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热ALD设备 AL-1无针孔薄膜沉积
AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂，仅利用表面反应沉积薄膜，实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量级。此外，可以在高宽比的孔内壁上沉积覆盖性好、厚度均匀的薄膜。可同时沉积3片ø4英寸的晶片。
成膜效率高
通过提供几十毫秒量级的脉冲，减少了原材料的损耗，提高了沉积效率。
真空清洁，温度不均匀性小
通过紧贴反应室内壁的内壁加热器，抑制反应室的温度不均匀，可获得清洁的真空。
无针孔成膜
由于多种前驱体在反应室中没有混合，因此可以防止颗粒，形成无针孔的薄膜。
用于下一代功率器件的栅极氧化膜和钝化膜。
在3D结构上形成均匀的薄膜，如MEMS。
激光表面的沉积
碳纳米管的钝化膜
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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