:KRI 考夫曼射频离子源辅助溅射制备GdF3光学薄膜具有极高的透过率和良好的抗激光损伤能力, 而且膜厚均匀性良好.  伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

国内知名光学镜头制造商使用 KRI 射频离子源 RFICP325 成功镀膜于塑料基板并且通过 1,500 小时高温高湿严苛环境测试 （80C/80%湿度、85C/95%湿度）. 多数的光学镜头制造公司极力转型于塑料基材的光学镜头组件以争取智能型手机镜头, 车用镜头, VR 虚拟现实镜头等等...广大的市场.但都面对了在镀膜时制程问题, 例如:脱膜、光谱的不稳定、均匀性不佳及无法在于大型蒸镀机稳定的大量生产...等等问题. 伯东与美国 KRI 公司专力于射频离子源 RFICP325 开发, 利用高均匀性的离子分布及高稳定的离子能量搭配于 1米7 的大型蒸镀设备, 镀膜材料: 高折射率材料 Ti2O5(氧化钛）、低折射率材料 SiO2(氧化硅）成功应用于塑料光学镀膜应用上, 已通过严苛的 1,500 小时高温高湿的环境测试.此突破性的发展解决了在塑料基材镜头上无法达到高质量镀膜要求, 同时也提升了高生产效能. 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王小姐T: +86-21-5046-1322                      T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

上海某大学研究中心采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380  辅助制备三维原子探针样品, 主要是对三维原子探针样品进行蚀刻, 使样品变薄 伯东 KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:射频离子源型号RFICP380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000 运行结果:1. 采用 KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380可以克服锆合金脆断的问题2. 制备得到的样品满足了三维原子探针观察样品的要求3. 可实现三维原子探针样品的快速, 便捷, 高效制备 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!