伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 在磁控溅射玻璃镀膜中的应用

上海伯东

2021/08/12 10:53

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使用平面磁控溅射阴极进行反应性溅射时的”靶中毒”和”阳极消失”, 这两问题一直是玻璃镀膜行业的难题.

某国内玻璃制造商采用 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP380 离子清洗技术清除沉积在靶面和阳极表面的反应产物, 如氧化物, 从而保持靶和阳极表面导电性, 避免发生”靶中毒”和”阳极消失”现象.

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 技术参数：

射频离子源型号	RFICP 380
Discharge 阳极	射频 RFICP
离子束流	>1500 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	30 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
长度	39 cm
直径	59 cm
中和器	LFN 2000

推荐理由：

1. 使用 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP 380 可以准确、灵活地对样品选定的区域进行清洗

2. 功率大, 离子束流高, 满足客户工艺要求

3. 清洗速率快

工作原理:

在真空室充入 100sccm 的氩气, 利用 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP380 把氩气电离, 形成离子体, 利用氩离子撞击靶面, 从靶面上撞出锡原子或氧化锡分子, 完成对锡靶的清洁. 撞击出来的锡原子撞击阳极表面, 清除吸附阳极表面与表层铟结合力不强的部分氧化锡分子, 完成对阳极表面的清洗.

其清洗实施工作图如下:

一次清洗大约用时15s, 前5秒主要清洁靶面, 后10秒清洁阳极表面.

运行结果：

有效的清洁阴极靶面和阳极表面, 保持阴极靶面和阳极表面良好的导电性, 避免发生”靶中毒”和”阳极消失”现象

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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